一种N-双(二甲胺基)-1,3-二甲基咪唑啉制备方法及用途

    公开(公告)号:WO2021103614A1

    公开(公告)日:2021-06-03

    申请号:PCT/CN2020/104736

    申请日:2020-07-27

    摘要: 本发明涉及化合物制备方法及用途领域,尤其是一种N-双(二甲胺基)-1,3-二甲基咪唑啉制备方法及用途,化学分子式为:C 9H 23N 5;制备方法包括如下步骤:S1:以1,3-二甲基-2-咪唑啉、双(三氯甲基)碳酸酯为原料,进行氯代反应合成氯代1,3-二甲基-2-氯咪唑啉;这既解决了其他氯代试剂的安全、环保问题,也极大的提高了产品收率(87%以上)。S2:向上述生成的氯盐中滴加四甲基胍,进行缩合反应;S3:再对上述产物进行中和反应,得N-双(二甲胺基)亚甲基-1,3-二甲基-2-氯咪唑啉氯化铵盐。本工艺可操作性强,反应条件温和,除生成高含量的氯化钾作为副产物外,几乎没有其他杂质生成,安全、绿色环保,产品催化效果好、适用范围广。

    PHOTOACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME

    公开(公告)号:WO2002019033A3

    公开(公告)日:2002-03-07

    申请号:PCT/US2001/026438

    申请日:2001-08-24

    IPC分类号: C07C25/00

    摘要: New photoacid generator compounds ("PAGs") are provided and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, ionic PAGs are provided that include tri-naphthyl sulfonium, thienyl iodonium, thienyl sulfonium, pentafluorophenyl iodonium and pentafluorophenyl sulfonium compounds. PAGs of the invention are particularly useful as photoactive components of photoresists imaged at short wavelengths such as sub-300 nm, sub-200 nm and sub-160 nm such as 248 nm, 193 nm and 157 nm.