半导体装置
    81.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102449755A

    公开(公告)日:2012-05-09

    申请号:CN200980159551.X

    申请日:2009-05-27

    摘要: 本发明的半导体装置改善读出时生成参考电流的参考单元的写入干扰余裕。在配置有常态存储器单元(NMC0-NMC2)的常态单元区域(10N)中,设位线(BL)为包层布线构造(40),在配置有参考单元(RMC)的参考单元区域(10R)中,设位线(BL)为部分或非包层布线构造(42)。当是同一写入电流时,使施加于参考单元的写入磁场强度比施加于常态存储器单元的写入磁场强度小。

    具有磁阻元件的半导体存储器件及其数据写入方法

    公开(公告)号:CN1610001B

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN200410095945.2

    申请日:2004-08-13

    发明人: 福住嘉晃

    IPC分类号: G11C11/15 H01L43/08

    CPC分类号: H01L27/228 G11C11/16

    摘要: 一种具有磁阻元件的半导体存储器件及其数据写入方法,该半导体存储器件,包括:多个存储单元、第1布线、第1电流驱动电路和第2电流驱动电路。存储单元包括具有第1铁磁性膜、在第1铁磁性膜上形成的绝缘膜,在绝缘膜上形成的第2铁磁性膜的磁阻元件。第1布线与存储单元中包含的磁阻元件靠近且隔离地设置。第1电流驱动电路在写入工作时向第1布线供给第1电流,在磁阻元件周围形成磁场。第2电流驱动电路在写入工作时和读出工作时,通过绝缘膜向第1、第2铁磁性膜之间供给第2电流。

    一种稳定剩磁态的自旋阀存储单元

    公开(公告)号:CN102074266A

    公开(公告)日:2011-05-25

    申请号:CN201010593268.2

    申请日:2010-12-17

    IPC分类号: G11C11/15

    CPC分类号: G11C11/161

    摘要: 本发明公开了一种稳定剩磁态的自旋阀存储单元,是在基片往上依次设置缓冲层、铁磁层F1、反铁磁层、隔离层、铁磁层F1和覆盖层,其特征在于,该单元为菱形单元,且长轴与短轴之比等于或大于2。本发明的有益效果:通过将常用的椭圆存储单元形状改为菱形,降低了对制备工艺的要求,且通过微磁学模拟,发现菱形单元在长轴L与短轴W之比大于等于2的条件下,其剩磁态呈现单畴态,满足信息稳定存储的要求。

    磁性存储器的写入方法
    88.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101290796B

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200710197175.6

    申请日:2007-12-10

    发明人: 何家骅

    IPC分类号: G11C11/15

    CPC分类号: G11C11/16

    摘要: 一种磁性存储器的写入方法。磁性存储器包括第一磁性固定层、第二磁性固定层及磁性自由层。第一磁性固定层固定于第一磁性方向,第二磁性固定层固定于第二磁性方向。磁性自由层可磁化为第一磁性方向或第二磁性方向。写入方法包括:(a)施加外加磁场于磁性自由层;以及(b)提供第一电子流通过磁性自由层,以磁化磁性自由层为第一磁性方向或该第二磁性方向。

    一种环状含金属芯的磁性多层膜及其制备方法和用途

    公开(公告)号:CN1992105B

    公开(公告)日:2011-05-04

    申请号:CN200510135370.7

    申请日:2005-12-31

    摘要: 本发明涉及一种环状含金属芯的磁性多层膜,包括一常规的磁性多层膜的各层;其特征在于:所述的磁性多层膜的横截面呈闭合的环状,该圆环的内径为10~100000nm,外径为20~200000nm;还包括位于该环状多层膜的几何中心位置的一个金属芯,该金属芯的直径为5~50000nm。按照形成的材料分类,本发明的环状含金属芯的磁性多层膜包括无钉扎型环状含金属芯的磁性多层膜和钉扎型环状含金属芯的磁性多层膜,其可以通过微加工方法或绝缘体微米、亚微米或纳米颗粒掩模两种方法来制备。本发明的环状含金属芯的磁性多层膜无退磁场,形状各向异性微弱,能够广泛应用于以磁性多层膜为核心的各种器件,例如,磁性随机存取存储器,计算机磁头,磁敏传感器等。