利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

93 条记录 (耗时 0.027 秒)

    ポリマ粒子を製造する方法
    3.
    发明专利
    ポリマ粒子を製造する方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018154798A

    公开(公告)日：2018-10-04

    申请号：JP2017054901

    申请日：2017-03-21

    申请人： 日立化成株式会社

    发明人： 安江 健 ,  渡邊 優 ,  河内 史彦 ,  後藤 泰史 ,  佛願 道男

    IPC分类号： C08F2/00 ,  C08F22/38 ,  C08F2/22

    摘要： 【課題】単分散性の高いポリマ粒子を、継続的に安定して製造できる方法を提供すること。 【解決手段】乳化装置1の流路10内で、モノマを含むモノマ液20を水性液25と混合して、分散相としてのモノマ液の液滴21と連続相としての水性液25とを含有する乳化液30を形成させる工程と、乳化液30中でモノマを重合させて、モノマの重合体を含むポリマ粒子を形成させる工程とを含む、ポリマ粒子を製造する方法が開示される。流路の表面10Sが、両性ポリマを含むコーティング膜で覆われている。 【選択図】図1

    Monomer compound comprising several cationic groups, polymers comprising methods and units derived therefrom to produce it
    7.
    发明专利
    Monomer compound comprising several cationic groups, polymers comprising methods and units derived therefrom to produce it 有权

    公开(公告)号：JP2005528438A

    公开(公告)日：2005-09-22

    申请号：JP2004509629

    申请日：2003-06-03

    申请人： ローディア インコーポレイティド

    发明人： チャオキン リュウ，レオ

    IPC分类号： C07D295/12 ,  C07C233/38 ,  C07C237/10 ,  C08F20/34 ,  C08F20/60 ,  C08F22/38 ,  C11D3/37

    CPC分类号： C08F20/60 ,  C07C237/10 ,  C08F20/34 ,  C11D3/3769

    摘要： 【化１】

    数個のカチオン基を含むモノマー化合物が提供される。 本発明はまた、これらのモノマー化合物を製造する方法に関する。 該方法は高度に選択性であり、そして不所望構造に通じる不所望反応を防ぐ。 本発明はまた、該モノマー化合物に由来する単位を含むポリマー（コポリマーを含めて）に関する。 該モノマー化合物は数個のカチオン基を含み、しかしてたとえば式（Ｉ）を有するものであり、ここでＲ
    1 は水素原子、メチル基又はエチル基であり、Ａは同一又は異なりそして式−Ａ
    1 −Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ａ
    2 −のエステル基又は式−Ａ
    1 −Ｃ（Ｏ）−ＮＲ
    10 −Ａ
    2 −のアミド基（ここで、Ｒ
    10 は同一又は異なりそして水素又はアルキル、ヒドロキシアルキル若しくはアミノアルキルＣ
    1 〜Ｃ
    6 線状若しくは分枝状基であり、Ａ
    1 は同一又は異なりそして共有結合又は式−（ＣＨ
    2 ）
    p1 −（ここで、ｐ１は１から６の整数好ましくは１である）の基であり、Ａ
    2 は同一又は異なりそして線状又は分枝状炭化水素基であり、しかもこの炭化水素基は、Ｎ、Ｏ又はＳのヘテロ原子又はヘテロ基を随意に含み、随意に置換され、複素環のような環を随意に形成し又は含み、そしてＡ
    2 は好ましくは式−（ＣＨ
    2 ）
    p2 −（ここで、ｐ２は１から６の整数である）の基である）
    を含む基であり、Ｒ
    1 、Ｒ
    2 、Ｒ
    3 、Ｒ
    5 及びＲ
    6 は同一又は異なりそして水素、アルキル、ヒドロキシアルキル又はアミノアルキルＣ
    1 〜Ｃ
    6 線状又は分枝状基であり、あるいは角括弧内にある場合基Ａ
    2 と複素環を形成し、ｍは１から１０好ましくは１から２の整数であり、ｎは１から６好ましくは２又は４の整数であり、Ｚは−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ又は−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−であり、Ｂは線状又は分枝状Ｃ
    2 〜Ｃ
    12 ポリメチレン鎖好ましくはＣ
    3 〜Ｃ
    6 のものであり、しかもこのポリメチレン鎖は、Ｏ又はＮＨのようなヘテロ原子又はヘテロ基を随意に含み及び１個又は数個のヒドロキシ又はアミノ基で随意に置換され、そしてＸ
    - は同一又は異なりそして対イオンである。

    Positive type photoresist composition
    8.
    发明专利
    Positive type photoresist composition 有权
    正极型光电组合物

    公开(公告)号：JP2004078105A

    公开(公告)日：2004-03-11

    申请号：JP2002241946

    申请日：2002-08-22

    申请人： Fuji Photo Film Co Ltd ,  富士写真フイルム株式会社

    发明人： MOMOTA ATSUSHI

    IPC分类号： C08F20/24 ,  C08F22/38 ,  C08F28/02 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive type photosensitive composition which reduces the generation of development defects remarkably. SOLUTION: The positive type resist composition includes (A) an oxime sulfonate compound, (B) a resin which has a specific structural unit, is decomposed by an action of an acid and has consequently its solubility in an alkaline developing liquid increased, and (C) a fluoro aliphatic containing polymeric compound. Thus, the positive type photoresist composition which reduces the generation of defects remarkably, is provided. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

    摘要翻译： 要解决的问题：提供显着减少发育缺陷的产生的正型光敏组合物。 正型抗蚀剂组合物包括（A）肟磺酸盐化合物，（B）具有特定结构单元的树脂通过酸的作用而分解，因此其在碱性显影液中的溶解度增加 ，（C）含氟脂肪族高分子化合物。 因此，提供了显着减少缺陷产生的正型光致抗蚀剂组合物。 版权所有（C）2004，JPO

    MANUFACTURE OF MONODISPERSE POLYMER FINELY DIVIDED PARTICLE
    9.
    发明专利
    MANUFACTURE OF MONODISPERSE POLYMER FINELY DIVIDED PARTICLE 失效

    公开(公告)号：JPH09316106A

    公开(公告)日：1997-12-09

    申请号：JP13657496

    申请日：1996-05-30

    申请人： MITSUBISHI PAPER MILLS LTD

    发明人： KOJIMA CHIKAKO ,  FURUKAWA AKIRA

    IPC分类号： C08F2/04 ,  C08F2/08 ,  C08F20/00 ,  C08F20/20 ,  C08F22/00 ,  C08F22/38 ,  C08F26/06

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain monodisperse polymer finely divided particles good in redispersibility by polymerizing, in an alcoholic solvent having a specified polymer dissolved therein, vinyl monomers soluble in that solvent to produce a polymer insoluble in that solvent. SOLUTION: In an alcoholic solvent, a monomer A denoted by the formula wherein Q denotes a bivalent linking group; R denotes H or a methyl group; R and R each denote H or an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group having 18 or less carbon atoms; and R denotes H, an amino group, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group having 18 or less carbon atoms or -C(NH2 )=NH is polymerized to obtain a polymer dissolved in the alcoholic solvent. One or more monomers that are soluble in that solvent but whose polymer is insoluble or hardly soluble in that solvent are polymerized in that solvent to obtain monodisperse polymer finely divided particles having an average particle diameter of 0.05 to 20μm.