公开(公告)号：WO2016209669A1

公开(公告)日：2016-12-29

申请号：PCT/US2016/037435

申请日：2016-06-14

Applicant: CYMER, LLC (A NEVADA COMPANY)

Inventor： O'BRIEN, Kevin, Michael ,  AHLAWAT, Rahul

IPC: H01S3/10 ,  H01S3/104 ,  H01S3/125 ,  H01S3/134

CPC classification number: G03F7/2006 ,  G01B11/02 ,  G01J3/12 ,  G02B26/007 ,  G03F7/70 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/10 ,  H01S3/104 ,  H01S3/11

Abstract: A system includes a first actuation module coupled to a first actuatable apparatus of m optical source, she first actuatable apparatus being altered by the first actuation module to adjust the spectral feature of the pulsed light beam a second actuation module coupled to a second actuatable apparatus of the optical source, the second actuatable apparatus being altered by the second actuation module to adjust the spectral feature of the pulsed light beam; arid a control system configured to receive an indication regarding the operating state of the first actuatab!e apparatus; and send a signal to the second actuation module to adjust the spectral feature of the pulsed light beam to either: prevent the first actuatable apparatus from saturating based on the operating state of the first actuatable apparatus, or the first actuatable apparatus if the first actuatable apparatus is saturated.

Abstract translation: 系统包括耦合到m个光源的第一可致动装置的第一致动模块，第一可致动装置被第一致动模块改变以调节脉冲光束的光谱特征，第二致动模块耦合到第二可致动装置 光源，第二致动装置被第二致动模块改变以调节脉冲光束的光谱特征; 以及配置为接收关于所述第一致动器装置的操作状态的指示的控制系统; 并且向第二致动模块发送信号以将脉冲光束的光谱特征调整为：基于第一可致动装置或第一致动装置的操作状态来防止第一致动装置饱和，如果第一致动装置 饱和。

公开(公告)号：WO2015113843A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/EP2015/050837

申请日：2015-01-19

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： ZHANG, Kevin ,  LIEBENBERG, Christoffel, Johannes ,  SCHAFGANS, Alexander

IPC: H01S3/104 ,  H01S3/036 ,  H01S3/134 ,  H01S3/223 ,  H01S3/23

CPC classification number: H01S3/227 ,  H01S3/036 ,  H01S3/104 ,  H01S3/134 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2316 ,  H05G2/008

Abstract: An extreme ultraviolet light system includes an optical amplifier system and a catalytic conversion system. Each optical amplifier of the optical amplifier system includes a gain medium in the form of a gas mixture that produces an amplified light beam. The optical amplifier system includes a fluid input and a fluid output through which the gas mixture flows. The catalytic conversion system is fluidly connected to the fluid output of the optical amplifier system and to the fluid input of the optical amplifier system. The catalytic conversion system includes a catalytic converter that includes a housing; a substrate within the housing including openings through which the gas mixture can flow; and a catalyst applied as a coating to the interior surfaces of the openings of the substrate, the catalyst including particles of metal. The particles of metal can be nanoparticles of precious metal.

Abstract translation: 极紫外光系统包括光放大器系统和催化转化系统。 光放大器系统的每个光放大器包括产生放大光束的气体混合物形式的增益介质。 光放大器系统包括流体输入和气体混合物流过的流体输出。 催化转化系统流体地连接到光放大器系统的流体输出和光放大器系统的流体输入。 催化转化系统包括催化转化器，其包括壳体; 壳体内的衬底包括开口，气体混合物可通过该开口流动; 以及作为涂层施加到衬底的开口的内表面的催化剂，所述催化剂包括金属颗粒。 金属颗粒可以是贵金属的纳米颗粒。

