公开(公告)号：CN105278006B

公开(公告)日：2017-09-29

申请号：CN201510360232.2

申请日：2015-06-26

申请人： 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司

发明人： K.贝克 ,  S.奥赫斯 ,  S.托马斯

IPC分类号： G02B1/00 ,  G02B1/10 ,  C03B19/06 ,  C03C3/06 ,  C03B29/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： C03B23/04 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/7095

摘要： 本发明提供用于在EUV光刻中使用的镜面基材的钛掺杂的石英玻璃制成的坯件，其具有待配备反射膜的表面部分并具有光学使用区域CA，在光学使用区域CA上的热膨胀系数CTE具有在所述坯件的厚度上取平均的二维dCTE分布曲线，其具有小于5ppb/K的被定义为CTE最大值和CTE最小值之间的差的最大不均匀性dCTE最大，其特征在于，dCTE最大为至少0.5ppb/K，并且CA形成具有所述区域的形心的非圆形区域，其中所述dCTE分布曲线不是旋转对称的并在CA上对其限定，使得被归一化至单位长度并穿过所述区域的形心延伸的直的曲线段产生形成具有小于0.5×dCTE最大带宽的曲线带的dCTE曲线簇。

公开(公告)号：CN106873316A

公开(公告)日：2017-06-20

申请号：CN201710243823.0

申请日：2004-02-26

申请人： 株式会社尼康

发明人： 长坂博之

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/7095

摘要： 本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及器件制造方法。一种曝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来曝光基板，该曝光装置包括：把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统；为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域，从在多个不同的方向上与投影区域隔开的多个位置上同时向基板上进行液体供给的液体供给机构。

公开(公告)号：CN104303109B

公开(公告)日：2017-06-09

申请号：CN201380025453.3

申请日：2013-04-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/67103

摘要： 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。

公开(公告)号：CN102454733B

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：CN201110327827.X

申请日：2011-10-25

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： C·A·胡根达姆 ,  M·A·W·苏吉皮尔斯 ,  B·F·瑞得斯脱 ,  R·C·G·吉森 ,  M·C·A·布伦

IPC分类号： F16F1/22 ,  F16F15/04 ,  G03F7/20

CPC分类号： F16F1/10 ,  F16F1/027 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/7095

摘要： 本发明公开了一种板弹簧、平台系统以及光刻设备。一种板弹簧，安装在两个物体之间，板弹簧配置成在两个正交方向上具有高的刚性且在其他自由度上具有相对低的刚性，其中所述板弹簧具有基本上板形主体，所述板弹簧包括第一安装位置，其位于板形主体的中心或附近以将板弹簧安装至所述两个物体中的第一个，其中板弹簧包括一个或更多个第二安装位置，位于板形主体的周围或附近以将板弹簧安装至所述两个物体中的第二个；和在所述板形主体中的在所述第一安装位置和第二安装位置之间的细长的凹槽和/或狭缝，所述凹槽和/或狭缝在所述两个正交方向的平面内沿至少两个非正交方向延伸。

公开(公告)号：CN103476734A

公开(公告)日：2013-12-25

申请号：CN201280019284.8

申请日：2012-03-07

申请人： 西格里碳素欧洲公司

发明人： 彼得·波尔斯特 ,  安德烈亚斯·金茨勒 ,  托马斯·普茨 ,  阿尔宾·冯·甘斯基 ,  布拉休斯·黑尔 ,  阿尔弗雷德·霍伊斯勒

IPC分类号： C04B37/00 ,  C04B35/573 ,  C04B35/83 ,  G03F7/20

CPC分类号： B32B37/14 ,  C04B35/522 ,  C04B35/573 ,  C04B35/6263 ,  C04B35/6269 ,  C04B35/63476 ,  C04B35/6365 ,  C04B35/83 ,  C04B37/005 ,  C04B2235/3826 ,  C04B2235/428 ,  C04B2235/48 ,  C04B2235/483 ,  C04B2235/5248 ,  C04B2235/526 ,  C04B2235/5296 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/612 ,  C04B2235/616 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2237/083 ,  C04B2237/363 ,  C04B2237/385 ,  C04B2237/61 ,  C04B2237/66 ,  C04B2237/78 ,  C04B2237/80 ,  C04B2237/82 ,  C04B2237/86 ,  G03F7/7095 ,  Y10T156/10

摘要： 本发明涉及一种包含以下步骤的部件生产方法：a）准备至少两个分别由碳复合材料制成的坯件，b）将至少两个坯件通过至少一个连接面连接成一个复合体，对此需要在坯件的连接面之间涂覆连接料，然后进行硬化，其中连接料包含碳化硅和至少一种聚合物粘合剂和c）将复合体硅化形成部件。

