預施加用密封樹脂組成物、半導體晶片及半導體裝置 ENCAPSULATING RESIN COMPOSITION FOR PREAPPLICATION, SEMICONDUCTOR CHIP, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    7.
    发明专利
    預施加用密封樹脂組成物、半導體晶片及半導體裝置 ENCAPSULATING RESIN COMPOSITION FOR PREAPPLICATION, SEMICONDUCTOR CHIP, AND SEMICONDUCTOR DEVICE 审中-公开
    预施加用密封树脂组成物、半导体芯片及半导体设备 ENCAPSULATING RESIN COMPOSITION FOR PREAPPLICATION, SEMICONDUCTOR CHIP, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

    公开(公告)号:TW201235403A

    公开(公告)日:2012-09-01

    申请号:TW101103219

    申请日:2012-02-01

    发明人: 桂山悟 岡大祐

    IPC分类号: C08L C08G C08K H01L

    摘要: 依本發明,提供一種用於晶圓級底填工法的預施加用密封樹脂組成物,利用旋塗法塗佈於半導體晶圓表面時,能形成厚度均勻的塗佈膜。本發明的預施加用密封樹脂組成物係用於得到密封半導體晶片與基板之間隙的密封樹脂層。該密封樹脂層,係利用旋塗法塗佈於具備焊料凸塊之半導體晶圓的具備該焊料凸塊之表面上且使其B-階段化,將該半導體晶圓個片化並將獲得的附塗佈膜之半導體晶片利用焊料凸塊對基板進行覆晶安裝,而由該塗佈膜形成。該預施加用密封樹脂組成物係包含:(A)環氧樹脂、(B)硬化劑、(C)無機填充劑、及(D)溶劑,以黏度a/黏度b所示之觸變比為1.5以下,或含有(E)含胺基之矽烷偶合劑。黏度a:使用布式黏度計,在0.5rpm、25℃測定。黏度b:使用布式黏度計,在2.5rpm、25℃測定。

    简体摘要: 依本发明,提供一种用于晶圆级底填工法的预施加用密封树脂组成物,利用旋涂法涂布于半导体晶圆表面时,能形成厚度均匀的涂布膜。本发明的预施加用密封树脂组成物系用于得到密封半导体芯片与基板之间隙的密封树脂层。该密封树脂层,系利用旋涂法涂布于具备焊料凸块之半导体晶圆的具备该焊料凸块之表面上且使其B-阶段化,将该半导体晶圆个片化并将获得的附涂布膜之半导体芯片利用焊料凸块对基板进行覆晶安装,而由该涂布膜形成。该预施加用密封树脂组成物系包含:(A)环氧树脂、(B)硬化剂、(C)无机填充剂、及(D)溶剂,以黏度a/黏度b所示之触变比为1.5以下,或含有(E)含胺基之硅烷偶合剂。黏度a:使用布式黏度计,在0.5rpm、25℃测定。黏度b:使用布式黏度计,在2.5rpm、25℃测定。