VERTICAL GROUP III-V NANOWIRES ON SI, HETEROSTRUCTURES, FLEXIBLE ARRAYS AND FABRICATION
    3.
    发明申请
    VERTICAL GROUP III-V NANOWIRES ON SI, HETEROSTRUCTURES, FLEXIBLE ARRAYS AND FABRICATION 审中-公开
    SI上的垂直III-V族纳米结构,异质结构,柔性阵列和制造

    公开(公告)号:WO2010062644A2

    公开(公告)日:2010-06-03

    申请号:PCT/US2009/062356

    申请日:2009-10-28

    Abstract: Embodiments of the invention provide a method for direct heteroepitaxial growth of vertical III-V semiconductor nanowires on a silicon substrate. The silicon substrate is etched to substantially completely remove native oxide. It is promptly placed in a reaction chamber. The substrate is heated and maintained at a growth temperature. Group III-V precursors are flowed for a growth time. Preferred embodiment vertical Group III-V nanowires on silicon have a core-shell structure, which provides a radial homojunction or heterojunction. A doped nanowire core is surrounded by a shell with complementary doping. Such can provide high optical absorption due to the long optical path in the axial direction of the vertical nanowires, while reducing considerably the distance over which carriers must diffuse before being collected in the radial direction. Alloy composition can also be varied. Radial and axial homojunctions and heterojunctions can be realized. Embodiments provide for flexible Group III-V nanowire structures. An array of Group III-V nanowire structures is embedded in polymer. A fabrication method forms the vertical nanowires on a substrate, e.g., a silicon substrate. Preferably, the nanowires are formed by the preferred methods for fabrication of Group III-V nanowires on silicon. Devices can be formed with core/shell and core/multi-shell nanowires and the devices are released from the substrate upon which the nanowires were formed to create a flexible structure that includes an array of vertical nanowires embedded in polymer.

    Abstract translation: 本发明的实施例提供了一种用于在硅衬底上直接异质外延生长垂直III-V半导体纳米线的方法。 蚀刻硅衬底以基本上完​​全去除自然氧化物。 它被迅速放入反应室。 衬底被加热并保持在生长温度。 III-V族前体流动一段时间。 硅上的优选实施例垂直III-V族纳米线具有提供径向同质结或异质结的核 - 壳结构。 掺杂的纳米线核心被具有互补掺杂的壳体包围。 由于垂直纳米线的轴向方向上的长光路,这可以提供高光吸收,同时显着减小载流子在沿径向方向收集之前必须扩散的距离。 合金成分也可以变化。 可以实现径向和轴向同质结和异质结。 实施例提供柔性的III-V族纳米线结构。 一组III-V纳米线结构嵌入聚合物中。 制造方法在衬底(例如硅衬底)上形成垂直纳米线。 优选地,纳米线由用于在硅上制造III-V族纳米线的优选方法形成。 器件可以由核/壳和核/多壳纳米线形成,并且器件从其上形成纳米线的衬底释放,以创建包括嵌入聚合物中的垂直纳米线阵列的柔性结构。

    半導体ナノ粒子含有硬化性組成物、硬化物、光学材料および電子材料
    8.
    发明申请
    半導体ナノ粒子含有硬化性組成物、硬化物、光学材料および電子材料 审中-公开
    含有半导体纳米粒子,固化产品,光学材料和电子材料的可固化组合物

    公开(公告)号:WO2016088646A1

    公开(公告)日:2016-06-09

    申请号:PCT/JP2015/083246

    申请日:2015-11-26

    Abstract:  発光体である半導体ナノ粒子を含み、半導体ナノ粒子の分散性が良好であり、低粘度で優れた成形性を有する半導体ナノ粒子含有硬化性組成物を提供する。トリシクロデカン構造を有する単官能の(メタ)アクリレート化合物(a)と、2つ以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物(b1)および下記式(1)で表される化合物(b2)から選ばれる少なくとも1種の化合物(b)と、重合開始剤(c)と、発光体である半導体ナノ粒子(d)とを含む半導体ナノ粒子含有硬化性組成物。H 2 C=C(R 1 )-CH 2 -O-CH 2 -C(R 2 )=CH 2 (1)(式(1)中、R 1 およびR 2 は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、またはエステル結合を有する炭素数4~10の有機基を表す。)

    Abstract translation: 本发明提供含有半导体纳米粒子的固化性组合物,其含有分散性好,粘度低,成型性优异的发光半导体纳米粒子。 一种包含半导体纳米颗粒的可固化组合物,其包含:具有三环癸烷结构的单官能(甲基)丙烯酸酯化合物(a) 至少一种选自具有两个以上(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物(b1)和式(1)所示的化合物(b2))的化合物(b) 聚合引发剂(c); 和发光半导体纳米粒子(d)。 H 2 C = C(R 1)-CH 2 -O-CH 2 -C(R 2)= CH 2(1)(式(1)中,R 1和R 2各自独立地表示氢原子, 具有酯键和4-10个碳原子的有机基团)

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