公开(公告)号：WO2013089581A1

公开(公告)日：2013-06-20

申请号：PCT/RU2011/000992

申请日：2011-12-16

Applicant: ГАРЯЕВ, Петр Петрович ,  ПОЛТАВЦЕВА, Римма Алексеевна ,  ВОЛОШИН, Леонид Леонидович ,  ЛЕОНОВА-ГАРЯЕВА, Екатерина Александровна

Inventor： ГАРЯЕВ, Петр Петрович ,  ПОЛТАВЦЕВА, Римма Алексеевна ,  ВОЛОШИН, Леонид Леонидович ,  ЛЕОНОВА-ГАРЯЕВА, Екатерина Александровна

IPC: G01N21/63 ,  H01S3/104

CPC classification number: G01J3/42 ,  G01J3/10

Abstract: Изобретение относится к области спектроскопии, отличающийся тем, что спектроскопируют объекты с помощью пучка лучей от источника излучения со стабилизированной частотой; используют результат сканирования спектроскопируемого объекта для модуляции отраженного пучка лучей по параметру поляризации с получением модулированного широкополосного электромагнитного излучения (мШЭИ). Система для реализации способа состоит из следующих последовательно установленных на единой оптической оси компонентов: источник стабилизированного по частоте излучения; импульсный источник питания; объект спектроскопии.

Abstract translation: 本发明涉及光谱学领域，其特征在于：借助于来自具有稳定频率的辐射源的光线束对物体进行光谱分析; 根据偏光参数，对使用光谱学的物体进行扫描的结果用于调制反射的光束，从而产生调制的宽带电磁辐射（MBER）。 用于实现该方法的系统包括：串联安装在单个光轴上的以下组件：频率稳定辐射源; 脉冲电源; 光谱学对象。

公开(公告)号：WO2005104311A3

公开(公告)日：2007-03-22

申请号：PCT/US2005006932

申请日：2005-03-04

Applicant: CYMER INC ,  SANDSTROM RICHARD L ,  ALGOTS J MARTIN ,  BROWN JOSHUA C ,  CYBULSKY RAYMOND F ,  DUNLOP JOHN ,  HOWEY JAMES K ,  MORTON RICHARD G ,  PAN XIAOJIANG J ,  PARTLO WILLIAM N ,  PUTRIS FIRAS F ,  WATSON TOM A ,  YAGER THOMAS A

Inventor： SANDSTROM RICHARD L ,  ALGOTS J MARTIN ,  BROWN JOSHUA C ,  CYBULSKY RAYMOND F ,  DUNLOP JOHN ,  HOWEY JAMES K ,  MORTON RICHARD G ,  PAN XIAOJIANG J ,  PARTLO WILLIAM N ,  PUTRIS FIRAS F ,  WATSON TOM A ,  YAGER THOMAS A

IPC: H01S3/22 ,  G01B9/02 ,  G01J1/42 ,  G01J9/02 ,  G03F7/20 ,  H01S3/00 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/04 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08 ,  H01S3/081 ,  H01S3/097 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/10 ,  H01S3/102 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/11 ,  H01S3/13 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/23

CPC classification number: H01S3/02 ,  G01J1/429 ,  G01J9/02 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0401 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0812 ,  H01S3/097 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: A high power narrow band, high repetition rate laser light source optical improvement apparatus and methods are disclosed with a fast angularly positionable mirror having a mirror mounting frame, a reflective optic with a coefficient different from that of the mounting frame, at least one flexure mount framed in the mounting frame that is flexible having flexure arm attached the flexture to the mounting frame. The apparatus may include a flexure force mechanism having an elongated rod. The force mechanism may prestress the flexure. The mirror maybe a grating which includes a substrate with metallic layer formed on the substrate, and a protective coating made of silica formed on the reflective metallic layer. The grating maybe actively tuned using an electro- or magneto- sensitive element. Oxides of the metal in the reflective layer may be removed by a hydrogen purge system exposed to deep ultraviolet radiation.

