公开(公告)号：WO2019048191A1

公开(公告)日：2019-03-14

申请号：PCT/EP2018/071944

申请日：2018-08-13

申请人： CARL ZEISS SMT GMBH

发明人： DEUFEL, Peter ,  XALTER, Stefan ,  KULITZKI, Viktor

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B17/06

CPC分类号： G03F7/7025 ,  G02B5/005 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/003 ,  G02B27/108 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70825

摘要： Offenbart wird ein optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit einem ersten Spiegel (202), einem zweiten Spiegel (206), der einen Strahlengang (204) zusammen mit dem ersten Spiegel (202) definiert und ferner einen Durchbruch (208) aufweist, wobei das optische System (200) dazu eingerichtet ist, dass Arbeitslicht (210) durch den Durchbruch (208) auf den ersten Spiegel (202) fällt, wobei Arbeitslicht (210) von dem ersten Spiegel (202) auf den zweiten Spiegel (206) und von dem zweiten Spiegel (206) zu einem Zielobjekt (212) reflektierbar ist, einer Obskurationsblende (222), welche innerhalb des Strahlengangs (204) zwischen dem ersten Spiegel (202) und dem zweiten Spiegel (206) angeordnet ist, und einer Aperturblende (224), welche ein erstes Aperturblendensegment (226) und ein zweites Aperturblendensegment (228) aufweist, wobei das erste Aperturblendensegment (226) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) reflektierbar ist, und das zweite Aperturblendensegment (228) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem zweiten Spiegel (206) zu dem Zielobjekt (212) reflektierbar ist, abzuschatten, wobei das erste Aperturblendensegment (226) und das zweite Aperturblendensegment (228) in Richtung (R1) von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) beabstandet voneinander sind.

公开(公告)号：WO2019042946A1

公开(公告)日：2019-03-07

申请号：PCT/EP2018/073044

申请日：2018-08-27

申请人： ROBERT BOSCH GMBH

发明人： MIKHAYLOV, Dmitriy ,  GAUCH, Roland ,  GRAF, Tobias

IPC分类号： B23K26/067

CPC分类号： B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/073 ,  G02B27/0944 ,  G02B27/0977 ,  G02B27/108 ,  G02B27/30

摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Formung von kohärenter Strahlung einer Laserquelle zur Materialbearbeitung mittels zumindest einem diffraktiven Strahlformer. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass zumindest eine erste und eine zweite Laserquelle zur Erzeugung eines Intensitätsmusters im Fernfeld vorgesehen sind, wobei die erste und die zweite Laserquelle zueinander inkohärent sind. Die erfindungsgemäße Vorrichtung ermöglicht die Erzeugung von Intensitätsmustern mit Strukturgrößen, die kleiner sind als dies dem doppelten des Divergenzwinkels der Laserquelle entspricht.

公开(公告)号：WO2019040317A1

公开(公告)日：2019-02-28

申请号：PCT/US2018/046629

申请日：2018-08-14

申请人： FARO TECHNOLOGIES, INC.

发明人： KAUFMAN, Steven Paul ,  METTINEN, Kari J. ,  MOHAZZAB, Masoud ,  SAVIKOVSKY, Arkady ,  STAVE, Joel H.

IPC分类号： G01S17/42 ,  G01S17/66 ,  G01S17/89 ,  G01S7/48 ,  G01S7/481 ,  G01S7/491 ,  G01C15/00

CPC分类号： G01S7/4814 ,  G01C15/002 ,  G01S7/4817 ,  G01S7/4868 ,  G01S17/105 ,  G01S17/42 ,  G01S17/89 ,  G02B27/108 ,  G02F1/113 ,  G02F2201/02 ,  G02F2201/34

摘要： A laser radar projection system is provided. The system includes a laser projector that projects a light beam. A beam splitter is arranged to receive the light beam from the projector and divides the light beam into a signal light beam and a reference light beam. A steering system changes the direction of the signal light beam and scans the light beam over at least a portion of the surface. An optical signal detector is arranged to receive a feedback light beam and the reference light beam. The optical signal detector generates a feedback signal in response to the feedback light beam and a reference signal in response to the reference light beam. One or more processors determine the distance to one or more points on the at least a portion of the surface based at least in part on the feedback signal and the reference signal.

