基板粘结方法和设备
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100481322C

    公开(公告)日:2009-04-22

    申请号:CN200610162739.8

    申请日:2006-09-11

    Abstract: 本发明公开了一种基板粘结设备和基板粘结方法,当粘结上基板和下基板时,该基板粘结设备和基板粘结方法根据上基板和下基板的尺寸来施加压力。该设备包括:上按压单元,其具有用以按压上基板的上板和用以驱动所述上板以按压所述上基板的第一按压器;以及设置在上按压单元下面的下按压单元,其具有用以支撑并按压下基板以将其固定到上基板的下板、和用以驱动所述下板以按压所述下基板的第二按压器。该设备可用于粘结各种尺寸基板,例如,当粘结相对大尺寸的基板时,向上按压下基板,而上基板不会下垂,当粘结相对小尺寸的基板时,使用气体按压上基板。

    有机物蒸镀装置
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1743495B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200510096608.X

    申请日:2005-08-25

    Abstract: 一种有机物蒸镀装置,以将衬底大致垂直竖起的状态蒸镀有机物,形成有机薄膜,可适用于大型衬底,且可形成均匀厚度的有机薄膜。本发明的有机物蒸镀装置具有:腔,其构成壳体并且使衬底维持在相对于地面成70°~110°的角度;有机物存储部,其由接收向上述衬底上蒸镀的有机物的至少一个有机物存储位置构成;有机物喷嘴部,其喷射向上述衬底上蒸镀的有机物;连接线路,其将上述有机物喷嘴部和有机物存储部连接;运送装置,其可使上述有机物存储部、有机物喷嘴部及连接线中的至少上述有机物喷嘴沿垂直方向移动。

    线型沉积源
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1924079B

    公开(公告)日:2012-03-07

    申请号:CN200610127709.3

    申请日:2006-08-30

    CPC classification number: C23C14/243

    Abstract: 本发明公开一种线型沉积源,该沉积源能够通过使用板型加热源来提高加热效率并且降低加热温度,和/或能够通过在一个壳体中包括一个具有冷却水管线(或者通道)的冷却套来提高冷却效率。所述线型沉积源包括:布置在一个沉积室中的坩埚,所述坩埚用于蒸发包括在所述坩埚中的材料;加热源,用于对所述坩埚加热;壳体,用于隔绝从加热源发出的热量;外壁,用于固定所述坩埚;和喷嘴单元,用于喷射从所述坩埚蒸发的材料。在该沉积源中,所述加热源是板型加热源,并且所述壳体具有冷却水管线,从而冷却水可以流过该冷却水管线。

    蒸发源和具备蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN1782120B

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN200510126935.5

    申请日:2005-11-28

    Abstract: 本发明提供一种蒸发源和具备该蒸发源的蒸镀装置,其能通过使用反射板来有效提高喷嘴的热量,从而防止蒸镀物质在喷嘴处凝缩。本发明的蒸发源包括:蒸镀物质贮藏部,其放置有蒸镀物质并且局部开口;喷嘴部,其具有连结在所述蒸镀物质贮藏部的开口的部分上并用于喷射所述蒸镀物质的开口部;反射板,其把所述喷嘴部的至少一部分的角部包围;壳体,其包围所述蒸镀物质贮藏部包围;加热部,其位于所述壳体与所述蒸镀物质贮藏部之间。本发明的蒸镀装置具备所述蒸发源。另外,本发明的有机物蒸发源由于改善所述有机物贮藏部和喷嘴部的材质并在它们的表面上附有防止有机物泄漏部件,所以,提高了喷嘴部和有机物贮藏部的导热性,并防止了有机物的泄漏。

    基片固定盘及利用该基片固定盘的基片校正系统及其方法

    公开(公告)号:CN1800443B9

    公开(公告)日:2011-07-27

    申请号:CN200510117051.3

    申请日:2005-10-31

    Abstract: 本发明提供一种基片固定盘,为了在真空工程用垂直基片固定盘的平板面上固定和支持所述基片,包含至少一部分以上基片固定单元,并且,通过固定和支持垂直布置的基片,可以进行高精度的校正和更加稳定的蒸镀工艺。基片固定盘(60)及利用该基片固定盘(60)的基片校正系统及其方法,包含被蒸镀蒸镀物的基片(10)、用于容纳所述基片(10)的框架(70)、用于容纳所述框架(70)而构成的盘(60)、用于在所述框架(70)上固定和支持所述基片(10)而构成的至少一个以上基片固定单元(110)。

    薄膜沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN101997091A

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN201010262640.1

    申请日:2010-08-24

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜沉积设备、一种使用该薄膜沉积设备制造有机发光显示装置的方法和一种使用该方法制造的有机发光显示装置。薄膜沉积设备包括薄膜沉积组件,所述薄膜沉积组件包括:沉积源,排出沉积材料;沉积源喷嘴单元,设置在沉积源的一侧,并且包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,与沉积源喷嘴单元相对地设置,并且包括沿第一方向布置的多个图案化缝隙;障碍板组件,包括多个障碍板,多个障碍板沿第一方向设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间并且将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分为多个子沉积空间,其中,每个障碍板与图案化缝隙片分开。

    遮蔽掩模图案的形成方法

    公开(公告)号:CN1800970B

    公开(公告)日:2011-02-09

    申请号:CN200510092324.3

    申请日:2005-08-26

    Abstract: 本发明提供一种遮蔽掩模图案的形成方法,其在施加有拉力的状态下首先焊接在掩模框上,利用激光形成蒸镀图案,由此容易制作大面积的掩模,并且加工步骤及设备简单,能够缩短加工时间。本发明的遮蔽掩模图案的形成方法在由对掩模框施加有拉力的状态下固定的固定部和形成有图案的透过区域构成的遮蔽掩模上形成图案,其特征在于,包括:一边在所述遮蔽掩模上施加与所述拉力对应的张力一边固定所述遮蔽掩模的步骤;在已固定的遮蔽掩模的透过区域选定图案形成开始位置的步骤;从所述图案形成开始位置沿螺旋方向的形成路径形成所述图案的步骤。

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