Abstract translation: 公开了一种高功率窄带，高重复率激光光源光学改进装置和方法，其具有快速可角度定位的反射镜，其具有镜安装框架，具有与安装框架系数不同的系数的反射光学元件，至少一个弯曲安装座 框架在柔性的安装框架中，挠性臂将挠性件连接到安装框架。 该装置可以包括具有细长杆的挠曲力机构。 力机构可以预应力挠曲。 镜子可以是包括在基板上形成有金属层的基板的光栅，以及形成在反射金属层上的由二氧化硅形成的保护涂层。 光栅可能会使用电磁感应元件或磁敏元件进行主动调谐。 可以通过暴露于深紫外线辐射的氢气清除系统来去除反射层中金属的氧化物。

公开(公告)号：WO0198012A9

公开(公告)日：2002-06-13

申请号：PCT/US0116985

申请日：2001-05-23

Applicant: CYMER INC ,  NEWMAN PETER C ,  DUFFEY THOMAS P ,  PARTLO WILLIAM N ,  SANDSTROM RICHARD L ,  MECHER PAUL C ,  JOHNS DAVID M ,  SAETHRE ROBERT B ,  FLEUROV VLADIMIR B ,  NESS RICHARD M ,  RETTIG CURTIS L ,  SHANNON ROBERT A ,  UJAZDOWSKI RICHARD C ,  ROKNI SHAHRYAR ,  PAN XIAOJIANG J ,  KULGEYKO VLADIMIR ,  SMITH SCOTT T ,  ANDERSON STUART L ,  ALGOTS JOHN M ,  SPANGLER RONALD L ,  FOMENKOV IGOR V

Inventor： NEWMAN PETER C ,  DUFFEY THOMAS P ,  PARTLO WILLIAM N ,  SANDSTROM RICHARD L ,  MECHER PAUL C ,  JOHNS DAVID M ,  SAETHRE ROBERT B ,  FLEUROV VLADIMIR B ,  NESS RICHARD M ,  RETTIG CURTIS L ,  SHANNON ROBERT A ,  UJAZDOWSKI RICHARD C ,  ROKNI SHAHRYAR ,  PAN XIAOJIANG J ,  KULGEYKO VLADIMIR ,  SMITH SCOTT T ,  ANDERSON STUART L ,  ALGOTS JOHN M ,  SPANGLER RONALD L ,  FOMENKOV IGOR V

IPC: H01S3/134 ,  G01J1/42 ,  G01J9/00 ,  G03F7/20 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/04 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08 ,  H01S3/097 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/102 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/11 ,  H01S3/13 ,  H01S3/131 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225

CPC classification number: H01S3/225 ,  G01J1/4257 ,  G01J3/027 ,  G01J9/0246 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2308

Abstract: The present invention provides an excimer laser capable of producing a high quality pulsed laser beam at pulse rates of about 4,000 Hz at pulse energies of about 5mJ or greater. A preferred embodiments is an ArF excimer laser specifically designed as a light source for integrated circuit lithography. An improved wavemeter with special software monitors output beam parameters and controls a very fast PZT driven tuning mirror and the pulse power charging voltage to maintain wavelength and pulse energy within desired limits. In a preferred embodiment two fan motors drive a single tangential fan which provides sufficient gas flow to clear discharge debris from the discharge region during the approximately 0.25 milliseconds between pulses.

Abstract translation: 本发明提供了一种准分子激光器，其能够在约5mJ或更大的脉冲能量下以大约4,000Hz的脉冲速率产生高质量脉冲激光束。 一个优选的实施方案是专门设计为用于集成电路光刻的光源的ArF准分子激光器。 改进的波长计配有专用软件，可监测输出光束参数，并控制非常快速的PZT驱动调谐镜和脉冲功率充电电压，以将波长和脉冲能量保持在期望的限制范围内。 在一个优选实施例中，两个风扇马达驱动单个切向风扇，其提供足够的气流以在脉冲之间的大约0.25毫秒期间清除来自放电区域的放电碎片。