公开(公告)号：WO2018070938A1

公开(公告)日：2018-04-19

申请号：PCT/SG2017/050512

申请日：2017-10-12

申请人： LIFE TECHNOLOGIES HOLDINGS PTE LIMITED

发明人： CHEN, Mingsong ,  SHI, Benyong ,  TOH, Tiong Han ,  YEO, Steven

IPC分类号： G02B21/06 ,  G02B21/36 ,  G01N21/64

CPC分类号： G02B27/14 ,  G01N21/253 ,  G01N21/6452 ,  G01N21/6456 ,  G01N21/76 ,  G02B6/04 ,  G02B17/02 ,  G02B21/06 ,  G02B21/362 ,  G02B26/0816 ,  G02B27/1066 ,  G02B27/108 ,  G02B27/16

摘要： An illumination system includes a surface configured to have an imaging target placed thereon, a light source, a beam splitter and at least a first mirror. The beam splitter is configured to split the beam of light from the light source and the first mirror is configured to reflect a first beam from the beam splitter onto the surface with the imaging target. An imaging system includes an imaging surface configured to have an imaging target placed thereon, a mirror, and a capturing device. The capturing device is configured to capture an image of the imaging target through a path of emitted light that extends from the imaging target, reflects off of the mirror, and to the capturing device. The mirror, the capturing device, or both are configured to move in a diagonal direction with respect to the imaging surface to reduce a length of the path of emitted light. Systems and methods to calibrate an imaging system to remove or reduce non-uniformities within images of samples due to imaging system properties.

摘要翻译： 照明系统包括被配置为具有放置在其上的成像目标的表面，光源，分束器和至少第一反射镜。 分束器被配置为分离来自光源的光束，并且第一反射镜被配置为将来自分束器的第一光束反射到具有成像目标的表面上。 成像系统包括被配置成具有放置在其上的成像目标的成像表面，镜子和捕捉装置。 捕捉设备被配置为通过从成像目标延伸的发射光的路径捕捉成像目标的图像，从镜子反射并捕捉到捕捉设备。 镜子，捕捉设备或两者被配置成相对于成像表面沿对角方向移动以减小发射光路径的长度。 校准成像系统以消除或减少由于成像系统特性导致的样品图像内的不均匀性的系统和方法。

公开(公告)号：WO2018007101A1

公开(公告)日：2018-01-11

申请号：PCT/EP2017/064213

申请日：2017-06-12

申请人： SIEMENS HEALTHCARE GMBH

发明人： SCHICK, Anton ,  HAYDEN, Oliver ,  SCHMIDT, Oliver

IPC分类号： G03H1/04 ,  G01B9/021 ,  G01B9/02 ,  G01N21/45 ,  G02B21/36 ,  G02B21/00 ,  G01B9/04 ,  G03H1/00

CPC分类号： G01B9/04 ,  G01B9/02001 ,  G01B9/02034 ,  G02B21/0056 ,  G02B21/361 ,  G02B27/108 ,  G03H1/0443 ,  G03H1/0493 ,  G03H2001/005 ,  G03H2001/0445

摘要： An interfere) metric microscopy arrangement (1) is presented having an objective lens (20) that receives a light beam (9) emerging after sample interaction, wherefrom the light beam (9) is received by a beam splitter unit (30), positioned at a focal length (22) of the objective lens (20), the beam splitter unit (30) having a transparent substrate (32) and a point-like beam-splitting layer (34) that splits a part of the light beam (9) into a spatially filtered reference beam (40) and an object beam (50). Thereafter, a reference beam tube lens (60) and an object beam tube lens (70) receive the reference (40) and the object (50) beams, respectively. A beam combiner unit (80) having a transparent substrate (82) and a beam-combining layer (84) receives the reference (40) and the object (50) beams from the reference (60) and the object (70) beam tube lenses, respectively, and combines the reference (40) and the object (50) beams to form pattern-generating beam (99) directed towards the optical detector (90) to form an interference pattern thereon.

