微加速度传感器的芯片级封装结构及制作方法与划片方法

    公开(公告)号:CN109231153A

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201810959206.5

    申请日:2018-08-22

    发明人: 徐婧 袁轶娟

    摘要: 本发明提供一种微加速度传感器的芯片级封装结构,包括盖板单晶硅圆片、微加速度传感器结构,微加速度传感器结构上的金属引线通过盖板单晶硅圆片的凸点转移到盖板单晶硅圆片上,盖板单晶硅圆片下部的空腔通过圆片对准键与所述微加速度传感器结构形成一个密封的真空腔体结构,本发明的有益效果在于:采用圆片级封装将微加速度传感器进行封装组合,可以大大提高器件封装效率,封装后器件的体积也可以大大减小,并且封装后器件可以通过贴片的方式与外围电路连接,不需要采用金属管壳,封装成本亦可大大降低;同时,由于在芯片分割前,进行了封装,这就保护了器件的敏感元件不受后续工艺的影响,提高了器件的成品率。

    制造晶圆级封装的MEMS组件的方法和MEMS组件

    公开(公告)号:CN108862185A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201810437158.3

    申请日:2018-05-09

    IPC分类号: B81B7/02 B81C1/00

    摘要: 一种制造方法,包括:提供半导体衬底,在半导体衬底的第一主表面区域上具有带有凹槽的布线层堆叠,其中在半导体衬底的第一主表面区域处,MEMS器件裸露地布置在布线层堆叠的凹槽中,并且其中在布线层堆叠的金属化区域处布置有突出的过孔元件;将在中间阶段中固化的b阶材料层施加到在布线层堆叠上,从而使在布线层堆叠中的凹槽被由b阶材料层覆盖,并且还使该垂直突出的过孔元件被加入到b阶材料层中;固化b阶材料层,以获得经固化的b阶材料层;使经固化的b阶材料层薄化,以裸露过孔元件的端表面区域;并且将RDL结构(RDL=再分布层)施加到经薄化和固化的b阶材料层上,以便经由过孔元件获得布线层堆叠与RDL结构之间的电连接。

    一种压力传感器及其制作方法

    公开(公告)号:CN106946213A

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201710385541.4

    申请日:2017-05-26

    IPC分类号: B81B3/00 B81C1/00 G01L11/00

    摘要: 本发明公开了一种压力传感器及其制作方法,具有:电路板,电路板侧边设有向内凹陷的弧形边,电路板上还设有电路板焊盘和定位孔;芯片,其安装在电路板的下部;壳体,壳体内设有第一安装槽,第一安装槽槽底设有第二安装槽,芯片安装在第二安装槽内,第二安装槽的槽底设有通气孔;电路板安装在第一安装槽内;第二安装槽的槽口四周设有台阶;台阶外周设有沟槽,沟槽内灌注硅胶,定位柱与电路板上的定位孔相适配;壳体上还设有插针焊盘,插针焊盘与电路板通过铝丝键合线键合;凝胶,填充第一安装槽,传感器抗腐蚀性良好、长期稳定性好以及过载能力高。

    用于射频微机电系统的圆片级封装结构及其封装方法

    公开(公告)号:CN106927419A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201710150940.2

    申请日:2017-03-14

    发明人: 刘泽文 龚著浩

    IPC分类号: B81B7/00 B81B7/02 B81C1/00

    摘要: 本发明涉及一种用于射频微机电系统的圆片级封装结构及其封装方法,其包括有衬底,衬底上分布有微波传输层与电学连接层,微波传输层上连接有射频微机电系统器件,衬底通过有机材料封装区和非有机材料封装区与封装顶盖键合在一起,封装顶盖内设置有封装腔,射频微机电系统器件位于封装腔内,微波传输层从有机材料封装区通过,电学连接线从非有机材料封装区引出。由此,封装结构避免了传统的衬底打通孔工艺,利用较简单的工艺将射频信号通过微波传输线从有机材料中引出。存在非有机材料封装区,弥补了仅有有机材料封装时的气密性和键合强度不足的问题。能有效保证射频微机电系统器件的可动结构部分受到保护,提高了射频微机电系统器件的可靠性。

    复合型基板及其制备方法

    公开(公告)号:CN106564856A

    公开(公告)日:2017-04-19

    申请号:CN201610954814.8

    申请日:2016-10-27

    申请人: 东南大学

    发明人: 尚金堂 罗斌 张瑾

    IPC分类号: B81C1/00 B81B7/02

    摘要: 本发明公开了一种复合型基板及其制备方法,所述复合型基板包括玻璃部分;硅部分;嵌入导电部分;其中,复合型基板的主体为玻璃部分或硅部分;所述复合型基板的厚度范围50μm‑1mm。本发明采用因瓦合金、超因瓦合金或金属玻璃中的一种作为嵌入导电部分的材料,这几种材料导电性良好,且与玻璃部分和硅部分的热膨胀系数匹配或相差不大,相比于采用铜材料,复合型基板的可靠性大大增强。