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公开(公告)号:CN107109618A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201680004832.8
申请日:2016-06-08
申请人: 株式会社爱发科
摘要: 基板处理装置,具备:阳极单元(17),包含第一板(23)和第二板(24)。第一板(23)包含多个第一贯穿孔(23a),通过使气体穿过第一贯穿孔流动,从而使气体往第一板(23)的面方向扩散。第二板(24)包含比第一贯穿孔(23a)大的多个第二贯穿孔(24a)。第二板(24)使穿过第一贯穿孔(23a)的气体穿过多个第二贯穿孔(24a),从而在第二板(24)与阴极载台之间流动。第二贯穿孔(24a)具有使各第二贯穿孔的内部的等离子发光强度高于在第二板(24)与阴极载台之间产生的等离子的发光强度的形状。
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公开(公告)号:CN106715751A
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201580038502.6
申请日:2015-07-28
申请人: 株式会社爱发科
CPC分类号: C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/50 , C23C14/541 , H01J37/3244 , H01J37/32724 , H01J37/3411
摘要: 基板处理装置(10)具备:等离子生成部,其在配置基板(1)的等离子生成空间生成工艺气体的等离子;冷却部(20),其隔着冷却空间(55)与基板相对,并具有向冷却空间供给工艺气体的供给口(26);工艺气体供给部(30),其向冷却部(20)供给工艺气体;以及连通部(56),其连通冷却空间(55)和等离子生成空间,用于将被供给到冷却空间的工艺气体供给到等离子生成空间。
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公开(公告)号:CN1965101B
公开(公告)日:2014-06-25
申请号:CN200580018438.1
申请日:2005-06-07
申请人: 株式会社爱发科
IPC分类号: C23C14/35
CPC分类号: H01J37/3408 , C23C14/352
摘要: 提供一种磁控管溅射方法以及磁控管溅射装置,可以大幅减少导致靶表面发生异常放电以及靶材料的沉积的非腐蚀区域。本发明涉及以电气独立的状态在真空中配置多个靶8A、8B、8C、8D,在靶8A、8B、8C、8D附近产生磁控管放电,并进行溅射的磁控管溅射方法。在本发明中,当溅射时,对相邻的靶8A、8B、8C、8D以预定的时序交替地施加相位相差180°的不同电压。
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公开(公告)号:CN101896879B
公开(公告)日:2013-05-29
申请号:CN200880120863.5
申请日:2008-12-04
申请人: 株式会社爱发科
CPC分类号: G06F3/045
摘要: 本发明涉及触摸面板以及触摸面板的制造方法。本发明提供一种耐久性高的触摸面板。在显示装置(10)和挠性面板(20)中的一方或两方的电极层(上部电极层(27)、下部电极层(30))的表面,呈岛状形成保护体(32),透明导电膜(31)表面在保护体(32)之间露出。由于保护体(32)从透明导电膜(31)的表面较高地突出,所以,按压挠性面板(20),上部电极层(27)和下部电极层(30)接触时,施加在透明导电膜(31)上的负荷被保护体(32)减轻,透明导电膜(31)不会破损。
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公开(公告)号:CN101496117B
公开(公告)日:2012-04-18
申请号:CN200780028568.2
申请日:2007-07-26
申请人: 株式会社爱发科
CPC分类号: C23C14/086 , C01G9/00 , C01G9/02 , C01P2002/50 , C01P2004/62 , C01P2006/40 , C01P2006/60 , C23C14/3414
摘要: 本发明提供一种电阻率低的透明导电膜。本发明的成膜方法是在真空环境中对以ZnO为主要成分、添加了Al2O3和B2O3的靶11进行溅射,从而在基板21表面形成透明导电膜,然后将该透明导电膜在300℃以上至400℃以下的温度下加热进行退火处理。由于得到的透明导电膜以ZnO为主要成分、并添加了Al和B,因此电阻率降低。根据本发明而成膜的透明导电膜适用于FDP等的透明电极。
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公开(公告)号:CN101427609B
公开(公告)日:2012-02-22
申请号:CN200780014739.6
申请日:2007-04-18
申请人: 株式会社爱发科
CPC分类号: C09K11/565 , H01L27/3267 , H05B33/14
摘要: 本发明提供能够由薄膜晶体管驱动且高亮度的显示装置。在基板(111)上形成低电压驱动的无机发光层(121)和控制晶体管(105),并且由控制晶体管(105)控制施加到无机发光层(121)上的电压。由于无机发光层(121)抗热或抗破坏性强,所以可以由溅射法形成。在同一基板上形成顶部发射型显示装置和底部发射型显示装置,可以从同一位置放射发光光线。
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公开(公告)号:CN102097472A
公开(公告)日:2011-06-15
申请号:CN201010535877.2
申请日:2007-12-26
申请人: 株式会社爱发科
IPC分类号: H01L29/78 , H01L29/786 , H01L23/532 , H01L21/285
CPC分类号: H01L23/53238 , H01L21/2855 , H01L27/124 , H01L2924/0002 , H05K1/0306 , H05K3/16 , H05K3/388 , H01L2924/00
摘要: 形成密接性优良、低电阻的布线膜。在配置有成膜对象物(21)的真空槽(2)中导入氧气,对纯铜靶(11)进行溅射,在成膜对象物(21)的表面上形成以铜为主要成分且含有氧的阻挡膜(22)之后,停止氧气的导入,对纯铜靶(11)进行溅射,形成纯铜的低电阻膜(23)。因为阻挡膜(22)和低电阻膜(23)以铜为主要成分,所以能够一次进行溅射。由于低电阻膜(23)与阻挡膜22相比是低电阻,所以,布线膜(25)整体成为低电阻。由于阻挡膜(22)针对玻璃或硅的密接性高,所以,布线膜(25)整体的密接性也高。
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公开(公告)号:CN101896879A
公开(公告)日:2010-11-24
申请号:CN200880120863.5
申请日:2008-12-04
申请人: 株式会社爱发科
CPC分类号: G06F3/045
摘要: 本发明涉及触摸面板以及触摸面板的制造方法。本发明提供一种耐久性高的触摸面板。在显示装置(10)和挠性面板(20)中的一方或两方的电极层(上部电极层(27)、下部电极层(30))的表面,呈岛状形成保护体(32),透明导电膜(31)表面在保护体(32)之间露出。由于保护体(32)从透明导电膜(31)的表面较高地突出,所以,按压挠性面板(20),上部电极层(27)和下部电极层(30)接触时,施加在透明导电膜(31)上的负荷被保护体(32)减轻,透明导电膜(31)不会破损。
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