摘要翻译： 提供具有物镜（20）的干涉）度量显微镜装置（1），所述物镜（20）接收在样品相互作用之后出现的光束（9），其中光束（9） （30），所述分束器单元（30）具有透明衬底（32）和点状分束层（34），所述点分束器单元（30）位于所述物镜（20）的焦距（22） 将光束（9）的一部分分成空间滤波的参考光束（40）和物体光束（50）。 之后，参考光束管透镜（60）和物镜光管透镜（70）分别接收参考光束（40）和物体（50）光束。 具有透明衬底（82）和光束组合层（84）的光束组合器单元（80）接收来自参考（60）和物体（70）光束管的参考物体（40）和物体（50） （40）和物体（50）光束组合以形成指向光学检测器（90）的图案生成光束（99）以在其上形成干涉图案。

公开(公告)号：WO2017158849A1

公开(公告)日：2017-09-21

申请号：PCT/JP2016/058871

申请日：2016-03-18

申请人： ギガフォトン株式会社

发明人： 阿部　徹

IPC分类号： H01S3/00 ,  H01S3/101

CPC分类号： H01S3/101 ,  G02B27/1013 ,  G02B27/108 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2316 ,  H01S3/235 ,  H05G2/008

摘要： 　バースト動作によってレーザ光を出射する光源と、レーザ光の断面画像を一定期間かけて一定周期毎に取得する光センサと、光センサから出力される断面画像にかかる画像信号を入力してレーザ光にかかるビーム関連情報を出力する画像処理部と、レーザ光の進行方向を調節するビーム進行方向調節部と、光センサが断面画像を取得する期間の少なくとも一部と光源からレーザ光が出射する期間とが重なる場合に、ビーム関連情報に基づいてビーム進行方向調節部を制御するコントローラと、を備えてもよい。

摘要翻译：

，根据从光学传感器输出的横截面图像的图像为通过脉冲串操作中，以固定的间隔在预定的时间段中获取的激光的截面图像的光学传感器发射激光的光源 根据输入信号到所述激光束输出光束有关的信息的图像处理部，所述光束行进方向调整单元，用于调整所述激光束的行进方向，在至少一部分的光源期间所述光学传感器获取的横截面图像 以及控制器，当激光束从光束行进方向调节器出射的时段彼此重叠时，基于光束相关信息控制光束行进方向调节器。

公开(公告)号：WO2016200802A1

公开(公告)日：2016-12-15

申请号：PCT/US2016/036202

申请日：2016-06-07

申请人： TINTOMETER GMBH ,  PALUMBO, Perry

发明人： PALUMBO, Perry

IPC分类号： G02B5/04 ,  G02B13/08 ,  G02B13/10 ,  G02B6/32

CPC分类号： B01D19/0042 ,  G01J1/0477 ,  G01J1/4257 ,  G01N15/06 ,  G01N21/534 ,  G02B5/005 ,  G02B5/04 ,  G02B6/32 ,  G02B13/08 ,  G02B13/10 ,  G02B27/108

摘要： Embodiments of the present invention include a backscatter reductant anamorphic beam sampler. The beam sampler can be implemented to measure a power of a reference beam generated by an electromagnetic radiation source in proportion to a power of a working beam. The beam sampler can provide astigmatic correction to a divergence of the working beam along one axis orthogonal to a direction of propagation. The beam sampler can further be implemented to prevent backscatter from impinging upon a photodetector of the beam sampler resulting in a reduction of error and instability in measurements taken by the beam sampler.

摘要翻译： 本发明的实施例包括反向散射还原剂变形光束取样器。 光束采样器可以被实现为测量由电磁辐射源产生的与工作光束的功率成比例的参考光束的光焦度。 光束采样器可以沿着与传播方向正交的一个轴向工作光束的发散提供散光校正。 光束取样器还可以被实现以防止反向散射撞击光束采样器的光电检测器，从而导致由光束采样器进行的测量中的误差和不稳定性的降低。

公开(公告)号：WO2015009341A1

公开(公告)日：2015-01-22

申请号：PCT/US2014/035723

申请日：2014-04-28

申请人： THE BOEING COMPANY

发明人： WILCKEN, Stephen K.

IPC分类号： H04B10/11 ,  G02B23/04

CPC分类号： G02B27/108 ,  G02B3/00 ,  G02B17/0804 ,  G02B23/04 ,  G02B23/06 ,  H04B10/11

摘要： A method includes generating a primary beam using light emitted by a light-source. The method includes generating a secondary beam using a portion of the light using a lens of a telescope. The lens includes one or more refraction elements positioned on a first surface of the lens, and the secondary beam is generated by diverting the portion of the light using the one or more refraction elements.

