DISPOSITIF MATRICIEL DE DETECTION INCORPORANT UN MAILLAGE METALLIQUE DANS UNE COUCHE DE DETECTION ET PROCEDE DE FABRICATION
    1.
    发明申请
    DISPOSITIF MATRICIEL DE DETECTION INCORPORANT UN MAILLAGE METALLIQUE DANS UNE COUCHE DE DETECTION ET PROCEDE DE FABRICATION 审中-公开
    在检测层中并入金属网的矩阵检测装置及制造方法

    公开(公告)号:WO2015169623A1

    公开(公告)日:2015-11-12

    申请号:PCT/EP2015/058941

    申请日:2015-04-24

    CPC classification number: H01L27/308 H01L27/307

    Abstract: L'invention a aussi pour objet un dispositif matriciel de détection comportant un empilement comprenant une matrice de pixels d'éléments de détection, une matrice active comprenant un réseau de lignes et de colonnes de commande (20) desdits pixels réalisé à la surface d'un substrat (10), caractérisé en ce que : - les pixels d'éléments de détection comprennent : - une électrode supérieure commune (60); - une couche de détection (50); - des électrodes inférieures discrètes (40); - ledit dispositif comprenant un maillage métallique : - relié à ladite électrode supérieure; - comportant des plots (80) présentant au moins une partie métallique, lesdits plots étant incorporés dans ladite couche de détection; - positionné en correspondance avec ledit réseau de lignes et de colonnes de commande. L'invention a aussi pour objet un procédé de fabrication du dispositif matriciel de détection de l'invention.

    Abstract translation: 本发明涉及一种矩阵检测装置,其包括:包括检测元件像素矩阵的堆叠;有源矩阵,其包括在基板(10)的表面上产生的用于控制所述像素的行和列的网络(20) 其特征在于,所述检测元件像素包括:公共上电极(60); 检测层(50); 和下分立电极(40)。 所述装置包括:金属网,其连接到所述上电极; 包括具有至少一个金属部分的接触焊盘(80),所述接触焊盘被结合在所述检测层中; 定位成连接到控制行和列的所述网络。 本发明还涉及根据本发明的用于制造矩阵检测装置的方法。

    PROCEDE DE FABRICATION D'UNE MONOCOUCHE AUTOASSEMBLEE D'INJECTION
    2.
    发明申请
    PROCEDE DE FABRICATION D'UNE MONOCOUCHE AUTOASSEMBLEE D'INJECTION 审中-公开
    一种自组装注射单体的制造方法

    公开(公告)号:WO2012104809A1

    公开(公告)日:2012-08-09

    申请号:PCT/IB2012/050491

    申请日:2012-02-02

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'une monocouche autoassemblée (SAM) d'injection comprenant des molécules comprenant un groupement terminal thiol, à la surface d'un support en métal. Le procédé de fabrication de l'invention comprend les étapes suivantes : a) dépôt de la SAM de molécules voulues sur une zone en relief d'un tampon, et b) transfert de la SAM, sur la surface du support, par pressage à chaud de la zone en relief du tampon obtenu à l'étape a). L'invention trouve application dans le domaine de l'électronique, en particulier.

    Abstract translation: 本发明涉及一种在金属支撑构件的表面上制造自组装注射单层(SAM)的方法,该SAM包含具有硫醇端基的分子。 本发明的制造方法包括以下步骤:a)将所需分子的SAM沉积在缓冲液缓冲区中; 和b)通过对在步骤a)中获得的缓冲区进行热压,将SAM转移到支撑构件的表面上。 本发明特别适用于电子领域。

    DISPOSITIF D'INTERFACE UTILISATEUR A ELECTRODES TRANSPARENTES
    3.
    发明申请
    DISPOSITIF D'INTERFACE UTILISATEUR A ELECTRODES TRANSPARENTES 审中-公开
    具有透明电极的用户界面装置

    公开(公告)号:WO2013153327A1

    公开(公告)日:2013-10-17

    申请号:PCT/FR2013/050777

    申请日:2013-04-10

    CPC classification number: G06F3/042 G06F2203/04105

    Abstract: L'invention concerne un dispositif d'interface (50) comprenant une matrice de pixels (12) et un substrat (16) isolant et transparent, les pixels étant reliés au substrat par des éléments de liaison (52), la surface de contact entre les éléments de liaison et les pixels étant strictement inférieure à la surface des pixels en regard du substrat.

    Abstract translation: 本发明涉及一种包括像素阵列(12)和绝缘透明基板(16)的接口装置(50),所述像素通过连接元件(52)连接到基板,连接元件和 像素严格小于面向衬底的像素的表面。

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