晶片封裝體及其製造方法、半導體電鍍系統
    3.
    发明专利
    晶片封裝體及其製造方法、半導體電鍍系統 审中-公开
    芯片封装体及其制造方法、半导体电镀系统

    公开(公告)号:TW201639111A

    公开(公告)日:2016-11-01

    申请号:TW104126716

    申请日:2015-08-17

    IPC分类号: H01L25/065 H01L23/522

    CPC分类号: H01L2224/11

    摘要: 一種晶片封裝體包含晶片、絕緣層與重佈線層。晶片具有基底、焊墊與保護層。基底具有相對的第一表面與第二表面。保護層位於第一表面上。焊墊位於保護層中。基底具有穿孔,保護層具有凹孔,使焊墊從凹孔與穿孔裸露。絕緣層位於第二表面、穿孔的壁面與凹孔的壁面上。重佈線層包含連接部與被動元件部。連接部位於絕緣層上,且電性接觸焊墊。被動元件部位於在第二表面的絕緣層上,且被動元件部的一端連接在第二表面上的連接部。

    简体摘要: 一种芯片封装体包含芯片、绝缘层与重布线层。芯片具有基底、焊垫与保护层。基底具有相对的第一表面与第二表面。保护层位于第一表面上。焊垫位于保护层中。基底具有穿孔,保护层具有凹孔,使焊垫从凹孔与穿孔裸露。绝缘层位于第二表面、穿孔的壁面与凹孔的壁面上。重布线层包含连接部与被动组件部。连接部位于绝缘层上,且电性接触焊垫。被动组件部位于在第二表面的绝缘层上,且被动组件部的一端连接在第二表面上的连接部。