电镀用粘着片
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102010676A

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN200910223496.8

    申请日:2009-11-17

    摘要: 本发明总体涉及电镀用粘着片(胶带),更具体地说涉及这样的粘着片(胶带),其在QFN工艺期间对引线框架的一侧进行电镀时保护引线框架的另一侧避免渗入电镀液,并然后与其剥离,该粘着片在电镀工艺期间提供高的耐化学品性并且其不仅确保部件优异的尺寸稳定性而且还可以剥下并在剥离时不留下任何残留物,从而保证了可靠性和可加工性。为实现以上目的,本发明的电镀用粘着片包括基底和在该基底的至少一侧上形成的粘着剂层,所述粘着剂层涂覆有含有能热固化的粘着剂树脂和热固化剂的粘着剂组合物。所述粘着剂组合物优选进一步包含能够能量束固化的基于丙烯酸类的低聚物树脂和能量束引发剂。

    用于制造电子部件的粘合带

    公开(公告)号:CN102753640B

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN200980140767.1

    申请日:2009-03-09

    摘要: 本发明涉及用于制造电子部件的粘合带。更具体地,在所述电子部件中,粘合层在室温下没有粘附性,仅在加热层压过程中显示粘附性,以能够将所述粘合带附着至引线框。在制造半导体装置的过程中,该粘合带对热处理显示优越的耐热性。这可以通过粘合层的附加光固化形成部分互穿的聚合物网络来实现。所述粘合带用于在制造半导体装置的过程期间增强半导体装置的可靠性、避免封装材料泄漏、而且避免在完成制造过程之后除去所述带时,将粘合剂转移至引线框或封装材料。为此目的,用于制造电子部件的粘合带包含耐热基材和粘合层,其中在所述耐热基材上涂布粘合剂组合物,其特征在于,所述粘合剂组合物包含苯氧基树脂、固化剂、可能量射线固化的丙烯酸类树脂和光引发剂,并且通过热和能量射线将所述粘合层固化。

    用于制造电子部件的粘合带

    公开(公告)号:CN102753640A

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:CN200980140767.1

    申请日:2009-03-09

    摘要: 本发明涉及用于制造电子部件的粘合带。更具体地,在所述电子部件中,粘合层在室温下没有粘附性,仅在加热层压过程中显示粘附性,以能够将所述粘合带附着至引线框。在制造半导体装置的过程中,该粘合带对热处理显示优越的耐热性。这可以通过粘合层的附加光固化形成部分互穿的聚合物网络来实现。所述粘合带用于在制造半导体装置的过程期间增强半导体装置的可靠性、避免封装材料泄漏、而且避免在完成制造过程之后除去所述带时,将粘合剂转移至引线框或封装材料。为此目的,用于制造电子部件的粘合带包含耐热基材和粘合层,其中在所述耐热基材上涂布粘合剂组合物,其特征在于,所述粘合剂组合物包含苯氧基树脂、固化剂、可能量射线固化的丙烯酸类树脂和光引发剂,并且通过热和能量射线将所述粘合层固化。

    染料敏化太阳能电池用聚合物电解质和使用其制造染料敏化太阳能电池模块的方法

    公开(公告)号:CN102334195A

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN201080009780.6

    申请日:2010-03-22

    IPC分类号: H01L31/042

    摘要: 本发明提供染料敏化太阳能电池用聚合物电解质和使用其制造染料敏化太阳能电池模块的方法,更具体地,本发明涉及不仅可以防止电解质泄漏、而且与常规聚合物电解质相比显示更高太阳能转换效率、并且适用于制造具有大表面积的染料敏化太阳能电池或柔性染料敏化太阳能电池的工艺的染料敏化太阳能电池用聚合物电解质和使用其制造染料敏化太阳能电池模块的方法,所述泄漏是使用液体电解质的常规染料敏化太阳能电池中的最差缺点之一。根据本发明的染料敏化太阳能电池用聚合物电解质包含热固性环氧树脂、咪唑类固化促进剂和金属盐,并且使用所述染料敏化太阳能电池用聚合物电解质制造染料敏化太阳能电池模块的方法的特征在于,使用上述染料敏化太阳能电池用聚合物电解质,其中所述染料敏化太阳能电池用聚合物电解质用作工作电极和对电极之间的粘合物,并且最终粘合形式保持为固相。

    用于加工半导体薄膜晶片的晶片支撑粘合膜

    公开(公告)号:CN102150240A

    公开(公告)日:2011-08-10

    申请号:CN200980118992.5

    申请日:2009-01-15

    摘要: 本发明提供了用于制造半导体薄膜晶片的晶片支撑粘合膜,所述半导体薄膜晶片在半导体晶片的膜减薄工艺期间不需要单独的粘合装置,所述晶片支撑粘合膜不受半导体晶片尺寸的任何限制,其通过在耐热基材上涂布丙烯酸类粘合剂层而防止研磨水渗透,其在剥离期间不在电路表面上留下任何粘合剂层且因此不需要附加的洗涤工艺,从而防止了在复杂的工艺期间可能发生的半导体晶片中的损伤以及电路表面的污染。为此,本发明的所述用于制造半导体薄膜晶片的晶片支撑粘合膜包含耐热基材和涂布在耐热基材上的耐热粘合剂层,其中所述耐热粘合剂层包含分子量为500,000~3,000,000的丙烯酸类共聚物、可能量束固化的丙烯酸类低聚物和光引发剂。