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公开(公告)号：CN117120659A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202280027506.4
申请日：2022-04-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塔玛拉·海因茨 , 斯蒂芬·班格特 , 苏雷什·曼尼科特·科拉拉斯 , 拉姆戈帕尔·查克拉瓦蒂·拉马萨米
IPC: C23C14/56
Abstract: 提供了一种用于将蒸发材料沉积到基板上的材料沉积设备。材料沉积设备包括：处理鼓，具有被配置为在处理鼓上的基板的处理期间控制基板温度的冷却器；辊，将基板朝向处理鼓引导；第一加热器组件，被定位以在辊与处理鼓之间的自由跨度区域中加热基板；第二加热器组件，被定位以在基板被支撑在处理鼓上的同时对基板进行加热；至少一个沉积源，沿着基板传输路径设置在第二加热器组件的下游；基板速度传感器，提供与基板传输速度相关的速度信号；以及控制器，具有用于速度信号的输入并且被配置为控制至少第一加热器组件。
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公开(公告)号：CN116157548A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202180051966.6
申请日：2021-06-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/56
Abstract: 本案描述了一种用于在基板(10)上沉积蒸发的材料的蒸发源(100)。蒸发源(100)包括：用于蒸发材料的蒸发坩埚(30)；具有多个喷嘴(21)的蒸气分配器(20)，用于将蒸发的材料引导朝向基板；蒸气导管(40)在导管长度方向(A)上从蒸发坩埚延伸到蒸气分配器，并提供蒸发坩埚与蒸气分配器之间的流体连接，其中多个喷嘴中的至少一个喷嘴具有延伸于所述导管长度方向(A)上，或基本上平行于所述导管长度方向(A)的喷嘴轴线；以及在蒸气导管中的挡板布置(50)。进一步描述了包括这种蒸发源(100)的气相沉积设备(200)，以及在真空腔室中涂覆基板的方法。
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公开(公告)号：CN116034179A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202180054212.6
申请日：2021-09-01
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/22
Abstract: 描述一种蒸发设备(100)，尤其用于蒸发诸如锂之类的反应性材料。此蒸发设备(100)包括用于蒸发液体材料(105)的蒸发坩锅(110)、用于将此液体材料(105)供应至此蒸发坩锅(110)的材料导管(120)，和经配置为通过用冷却装置(152)使此材料导管(120)中的此液体材料(105)的部分固化来关闭此材料导管(120)的阀(150)。此阀(150)可包括用于冷却气体(106)的冷却气体供应器(154)，和可经配置为用此冷却气体(106)冷却此液体材料(105)的此冷却装置(152)。进一步描述一种用于涂覆基板的气相沉积设备(200)以及蒸发方法。
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公开(公告)号：CN115667574A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180039788.5
申请日：2021-05-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容描述了一种气相沉积设备。气相沉积设备包括用于支撑待涂覆的基板的基板支撑件；具有多个喷嘴的蒸气源，用于通过蒸气传播空间将蒸气引导朝向基板支撑件；和从蒸气源向基板支撑件延伸的可加热屏蔽物。可加热屏蔽物至少部分地围绕蒸气传播空间，并且包括用于掩蔽基板的不被涂覆的区域的边缘排除部分。基板支撑件可以是具有弯曲滚筒表面的可旋转滚筒，并且气相沉积设备可以被构造为使弯曲滚筒表面上的基板在圆周方向移动经过蒸气源。
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公开(公告)号：CN112204164B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201880093518.0
申请日：2018-05-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 斯蒂芬·班格特 , 栗田真一 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔
IPC: C23C14/04 , C23C14/56 , H01L21/677
Abstract: 描述一种在真空系统中处理掩模的方法。所述方法包括(a)在真空系统中沿着传送路径以非水平定向(V)传送运载第一掩模(11)的掩模载体(10)；(b)将运载第一掩模(11)的掩模载体(10)的定向从非水平定向(V)改变为基本上水平的定向(H)；和(c)从在真空系统中以基本上水平定向(H)布置的掩模载体(10)卸载第一掩模(11)。根据另外的方面，描述一种真空系统，包括掩模处理模块，所述掩模处理模块用于处理掩模。(图1C)。