公开(公告)号：WO02003512A1

公开(公告)日：2002-01-10

申请号：PCT/US2001/020898

申请日：2001-06-29

IPC: G03F7/20 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/04 ,  H01S3/041 ,  H01S3/097 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/11 ,  H01S3/134 ,  H01S3/22 ,  H01S3/225 ,  H03K3/57 ,  H03K17/80

CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/134 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H03K3/57 ,  H03K17/80

Abstract: A high repetition rate compact modular gas discharge ultraviolet laser (6) is use as a light source for very rapid inspections of wafers in an IC fabrication process. It is also useful for reticle writing at very rapid rates. A preferred embodiment operates at pulse repetition rates of 1000 to 4000 HZ and is designed for around-the-clock production line operation. A pulse control unit is also included in the preferred embodiment, which controls the timing of pulses to an accuracy of less than four nanoseconds. Preferred embodiments can be configured to operate with a KrF, ArF or F*sub*2 gas mixtures, where each with an appropriate buffer gas can produce 248 nm, 197 nm or 157 nm ultraviolet light pulses.

Abstract translation: 高重复率紧凑型模块化气体放电紫外线激光器（6）被用作在IC制造工艺中非常快速地检查晶片的光源。 它也以非常快的速度对掩模版书写有用。 优选实施例以1000至4000HZ的脉冲重复率操作，并被设计用于全天候的生产线操作。 脉冲控制单元还包括在优选实施例中，其将脉冲的定时控制到小于4纳秒的精度。 优选的实施方案可以被配置成用KrF，ArF或F * sub * 2气体混合物进行操作，其中每个具有合适的缓冲气体可以产生248nm，197nm或157nm的紫外光脉冲。

公开(公告)号：WO2022123714A1

公开(公告)日：2022-06-16

申请号：PCT/JP2020/045982

申请日：2020-12-10

Applicant: ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP]/[JP]

Inventor： 山之内　庸一 YAMANOUCHI, Youichi ,  梅田　博 UMEDA, Hiroshi ,  永井　一喜 NAGAI, Kazuki ,  植山　健史 UEYAMA, Takeshi

IPC: H01S3/097 ,  H01S3/0977 ,  H01S3/104

Abstract: 本開示の一観点に係るガスレーザ装置は、レーザチャンバの内部に配置された一対の主放電電極に主放電を発生させる主放電電圧を供給する主放電回路と、レーザチャンバの内部に配置された予備電離電極にコロナ放電を発生させる予備電離電圧を供給する予備電離回路とを備える。主放電回路は、昇圧パルストランスと、昇圧パルストランスの一次側に接続された主コンデンサ及びスイッチと、主コンデンサを充電する第１電源と、昇圧パルストランスの二次側に並列接続された第１コンデンサと、第１コンデンサに接続された第１磁気スイッチと、第１磁気スイッチを介して第１コンデンサに並列接続されると共に主放電電極に並列接続されるピーキングコンデンサとを備え、コロナ放電が開始するタイミングと主放電が開始するタイミングとの間隔が３０ｎｓ以上６０ｎｓ以下である。

公开(公告)号：WO2021212710A1

公开(公告)日：2021-10-28

申请号：PCT/CN2020/110804

申请日：2020-08-24

Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

Inventor： 潘其坤 ,  郭劲 ,  陈飞 ,  李殿军 ,  谢冀江 ,  于德洋 ,  张阔 ,  孙俊杰 ,  张鲁薇

IPC: G01N21/63 ,  G01M11/02 ,  H01S3/104 ,  G01R31/26

Abstract: 一种CO2激光放大器（20）的上能级寿命测试装置及方法，装置包括：用于向待测CO2激光放大器（20）发送触发信号，启动待测CO2激光放大器（20）激发工作粒子向上能级跃迁的信号触发器（10）；用于对工作粒子由上能级向低能级跃迁释放出的能量产生的跃迁光线进行检测分析，并根据跃迁光线的能量以及持续时长确定待测CO2激光放大器（20）的上能级寿命的测试装置（30）。利用CO2激光放大器（20）激发工作粒子，并对跃迁光线进行检测获得上能级寿命，能够更真实的模拟CO2激光放大器（20）的实际工作过程，进而测得更准确的上能级寿命，为CO2激光放大器（20）的应用提供更为可靠的数据依据。

