3層型半導体粒子
    2.
    发明申请
    3層型半導体粒子 审中-公开
    三层半导体颗粒

    公开(公告)号:WO2007145089A1

    公开(公告)日:2007-12-21

    申请号:PCT/JP2007/061180

    申请日:2007-06-01

    CPC classification number: C01G9/08 B82Y30/00 C01G11/00 C01P2004/64

    Abstract:  本発明の目的は、発光波長は変更せずに、従来のコア/シェル型のナノサイズの半導体粒子よりも大きく、取り扱いが容易で、発光領域が大きい分発光量も大きい3層型半導体粒子を提供することにあり、コア層と第1のシェル層、第2のシェル層を有し、前記コア層と前記第2のシェル層の間の第1のシェル層の厚さが2~10nmの範囲の3層型半導体粒子であり、上記第2のシェル層およびコア層を形成する物質のバンドギャップがいずれも、第1のシェル層を形成する半導体のバンドギャップよりも大きいことを特徴とする。

    Abstract translation: 提供比常规的核/壳型纳米尺寸半导体颗粒大的三层半导体颗粒,易于处理并且具有大的发光区域的发射量大,发射波长没有变化。 层半导体颗粒设置有芯层,第一壳层和第二壳层。 芯层和第二壳层之间的第一壳层的厚度在2-10nm的范围内。 形成第二壳层和芯层的材料的带隙都大于形成第一壳层的半导体的带隙。

    半導体ナノ粒子及びその製造方法
    4.
    发明申请
    半導体ナノ粒子及びその製造方法 审中-公开
    半导体纳米材料及其制造方法

    公开(公告)号:WO2007145088A1

    公开(公告)日:2007-12-21

    申请号:PCT/JP2007/061179

    申请日:2007-06-01

    CPC classification number: C01B33/18

    Abstract:  本発明は、発光波長は変更せずに、従来のコア/シェル型のナノサイズの半導体粒子よりも大きく、取り扱いが容易で、発光領域が大きい分、発光量も大きい半導体ナノ粒子及びその製造方法を提供する。この半導体ナノ粒子は、中心部に空洞部を有し、コア層とシェル層を有し、該コア層の厚さが2~10nmの半導体ナノ粒子において、該コア層と該シェル層がそれぞれ異なる半導体で形成されており、該シェル層を形成する半導体のバンドギャップが、該コア層を形成する結晶のバンドギャップより大きいことを特徴とする。

    Abstract translation: 提供比常规的核/壳型纳米尺寸半导体颗粒更大的半导体纳米颗粒,易于处理并且由于较大的发射面积具有大的发射量,而没有发射波长变化。 还提供了制造这种半导体纳米颗粒的方法。 半导体纳米颗粒在中心具有中空部分,并且具有芯层和壳层。 芯层的厚度为2-10nm。 芯层和壳层由不同类型的半导体形成,形成壳层的半导体的带隙大于形成芯层的晶体的带隙。

    ナノ半導体粒子およびその製造方法
    5.
    发明申请
    ナノ半導体粒子およびその製造方法 审中-公开
    半导体纳米材料及其生产工艺

    公开(公告)号:WO2007086279A1

    公开(公告)日:2007-08-02

    申请号:PCT/JP2007/050495

    申请日:2007-01-16

    CPC classification number: C01B33/023 B82Y30/00

    Abstract:  本発明は、二次凝集を抑制しつつ、結晶子のサイズを均一にすることと、高い結晶性とを同時に実現したナノ半導体粒子の製造方法を提供する。このナノ半導体粒子の製造方法は、(a工程)半導体原料からナノサイズの粒子群を発生させ、当該粒子群を気相中に分散させる工程と、(b工程)当該粒子群を、気相中で分散した状態を保持した状態で当該粒子に熱処理を施す工程と、(c工程)前記熱処理を施した粒子群を熱処理後直ちに、当該熱処理を施した粒子群の粒子表面を表面修飾する表面修飾剤の溶液で捕集する工程とを含むことを特徴とする。

