公开(公告)号：CN104733379B

公开(公告)日：2019-03-12

申请号：CN201410814198.7

申请日：2014-12-23

申请人： 新科金朋有限公司

发明人： P.C.马里穆图 ,  林耀剑 ,  崔源璟 ,  沈一权

IPC分类号： H01L21/768 ,  H01L23/522 ,  H01L23/28

摘要： 本发明涉及在半导体管芯上形成细节距的RDL的半导体器件和方法。半导体器件具有包括多个导电迹线的第一导电层。第一导电层形成在衬底上。利用窄节距形成导电迹线。在第一导电层上放置第一半导体管芯和第二半导体管芯。在第一和第二半导体管芯上沉积第一密封剂。移除衬底。在第一密封剂上沉积第二密封剂。在第一导电层和第二密封剂上形成堆积互连结构。堆积互连结构包括第二导电层。在第一密封剂中放置第一无源器件。在第二密封剂中放置第二无源器件。在第二密封剂中放置垂直互连单元。第三导电层形成在第二密封剂上并且经由垂直互连单元电气连接到堆积互连结构。

公开(公告)号：CN110098147A

公开(公告)日：2019-08-06

申请号：CN201910221890.1

申请日：2013-12-11

申请人： 新科金朋有限公司

发明人： P.C.马里穆图 ,  沈一权 ,  林耀剑 ,  崔源璟

IPC分类号： H01L21/768 ,  H01L21/56 ,  H01L23/488 ,  H01L23/48 ,  H01L23/498 ,  H01L23/538 ,  H01L25/065

摘要： 本发明涉及半导体器件和形成具有垂直互连单元的低轮廓扇出式封装的方法。一种半导体器件包括半导体管芯。第一互连结构被设置在半导体管芯的外围区上。半导体部件被设置在半导体管芯上。半导体部件包括第二互连结构。半导体部件被设置在半导体管芯上以使第二互连结构与第一互连结构对准。第一互连结构包括多个互连单元，该多个互连单元围绕半导体管芯的第一和第二相邻侧设置以形成互连单元的围绕半导体管芯的L形边界。第三互连结构被形成在半导体管芯上，与第一互连结构垂直。绝缘层被形成在半导体管芯和第一互连结构上。形成通过绝缘层且进入第一互连结构的多个通孔，其中第二互连结构被设置在该通孔内。

公开(公告)号：CN104733379A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201410814198.7

申请日：2014-12-23

申请人： 新科金朋有限公司

发明人： P.C.马里穆图 ,  林耀剑 ,  崔源璟 ,  沈一权

IPC分类号： H01L21/768 ,  H01L23/522 ,  H01L23/28

CPC分类号： H01L25/0652 ,  H01L21/561 ,  H01L21/568 ,  H01L23/3114 ,  H01L23/5383 ,  H01L23/5384 ,  H01L23/5385 ,  H01L23/5389 ,  H01L24/97 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2924/12041 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/19105 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012

摘要： 本发明涉及在半导体管芯上形成细节距的RDL的半导体器件和方法。半导体器件具有包括多个导电迹线的第一导电层。第一导电层形成在衬底上。利用窄节距形成导电迹线。在第一导电层上放置第一半导体管芯和第二半导体管芯。在第一和第二半导体管芯上沉积第一密封剂。移除衬底。在第一密封剂上沉积第二密封剂。在第一导电层和第二密封剂上形成堆积互连结构。堆积互连结构包括第二导电层。在第一密封剂中放置第一无源器件。在第二密封剂中放置第二无源器件。在第二密封剂中放置垂直互连单元。第三导电层形成在第二密封剂上并且经由垂直互连单元电气连接到堆积互连结构。

公开(公告)号：CN103943553B

公开(公告)日：2019-04-23

申请号：CN201310669363.X

申请日：2013-12-11

申请人： 新科金朋有限公司

发明人： P.C.马里穆图 ,  沈一权 ,  林耀剑 ,  崔源璟

IPC分类号： H01L21/768 ,  H01L23/528

摘要： 本发明涉及半导体器件和形成具有垂直互连单元的低轮廓扇出式封装的方法。一种半导体器件包括半导体管芯。第一互连结构被设置在半导体管芯的外围区上。半导体部件被设置在半导体管芯上。半导体部件包括第二互连结构。半导体部件被设置在半导体管芯上以使第二互连结构与第一互连结构对准。第一互连结构包括多个互连单元，该多个互连单元围绕半导体管芯的第一和第二相邻侧设置以形成互连单元的围绕半导体管芯的L形边界。第三互连结构被形成在半导体管芯上，与第一互连结构垂直。绝缘层被形成在半导体管芯和第一互连结构上。形成通过绝缘层且进入第一互连结构的多个通孔，其中第二互连结构被设置在该通孔内。

公开(公告)号：CN103943553A

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN201310669363.X

申请日：2013-12-11

申请人： 新科金朋有限公司

发明人： P.C.马里穆图 ,  沈一权 ,  林耀剑 ,  崔源璟

IPC分类号： H01L21/768 ,  H01L23/528

CPC分类号： H01L23/481 ,  H01L21/568 ,  H01L23/49833 ,  H01L23/5389 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L24/19 ,  H01L24/94 ,  H01L24/96 ,  H01L25/0657 ,  H01L2224/03 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/03452 ,  H01L2224/03462 ,  H01L2224/03464 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/04105 ,  H01L2224/05548 ,  H01L2224/05567 ,  H01L2224/05611 ,  H01L2224/05624 ,  H01L2224/05639 ,  H01L2224/05644 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/05655 ,  H01L2224/1132 ,  H01L2224/11334 ,  H01L2224/1134 ,  H01L2224/1145 ,  H01L2224/11462 ,  H01L2224/11464 ,  H01L2224/11849 ,  H01L2224/11901 ,  H01L2224/12105 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/13113 ,  H01L2224/13116 ,  H01L2224/13124 ,  H01L2224/13139 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/16237 ,  H01L2224/32145 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/73267 ,  H01L2224/81191 ,  H01L2224/81192 ,  H01L2224/94 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/12041 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/1306 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/18162 ,  H01L2924/3511 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/00

摘要： 本发明涉及半导体器件和形成具有垂直互连单元的低轮廓扇出式封装的方法。一种半导体器件包括半导体管芯。第一互连结构被设置在半导体管芯的外围区上。半导体部件被设置在半导体管芯上。半导体部件包括第二互连结构。半导体部件被设置在半导体管芯上以使第二互连结构与第一互连结构对准。第一互连结构包括多个互连单元，该多个互连单元围绕半导体管芯的第一和第二相邻侧设置以形成互连单元的围绕半导体管芯的L形边界。第三互连结构被形成在半导体管芯上，与第一互连结构垂直。绝缘层被形成在半导体管芯和第一互连结构上。形成通过绝缘层且进入第一互连结构的多个通孔，其中第二互连结构被设置在该通孔内。