Abstract:
Die Anmeldung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Kontaktierung für ein gehäustes Funktionselement, mit folgenden Schritten: Bereitstellen eines mit einer Ausnehmung (10-2) versehenen Kunststoffsubstrats (10c), wobei in der Ausnehmung (10-2) des Kunststoffsubstrats (10c) das Funktionselement (12) platziert ist; und zumindest teilweises Umgeben des in der Ausnehmung (10-2) platzierten Funktionselements mit einem Vergusskunststoffmaterial (10d), um das in dem Kunststoffkörper zumindest teilweise eingebettete Funktionselement (12) zu erhalten, wobei in dem auf- oder eingebrachten Vergusskunststoffmaterial zumindest in einem Randbereich, der sich von der Oberfläche des Kunststoffkörpers (10) bis zu der zumindest einen Kontaktfläche (14, 16) erstreckt, ferner eine unter Einfluss elektromagnetischer Strahlung eine metallische Eigenschaft annehmende Materialkomponente vorhanden ist; Freilegen von zumindest einem Teilbereich der zumindest einen Kontaktfläche durch das Material des Kunststoffkörpers (10) hindurch; und Erzeugen einer Leiterbahnstruktur (26, 28), die sich von der zumindest einen Kontaktfläche des Funktionselements (12) zu einem zugeordneten Kontaktbereich (26-1) an der Oberfläche (10-1) des Kunststoffkörpers (10) erstreckt, durch lokales elektromagnetisches Bestrahlen der Oberfläche des mit der Materialkomponente versehenen Kunststoffkörpers im Bereich der zu erzeugenden Leiterbahnstruktur (26, 28).
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Waferstapels mit einer Vielzahl von mikrooptoelektronischen Bauelementen (100 - 400; 700) beschrieben, das die folgenden Schritte aufweist: Bereitstellen (1110) eines ersten Wafers, der ein Halbleitermaterial aufweist; Bereitstellen (1120) eines zweiten Wafers, der ein optisch transparentes Material aufweist; Erzeugen (1130) einer Vielzahl von Lichtsensoranordnungen (4A - 4C) in dem Halbleitermaterial (3a) des ersten Wafers (3) für jedes der herzustellenden mikrooptischen Bauelemente (100 - 400; 700); Strukturieren (1140) des zweiten Wafers (2) derart, dass darin für jedes der herzustellenden mikrooptoelektronischen Bauelemente eine Vielzahl von mikrooptischen Elementen (1A - 1C; 1A' - 1C) gebildet ist; und Erzeugen (1150) eines Waferstapels (100 - 400; 700) mittels Waf erbonding, der den ersten Wafer (3, 3') und den darüber angeordneten zweiten Wafer (2) aufweist, wobei jedes der mikrooptischen Elemente derart angeordnet und optisch strukturiert ist, dass unterschiedliche Anteile (9A - 9C, 10A - 10C) des auf das mikrooptische Element einfallenden Lichts auf unterschiedliche Lichtsensorelemente (4a - 4e) einer unter diesem mikrooptischen Element zumindest teilweise angeordneten Lichtsensoranordnung (4A - 4C) gelenkt werden; und Vereinzeln (1190) des Waferstapels, um die Vielzahl von mikrooptoelektronischen Bauelementen (100 - 400; 700) zu erzeugen.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine elektronische, insbesondere mikroelektronische, Funktionsgruppe und ein Verfahren zu deren Herstellung. Das erfindungsgemäße Verfahren enthält die Schritte: a) Beschichten eines Trägers (5a) mit einem nicht leitenden Klebstoffs (4a); b) Aufbringen einer Leiterstruktur (3) auf einen Teilbereich der Klebstoffschicht (4a); c) Anordnen eines elektronischen Bauteils (1) mit zumindest einen außen liegenden elektrischen Anschlusskontakt (2) auf der Klebstoffschicht (4a) und auf der Leiterstruktur (3), wobei der mindestens eine Anschlusskontakt (2) des elektronischen Bauteils (1) mit der Leiterstruktur (3) unmittelbar in Kontakt gebracht wird und ein Teil der Außenhülle des Bauteils (1) mit der Klebstoffschicht (4a) unmittelbar in Kontakt gebracht wird. Das erfindungsgemäße Verfahren erlaubt eine schonende, schnelle und insbesondere kostengünstige Herstellung von elektronischen, insbesondere mikroelektronischen, Funktionsgruppen.
Abstract:
Bei einem Mikrocontroller (12) mit zugeordneten Endstufen (14-1, 14-2) zur Ansteuerung von Komponenten wird eine Betriebsspannung überwacht. Im Falle einer Überspannung wird die Endstufe (14-1, 14-2) abgeschaltet. Es sind zwei technologiebedingt in verschiedenen Betriebsspannungsbereichen arbeitende Spannungsüberwachungseinrichtungen (22, 24) vorgesehen, durch deren Kombination einerseits eine sehr präzise Abschaltungsschwelle und andererseits ein großer Bereich für die zu überwachende Betriebsspannung erreicht werden kann. Die Endstufe (14-1, 14-2) kann damit im Fehlerfall einer Überspannung zuverlässig abgeschaltet werden.
