利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

114 条记录 (耗时 0.018 秒)

    Ionenquelle
    4.
    发明公开
    Ionenquelle 审中-公开

    公开(公告)号：EP2639453A1

    公开(公告)日：2013-09-18

    申请号：EP13450011.5

    申请日：2013-03-05

    申请人： FOTEC Forschungs- und Technologietransfer GmbH

    发明人： Buldrini, Nembo ,  Vasiljevich, Ivanhoe ,  Genovese, Angelo

    IPC分类号： F03H1/00 ,  H01J27/26

    CPC分类号： H01J27/26 ,  F03H1/005

    摘要： Bei einer Ionenquelle mit einer Mehrzahl von einem Transport wenigstens eines Emissionsstoffs dienenden, insbesondere nadelförmigen Elementen (2), welche in einer gemeinsamen Halterung (7) angeordnet sind und an welche eine Spannung anlegbar ist, wobei in Abstand von Austrittsenden der Elemente (2) wenigstens eine Gegenelektrode (4) zur Ausbildung eines elektrischen Felds zwischen den gemeinsam mit der Halterung (7) eine Elektrode bildenden Elementen (2) und der Gegenelektrode (4) für eine Beschleunigung der durch die Elemente (2) emittierten Ionen des Emissionsstoffs vorgesehen ist, ist vorgesehen, dass die Halterung (7) eine die Mehrzahl von nadelförmigen Elementen (2) umgebende, insbesondere ringförmige Erhebung (3) aufweist, an welche die an die Elemente (2) angelegte Spannung angelegt ist, und dass die Gegenelektrode (4) die Halterung (7) sowie die nadelförmigen Elemente (2) in Abstand umgibt und entsprechend der Positionierung derselben mit einer Durchtrittsöffnung (5) ausgebildet ist, welche zumindest der Abmessung (R) der Erhebung (3) der Halterung (7) entspricht. Derart wird von der Mehrzahl von Elementen (2) ein gleichmäßiges bzw. gleichförmiges elektrisches Feld wahrgenommen, um die Ausbringung eines gerichteten Strahls (11) des Emissionsstoffs zu unterstützen.

    摘要翻译： 源具有布置在公共保持器（7）中的针状元件（2）。 相对电极（4）设置在元件的输出端一定距离处，用于在元件和电极之间形成电场，以加速由元件发射的发射物质的离子。 支架包括围绕元件的环状高度（3）。 电极围绕保持器和元件一段距离，并且设计有与电极的定位对应的通道开口（5），其中开口对应于高度的尺寸（R）。

    Stable emission gas ion source and method of operation thereof
    8.
    发明公开
    Stable emission gas ion source and method of operation thereof 有权
    Gasionenquelle mit stabilizationer Emission und Betriebsverfahrendafür

    公开(公告)号：EP2110843A1

    公开(公告)日：2009-10-21

    申请号：EP08154576.6

    申请日：2008-04-15

    申请人： ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH

    发明人： Winkler, Dieter ,  Weigel, Udo ,  Grimm, Stefan

    IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J27/26

    CPC分类号： H01J37/08 ,  H01J27/26 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/28

    摘要： A method of operating a focused ion beam device for emitting during operation a focused ion beam including ions of a gas generated at a first partial pressure, comprising cleaning an emitter tip positioned in an emitter tip region of the focused ion beam device, the cleaning comprises introducing the gas into the emitter tip region such that the gas has a second partial pressure of at least two times the first pressure. Further, a focused ion beam device is provided, comprising a gas field emitter tip (13) in an emitter tip region emitting an ion beam including ions of a gas, a gas inlet for supplying a gas with different pressures (110), a gas outlet (120), a pressure measurement device for measuring the pressure in the emitter tip region and a control unit (130) for controlling switching between an operation mode and a cleaning mode, further controlling the pressures in the emitter tip region and being connected to the pressure measurement device.

    摘要翻译： 一种操作聚焦离子束装置的方法，用于在操作期间发射包括以第一分压产生的气体的离子的聚焦离子束，包括清洁位于聚焦离子束装置的发射极尖端区域中的发射极尖端，所述清洁包括 将气体引入发射极尖端区域，使得气体具有至少两倍于第一压力的第二分压。 此外，提供了一种聚焦离子束装置，其包括发射极尖端区域中的气体发射极尖端（13），其发射包括气体离子的离子束，用于供应不同压力的气体的气体入口（110），气体 出口（120），用于测量发射极尖端区域中的压力的​​压力测量装置和用于控制操作模式和清洁模式之间的切换的控制单元（130），进一步控制发射极尖端区域中的压力并连接到 压力测量装置。