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公开(公告)号：CN110557953B
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN201880004216.1
申请日：2018-04-03
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/68 , C23C14/04 , C23C14/56 , C23C16/04 , H01L21/677 , C23C16/458 , H01L21/687
Abstract: 描述了一种用于在真空腔室(101)中对准载体的设备(100)。所述设备包括：第一载体运输系统(120)，所述第一载体运输系统(120)被配置为在第一方向(X)上沿着第一运输路径运输第一载体(10)；和对准系统(130)。所述对准系统包括：第一支座(152)，所述第一支座用于将所述第一载体(10)安装到所述对准系统(130)；对准装置(151)，所述对准装置被配置为在至少一个对准方向上移动所述第一支座(152)；和第一移位装置(141)，所述第一移位装置被配置为使所述对准装置(151)与所述第一支座(152)一起在横向于所述第一方向(X)的第二方向(Z)上移动。此外，描述了一种真空系统和一种用于对准载体的方法。
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公开(公告)号：CN113227436A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201880100385.5
申请日：2018-12-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 安德烈亚斯·勒普 , 斯蒂芬·班格特 , 戴维·石川 , 巴扈巴利·S·乌帕德亚 , 苏迈德·阿查亚 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
Abstract: 描述了一种气相沉积装置。所述气相沉积装置包括：具有腔室壁的真空腔室；温度控制的屏蔽件，所述温度控制的屏蔽件被构造成屏蔽腔室壁；热屏蔽件，面向待涂布的基板，所述热屏蔽件具有一个或多个开口；和至少部分地在真空腔室之内的蒸发器，所述蒸发器包括：延伸穿过所述一个或多个开口的一个或多个喷嘴。
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公开(公告)号：CN112771198A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201880098048.7
申请日：2018-10-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
Abstract: 描述了用于在真空腔室中的基板上沉积材料的材料沉积设备。所述材料沉积设备包括：掩模台，所述掩模台被配置为支撑具有掩模框架和掩模的掩模组件；基板传输轨道，所述基板传输轨道的至少一部分提供于真空腔室中，所述基板传输轨道被配置为支撑基板载体；保持装置，所述保持装置耦接至所述掩模台且被配置为用于将所述掩模组件沿基本上垂直的定向转移至所述掩模台上；和对准组件，所述对准组件具有两个或更多个对准致动器，所述对准组件耦接至所述掩模台且被配置为耦接至所述基板载体以使所述基板载体和所述掩模组件相对于彼此移动。
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公开(公告)号：CN111304595A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010082051.9
申请日：2013-12-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·凯勒 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特 , 里奥·库韦克·比安-孙
Abstract: 描述用于蒸发包括碱金属或碱土金属的材料及用于沉积所述材料于基板上的沉积装置。所述装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置以液化材料；阀，所述阀与第一腔室流体连通且在第一腔室下游，其中阀被配置以控制液化材料通过阀的流率；蒸发区，所述蒸发区与阀流体连通且在阀下游，其中蒸发区被配置以蒸发液化材料；及一或更多出口，所述一或更多出口用于将蒸发材料导向基板。
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公开(公告)号：CN107980070B
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201580077519.2
申请日：2015-07-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·凯勒 , 诺伯特·施帕茨
Abstract: 描述一种用于金属或金属合金的蒸发源(100)。蒸发源包括：蒸发坩锅(104)，其中蒸发坩锅配置为蒸发金属或金属合金；分布管(106)，具有一或多个出口(712)，沿着分布管的长度提供，其中分布管流体连通于蒸发坩锅，其中分布管进一步包括第一外部管(234)和第一内部管(232)，以及其中分布管和蒸发坩锅提供成单一件。
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