Abstract:
Bei der Verwendung eines Mikrocontrollers (12) mit zugeordneten Endstufen zur Ansteuerung von Komponenten wird einer Endstufe (16) neben dem eigentlichen Steuersignal (S) auch ein digitales Freigabesignal (b, c, d) zugeführt, mittels welchem je nach Signalzustand eine Sperrung oder eine Freigabe der Endstufe (16) signalisiert wird. Im Falle eines Fehlers im Bereich des Mikrocontrollers (12) kann die Endstufe (16) damit abgeschaltet werden. Durch eine Modulation des Freigabesignals (b) und die Auswertung des zur Endstufe (16) hin geführten Freigabesignals (c) wird sichergestellt, dass ein Fehler im Bereich der Freigabesignalerzeugung und/oder Freigabesignalübertragung anhand des Ausbleibens der Modulation erkannt wird. Die Endstufe (16) kann damit im Fehlerfall sehr zuverlässig abgeschaltet werden.
Abstract:
Beschrieben wird ein Verfahren zum Strukturieren eines aus glasartigem Material bestehenden Flächensubstrats im Wege eines viskosen Fliessprozesses, bei dem das glasartige Flächensubstrat auf eine Oberfläche eines Flächensubstrats, vorzugsweise eines Halbleiterflächensubstrats, das wenigstens eine von einem in der Oberfläche liegenden Umfangsrand begrenzte Vertiefung besitzt, gefügt und im Wege eines darauf folgenden Temperprozesses in einen viskos fliessfähigen Zustand überführt wird, bei dem zumindest Anteile des fliessfähigen glasartigen Materials des Flächensubstrat über den Umfangsrand in die Vertiefung des Flächensubstrats fliessen. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass ein Flächensubstrat bereitgestellt wird, dessen wenigstens eine Vertiefung wenigstens eine Benetzungsfläche aufweist, die gegenüber der Oberfläche des Flächensubstrats abgesenkt ist und wenigstens teilweise von einem linienartigen Rand begrenzt ist, der zugleich ein Rand einer gegenüber der Benetzungsfläche abgesenkten innerhalb der Vertiefung vorgesehenen Grabenstruktur ist und/oder durch eine unstete Änderung einer der Benetzungsfläche zuordenbaren Benetzungseigenschaft für das fliessfähige glasartige Material bestimmt ist, dass während des Temperprozesses das fliesfähige glasartige Material mit der Benetzungsfläche derart in Kontakt gebracht wird, dass sich längs des linienartigen Randes eine Benetzungsfront ausbildet, und dass der Temperprozess unter Ausbildung einer sich zwischen der Benetzungsfront und dem Umfangsrand berührungslos zum Flächensubstrat erstreckenden Oberfläche des glasartigen Materials, die mit einem Teilbereich der Vertiefung eine Kavität einschliesst, beendet wird.
Abstract:
Die Erfindung beschreibt eine Halbleiteranordnung und Verfahren zur Herstellung derselben, wobei die HaIbleiteranordnung mit einer auf einem Substrat (1) angeordneten integrierten Schaltung (2) versehen ist, wobei die integrierte Schaltung (2) auf der Vorderseite des Substrats strukturiert ist und mindestens ein Kondensator (20) mit der integrierten Schaltung verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, dass der mindestens eine Kondensator auf der Rückseite des Substrats (1) als monolithische Tiefenstruktur in Gräben (3) ausgebildet ist. Die Gräben sind in mindestens einer ersten Gruppe und in mindestens einer zweiten Gruppe angeordnet, wobei die Gräben je einer Gruppe im Wesentlichen zueinander parallel laufen und die erste und zweite Gruppe zueinander quer, im Wesentlichen senkrecht stehen.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Schaltungsanordnung zum Testen von Funktionen und/oder von Algorithmen, die in elektronischen Schaltungen, insbesondere in digitalen Schaltungen implementiert sind, bei dem eine zu testende Schaltung in gegenüber einem normalen Betriebsmodus weitestgehend unveränderter Gatterverschaltung mit vorgebbaren Eingangssignalen beaufschlagt und die von der Schaltung gelieferten Ausgangssignale mit vorgegebenen Sollwerten verglichen werden, und bei dem bei einer Abweichung eines Ausgangssignals von einem Sollwert ein Fehler erkannt wird. Bei dem Verfahren ist vorgesehen, dass die Schaltung nach Erkennen eines Fehlers in einen stabilen Zustand versetzt wird.