摘要翻译： 一种方法包括使用由光源发射的光产生一次束。 该方法包括使用望远镜的透镜的一部分光产生次光束。 透镜包括位于透镜的第一表面上的一个或多个折射元件，并且通过使用一个或多个折射元件转移光的一部分来产生次光束。

公开(公告)号：WO2014036628A1

公开(公告)日：2014-03-13

申请号：PCT/CA2012/050626

申请日：2012-09-10

申请人： HER MAJESTY THE QUEEN IN RIGHT OF CANADA AS REPRESENTED BY THE MINISTER OF THE DEPARTMENT OF NATIONAL DEFENCE ,  THÉBERGE, Francis ,  DUBOIS, Jacques ,  CHÂTEAUNEUF, Marc

发明人： THÉBERGE, Francis ,  DUBOIS, Jacques ,  CHÂTEAUNEUF, Marc

IPC分类号： G02B23/02 ,  G01S7/481 ,  H02J17/00

CPC分类号： G02B23/02 ,  G01S7/4815 ,  G01S17/88 ,  G02B17/0621 ,  G02B17/0694 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B23/06 ,  G02B26/06 ,  G02B27/108 ,  H02J17/00 ,  H02J50/30

摘要： The present invention provides a reflective telescopic system, to control the generation of filamentation of ultrashort and intense laser pulses that includes: a flat mirror, an adaptive reflective mirror, a dichroic convex mirror, an off-axis parabolic mirror, and a first laser source. The convex mirror and the adaptive reflective mirror are mounted on an independent breadboard and set on a translation stage. The propagation axis of the laser beam reflected by the mirror should correspond to the off-axis of the parabolic mirror. The parabolic mirror reflects the beam at a specific angle. Finally, the propagation axis between the dichroic convex mirror and the off-axis parabolic mirror, the propagation axis between the flat mirror and the adaptive reflective mirror, and the axis of the translation stage should be substantially parallel to each other. The present invention also contemplates the boresighting of a weak laser beam from a second laser source.

摘要翻译： 本发明提供了一种反射伸缩系统，用于控制超短激光脉冲的发光，其包括：平面镜，自适应反射镜，二向色凸面镜，离轴抛物面镜和第一激光源 。 凸面镜和自适应反射镜安装在独立的面包板上并设置在平移台上。 由反射镜反射的激光束的传播轴线应对应于抛物面镜的离轴。 抛物面镜以特定角度反射光束。 最后，二向色凸镜和离轴抛物面镜之间的传播轴，平面镜和自适应反射镜之间的传播轴以及平移台的轴线应该基本上彼此平行。 本发明还考虑了来自第二激光源的弱激光束的前视。

公开(公告)号：WO2007014773A1

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：PCT/EP2006/007662

申请日：2006-08-02

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH ,  HERKOMMER, Alois ,  WEIGL, Bernhard ,  MUENZ, Holger

发明人： HERKOMMER, Alois ,  WEIGL, Bernhard ,  MUENZ, Holger

IPC分类号： G02B26/02

CPC分类号： G02B27/145 ,  G01J1/0411 ,  G01J1/0418 ,  G01J1/0477 ,  G01J1/4257 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0938 ,  G02B27/0972 ,  G02B27/108 ,  G02B27/144

摘要： An optical system for attenuating and imaging an optical beam for a subsequent intensity measurement of said optical beam comprises an input aperture for the optical beam, a collimating optical element for collimating the optical beam propagating divergently from the input aperture, an attenuating optical arrangement for attenuating the intensity of the optical beam propagating from the collimating optical element, the attenuating optical arrangement being arranged to modify the optical beam such that a beam portion with an intensity lower than the intensity of the optical beam is generated, the attenuating optical arrangement being insensitive to a polarization state of the optical beam, and a detector for measuring the intensity of the beam portion propagating from the attenuating optical arrangement.

摘要翻译： 用于衰减和成像光束以用于所述光束的后续强度测量的光学系统包括用于光束的输入孔，用于准直从输入孔分散传播的光束的准直光学元件，用于衰减的衰减光学装置 从准直光学元件传播的光束的强度，衰减光学装置被布置成修改光束，使得产生具有低于光束强度的光束部分，衰减光学装置对 光束的偏振态，以及用于测量从衰减光学装置传播的光束部分的强度的检测器。