公开(公告)号：WO2013154949A3

公开(公告)日：2013-12-05

申请号：PCT/US2013035530

申请日：2013-04-05

Applicant: COHERENT INC

Inventor： ROSENTHAL PETER ,  KENNEDY JOHN ,  SEGUIN VERN ,  ALLIE DAVID

IPC: H01S3/104 ,  H01S3/097 ,  H01S3/10 ,  H01S3/223

CPC classification number: H01S3/104 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/10046 ,  H01S3/10069 ,  H01S3/2232

Abstract: In order to maintain a constant laser output pulse power in a RF-energized, sealed-off, diffusion cooled, pulsed, CO2 gas-discharge laser (160), each laser output pulse is generated by train or burst of shorter RF pulses. When the time between laser output pulses (176) becomes short enough that the power in one pulse would be reduced by gas-discharge heating effects of a previous pulse, power in the RF pulse trains (164) is varied by varying the duration or duty cycle of pulses in the bursts, thereby keeping output-pulse power in the laser output pulses constant. RF pulses in any burst can have a different duration for tailoring the temporal shape of a corresponding laser-output pulse.

Abstract translation: 为了在射频激励密封的扩散冷却的脉冲CO2气体放电激光器（160）中保持恒定的激光输出脉冲功率，每个激光输出脉冲由更短的RF脉冲的串联或脉冲串产生。 当激光输出脉冲（176）之间的时间变得足够短以致通过先前脉冲的气体放电加热效应将一个脉冲中的功率降低时，RF脉冲序列（164）中的功率通过改变持续时间或占空比来改变 在脉冲串中的脉冲周期，从而保持激光输出脉冲中的输出脉冲功率恒定。 任何脉冲串中的RF脉冲可以具有不同的持续时间，用于调整对应的激光输出脉冲的时间形状。

公开(公告)号：WO2012036008A1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：PCT/JP2011/070136

申请日：2011-09-05

Applicant: 株式会社 アマダ ,  杉山 明彦 ,  宮本 佳尚 ,  森 隆弘

Inventor： 杉山　明彦 ,  宮本　佳尚 ,  森　隆弘

IPC: H01S3/104 ,  H01S3/041 ,  B23K26/00

CPC classification number: H01S3/041 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/0407 ,  H01S3/097 ,  H01S3/2232

Abstract: 　レーザ加工装置は、レーザ発振器と、前記レーザ発振器を冷却する冷却器と、前記レーザ発振器及び前記冷却器を制御する制御ユニットとを備えている。前記制御ユニットは、前記レーザ発振器によるレーザ光の出射停止から規定時間の経過後に前記レーザ発振器のベース放電を停止する制御部を有している。上記レーザ加工装置によれば、レーザ光の出射停止から規定時間経過後にレーザ発振器のベース放電が停止されるので、レーザ加工装置の待機中の無駄なエネルギ（電力）消費を抑制できる。

Abstract translation: 激光加工装置配备有激光振荡器，冷却激光振荡器的冷却器和控制激光振荡器和冷却器的控制单元。 控制单元具有控制部，其在从激光振荡器的激光束的输出停止之后经过规定时间后停止激光振荡器的基极放电。 由于激光振荡器的基极放电由于激光束的输出停止而经过规定的时间后停止，所以激光加工装置能够使激光加工装置处于非激活处理装置时的非生产能量（电力）的消耗最小化 支持。