公开(公告)号：CN102308379B

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201080006592.8

申请日：2010-02-19

申请人： 株式会社沙迪克

发明人： 铃木茂美 ,  石见嘉治 ,  元矢秀和

IPC分类号： H01L21/683 ,  B65G49/06 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/6838 ,  B65G49/061 ,  B65G2249/045 ,  C04B35/117 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3208 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3232 ,  C04B2235/3234 ,  C04B2235/3241 ,  C04B2235/3262 ,  C04B2235/3272 ,  C04B2235/3277 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/3481 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/94 ,  C04B2235/945 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/963 ,  C04B2235/9661 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70941 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/6875 ,  Y10T279/11

摘要： 在本发明中，于载置面上吸附基板的着色陶瓷真空夹盘(2)是由着色陶瓷烧结体构成，其中，所述着色陶瓷烧结体包括55wt％～75wt％的氧化铝(Al2O3)、换算成氧化物(SiO2)至少为3wt％的Si、换算成氧化物(CaO)至少为0.4wt％的Ca、换算成氧化物(MgO)至少为0.4wt％的Mg、着色剂以及1％以下的杂质，并且，于载置面上通过借助研磨粒的喷砂处理而形成有支撑基板的多个销(4)与轮缘(6)，并对整个载置面实施借助球形粒子的喷丸处理。

公开(公告)号：CN103135365A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201310061254.X

申请日：2010-12-21

申请人： 株式会社尼康

发明人： 泷优介

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/7095

摘要： 本发明提供一种液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法，该液浸构件(6)，是以液体(LQ)充满照射于物体的曝光用光(EL)的光路(K)的方式在与前述物体之间保持液体(LQ)以形成液浸空间(LS)。液浸构件(6)，于与液体(LQ)接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。通过本发明，能够抑制曝光不良的产生，从而能抑制不良元件的产生及生产性的降低的问题。

公开(公告)号：CN101515117B

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200910007195.1

申请日：2009-02-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： P·P·赫姆皮内斯 ,  D-J·彼杰沃埃特 ,  Y·K·M·德沃斯 ,  R·I·卡米迪

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/687

CPC分类号： G03F7/7095 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783

摘要： 本发明提供一种具有带粘弹性阻尼层的夹盘的光刻设备，包括构造用于调节辐射束的照射系统、构造成支撑图案形成装置的支撑结构、能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束的图案形成装置、构造成保持衬底的衬底台、构造用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统、构造用于保持和定位物体的夹盘，例如将图案形成装置保持和定位在支撑结构上或将衬底保持和定位在衬底台上，所述夹盘包括基部和限制层。在基部和限制层之间设置包括粘弹性材料的阻尼层。

公开(公告)号：CN100395661C

公开(公告)日：2008-06-18

申请号：CN03138452.8

申请日：2003-04-29

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·范埃尔普 ,  P·吉森 ,  J·J·范德维尔德

IPC分类号： G03F7/20 ,  H02N13/00 ,  G03F9/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/68

CPC分类号： G03F7/70708 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/6831

摘要： 本申请公开了吸盘、具有吸盘的光刻投影设备，以便容易快速地从吸盘上拆卸基底。其中，静电吸盘的介电元件具有至少1016Ωcm的电阻率，以便当吸盘电极之间的电位差被去除时，被夹持物件上的力能快速减小到预定最小值以下。该介电元件还具有小于0.02×10-6K-1的热膨胀系数。还公开了一种制造吸盘的方法，其步骤包括将玻璃陶瓷元件与玻璃元件连接起来并在它们间夹有电极，其中，电流通过该第二玻璃元件。还公开了一种其中使用吸盘的器件制造方法。本发明的吸盘可用于利用静电力将器件保持到支承台上，本发明的光刻投影设备可用于制造集成电路。

公开(公告)号：CN109478026A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780045786.0

申请日：2017-06-22

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： M·瑞鹏 ,  P·P·A·A·布洛姆 ,  R·J·赫尔特门斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC分类号： G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/7095 ,  G03F7/70958 ,  H05G2/005

摘要： 一种在辐射源中使用的碎片减少系统。所述碎片减少系统包括污染物陷阱。所述污染物陷阱包括碎片接收表面，所述碎片接收表面被布置成接收从辐射源的等离子体形成区域发射的液态金属燃料碎片。所述碎片接收表面由下述材料构成：该材料与所述液态金属燃料碎片反应以在所述碎片接收表面上形成金属间化合层。