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公开(公告)号：CN105980936A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201580007419.2
申请日：2015-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/2053 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0271 , H01L21/31144
Abstract: 一种图案形成方法包括：(i)在基板上依次进行下述步骤(i-1)、下述步骤(i-2)及下述步骤(i-3)，而形成第1负型图案的步骤，(i-1)在基板上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)来形成第1膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂、(i-2)对第1膜进行曝光的步骤、(i-3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第1膜进行显影，而形成第1负型图案的步骤；(iii)至少在第1负型图案上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(2)来形成第2膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(2)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂；(v)对第2膜进行曝光的步骤；以及(vi)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第2膜进行显影，至少在第1负型图案上形成第2负型图案的步骤。
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公开(公告)号：CN105008996A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201480011597.8
申请日：2014-02-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C311/06 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。
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公开(公告)号：CN104395825A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201380033027.4
申请日：2013-06-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C07C309/09 , C07C381/12 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 所提供的是一种形成图案的方法，所述方法包括：形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含含有下列通式(I)的重复单元中的任一个的树脂(A)，所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性，以及通过下列通式(B-1)至(B-3)中的任一个表示的化合物(B)，所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸；将所述膜暴露于光化射线或辐射；以及用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案。
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公开(公告)号：CN103649833A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201280032605.8
申请日：2012-06-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/095 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/095
Abstract: 所提供的是一种图案形成方法，所述方法包括：(i)通过使用第一树脂组合物(I)在基板上形成第一膜的步骤；(ii)通过使用与所述树脂组合物(I)不同的第二树脂组合物(II)在所述第一膜上形成第二膜的步骤；(iii)将具有所述第一膜和所述第二膜的多层膜曝光的步骤；和(iv)通过使用含有有机溶剂的显影液将经曝光的多层膜中的所述第一膜和所述第二膜显影以形成负型图案的步骤。
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公开(公告)号：CN118679428A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202380021467.1
申请日：2023-02-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C311/51 , C07C381/12 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种粗糙度性能及经时后的粗糙度性能均优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由特定的通式(I‑1)表示的化合物(Q)和通过酸的作用分解而极性增大的树脂。
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公开(公告)号：CN117836721A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280057487.X
申请日：2022-08-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种药液，当将其用作显影液或冲洗液来进行图案的形成时，所得到的图案的分辨率优异，且缺陷产生抑制性也优异。本发明的药液包含芳香族烃、芳香族烃以外的有机溶剂及金属X，芳香族烃仅由氢原子及碳原子组成，芳香族烃的含量相对于药液的总质量为1质量％以下，有机溶剂包含脂肪族烃，金属X为选自由Al、Fe及Ni所组成的组中的至少一种金属，芳香族烃的含量相对于金属X的含量的质量比为5.0×104～2.0×1010。
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公开(公告)号：CN117651910A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202280049626.4
申请日：2022-07-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/46
Abstract: 本发明的课题在于提供一种即使从曝光处理后到实施显影处理的时间(显影前待机时间)发生变动，所形成的图案的线宽的变动也小的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。另外，本发明的另一课题在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物满足规定的要件X或Y。
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公开(公告)号：CN116888539A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280011183.X
申请日：2022-01-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法及能够通过包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法获得线宽的面内均匀性优异的图案的图案形成方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法，所述图案形成方法包括：(1)使用包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂(A)及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序；(2)对上述膜进行曝光的工序；及(3)利用含有乙酸丁酯及碳原子数11以上的烃的有机系处理液，对经上述曝光的膜进行显影及淋洗中的至少一个的工序，所述图案形成方法中，上述有机系处理液中的上述碳原子数11以上的烃的含量为1质量％以上且35质量％以下。
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公开(公告)号：CN113166312B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202080006761.1
申请日：2020-01-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成分辨率优异且LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含树脂以及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，其中，由式(1)求出的A值为0.130以上，且通过上述光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上。
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