    Abstract translation: 制造半导体纳米颗粒的方法,其实现均匀的微晶尺寸和高结晶度,其聚集被抑制。 该方法的特征在于包括从半导体原料产生纳米尺寸颗粒并将颗粒分散在气相中的步骤(a),在保持颗粒处于分散状态的同时热处理颗粒的步骤(b) 在气相中的步骤(c),并且用热处理后的热处理颗粒用用于改性颗粒表面的表面改性剂的溶液收集步骤(c)。

    蛍光体の製造方法及び蛍光体
    6.
    发明申请
    蛍光体の製造方法及び蛍光体 审中-公开
    生产磷和磷的方法

    公开(公告)号:WO2006109396A1

    公开(公告)日:2006-10-19

    申请号:PCT/JP2006/305108

    申请日:2006-03-15

    CPC classification number: C09K11/595

    Abstract:  本発明は、光学特性及び劣化特性の向上が図られた蛍光体の製造方法を提供するものであり、液相法によって得られた蛍光体の前駆体を、酸素含有雰囲気下で所定の温度によって焼成処理する第1焼成工程の後に、焼成処理後の蛍光体の前駆体を第1焼成工程における焼成温度以下の温度によって焼成処理する第2焼成工程とを具備する。

    Abstract translation: 公开了一种提高光学特性和劣化特性的荧光体的制造方法。 该方法包括第一烧制步骤,其中通过液相法获得的荧光体的前体在含氧气氛中在一定温度下烧制,以及随后的第二烧成步骤,其中将如此烧制的荧光体的前体在 在第一烧成工序中不高于烧成温度的温度。

    近赤外発光蛍光体ナノ粒子、その製造方法、及び生体物質標識剤
    10.
    发明申请
    近赤外発光蛍光体ナノ粒子、その製造方法、及び生体物質標識剤 审中-公开
    近红外发光磷光体纳米颗粒,其生产方法和标记生物物质的试剂

    公开(公告)号:WO2008152868A1

    公开(公告)日:2008-12-18

    申请号:PCT/JP2008/058629

    申请日:2008-05-09

    Abstract:  粒径が極微小でありながら、発光強度が高い近赤外発光蛍光体ナノ粒子、その製造方法、及び該近赤外発光蛍光体ナノ粒子を用いた生体物質標識剤を提供することが目的であり、該近赤外発光蛍光体ナノ粒子は、平均粒径が2~50nmであり、且つ700~900nmの赤外光により励起され、700~2000nmの範囲に発光を示し、その組成は下記一般式(a)で表されることを特徴とする。  一般式(a) AB 1-x-y Nd x Yb y P 4 O 12 (式中、AはLi、Na、K、Rb、Csから選ばれる少なくとも1種、BはSc、Y、La、Ce、Gd、Lu、Ga、Inから選ばれる少なくとも1種であって、0.05≦x≦0.999、0.001≦y≦0.950、x+y≦1.0である。)

    Abstract translation: 公开了具有高发光强度,同时具有非常小的粒径的近红外发光荧光体纳米颗粒。 还公开了用于制造这种近红外发光荧光体纳米颗粒的方法,以及使用这种近红外发光荧光体纳米颗粒来标记生物物质的试剂。 近红外发光荧光体纳米颗粒的特征在于平均粒径为2-50nm,当通过700-900nm的红外光激发时,发射光在700-2000nm的范围内。 该近红外发光荧光体纳米粒子的特征还在于具有以下通式(a)表示的组成。 通式(a):AB1-x-yNdxYbyP4O12(式中,A表示选自Li,Na,K,Rb和Cs中的至少一种元素; B表示选自Sc,Y,La,Ce, Gd,Lu,Ga和In; x和y满足以下关系:0.05 = x = 0.999,0.001 = y = 0.950,x + y = 1.0。

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