摘要:
Provided are a semiconductor device including an interposer having a relatively thin thickness without a through silicon via and a method of manufacturing the same. The method of manufacturing a semiconductor device includes forming an interposer including a redistribution layer and a dielectric layer on a dummy substrate, connecting a semiconductor die to the redistribution layer facing an upper portion of the interposer, encapsulating the semiconductor die by using an encapsulation, removing the dummy substrate from the interposer, and connecting a bump to the redistribution layer facing a lower portion of the interposer.
摘要:
Disclosed is a die packaging structure comprising a semiconductor die, an encapsulant layer disposed around the semiconductor die, wherein a backside surface of the semiconductor die is exposed, and a conductive layer coupled to the semiconductor die, the conductive layer comprising a plurality of conductive pillar bumps, wherein a bump density of the plurality of conductive pillar bumps is greater than 5%, wherein the encapsulant layer is further disposed between the plurality of conductive bumps, and wherein the encapsulant layer is disposed between the plurality of conductive bumps using a mold underfill (MUF) process. A method of forming the same is also disclosed.
摘要:
Die Anmeldung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Kontaktierung für ein gehäustes Funktionselement, mit folgenden Schritten: Bereitstellen eines mit einer Ausnehmung (10-2) versehenen Kunststoffsubstrats (10c), wobei in der Ausnehmung (10-2) des Kunststoffsubstrats (10c) das Funktionselement (12) platziert ist; und zumindest teilweises Umgeben des in der Ausnehmung (10-2) platzierten Funktionselements mit einem Vergusskunststoffmaterial (10d), um das in dem Kunststoffkörper zumindest teilweise eingebettete Funktionselement (12) zu erhalten, wobei in dem auf- oder eingebrachten Vergusskunststoffmaterial zumindest in einem Randbereich, der sich von der Oberfläche des Kunststoffkörpers (10) bis zu der zumindest einen Kontaktfläche (14, 16) erstreckt, ferner eine unter Einfluss elektromagnetischer Strahlung eine metallische Eigenschaft annehmende Materialkomponente vorhanden ist; Freilegen von zumindest einem Teilbereich der zumindest einen Kontaktfläche durch das Material des Kunststoffkörpers (10) hindurch; und Erzeugen einer Leiterbahnstruktur (26, 28), die sich von der zumindest einen Kontaktfläche des Funktionselements (12) zu einem zugeordneten Kontaktbereich (26-1) an der Oberfläche (10-1) des Kunststoffkörpers (10) erstreckt, durch lokales elektromagnetisches Bestrahlen der Oberfläche des mit der Materialkomponente versehenen Kunststoffkörpers im Bereich der zu erzeugenden Leiterbahnstruktur (26, 28).