公开(公告)号：US4500544A

公开(公告)日：1985-02-19

申请号：US412075

申请日：1982-08-27

申请人： Tomoyoshi Hosokawa ,  Ikutoshi Matsuura ,  Hidenori Takahashi ,  Kunio Ando ,  Gakuzo Tamura

发明人： Tomoyoshi Hosokawa ,  Ikutoshi Matsuura ,  Hidenori Takahashi ,  Kunio Ando ,  Gakuzo Tamura

IPC分类号： C07C59/125 ,  A61K31/215 ,  C07C59/92 ,  C07C69/738 ,  C07C403/00 ,  C07D213/79 ,  C07D213/80 ,  A61K31/19

CPC分类号： C07D213/79 ,  C07C403/14 ,  C07D213/80 ,  C07C2101/14

摘要： Ascochlorin derivatives of the formula: ##STR1## wherein R is a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a pyridyl group, an amino group, a dialkylamino group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent in the nucleus, or a phenyl group which may have a substituent in the nucleus; and n is an integer of 0 to 5, a process for preparing the same and a pharmaceutical composition containing the same are disclosed.The derivatives are useful to treat diabetes, improve lipid metabolism and control tumors.

摘要翻译： 或者苯基，其中R为羟基，低级烷氧基，吡啶基，氨基，二烷基氨基，在核中可具有取代基的苯氧基烷基，或苯基， 可能在细胞核中具有取代基; n为0〜5的整数，其制备方法和含有该组合物的药物组合物。 该衍生物可用于治疗糖尿病，改善脂质代谢和控制肿瘤。

公开(公告)号：US09568824B2

公开(公告)日：2017-02-14

申请号：US13193235

申请日：2011-07-28

申请人： Toshiya Takahashi ,  Hideaki Tsubaki ,  Hiroshi Tamaoki ,  Hidenori Takahashi

发明人： Toshiya Takahashi ,  Hideaki Tsubaki ,  Hiroshi Tamaoki ,  Hidenori Takahashi

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322

摘要： Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, includes a resin (P) containing a repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and a repeating unit (B) with a structure that when acted on by an acid, is decomposed to thereby increase its solubility in an alkali developer, and a compound (U) structured so that when the composition is formed into a film, the compound is unevenly distributed in a surface of the film.

摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线或辐射敏感性树脂组合物，其包含含有重复单元（A）的树脂（P），当将其暴露于光化射线或辐射时，分解出酸和重复单元（B） 具有当被酸作用时的结构被分解，从而增加其在碱性显影剂中的溶解度，以及组合物（U），使得当组合物形成膜时，化合物不均匀地分布在 这个电影。

公开(公告)号：US09223204B2

公开(公告)日：2015-12-29

申请号：US13669530

申请日：2012-11-06

申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。

公开(公告)号：US08963457B2

公开(公告)日：2015-02-24

申请号：US13392372

申请日：2011-09-21

申请人： Yoshinobu Sugiyama ,  Hidenori Takahashi

发明人： Yoshinobu Sugiyama ,  Hidenori Takahashi

IPC分类号： H02P1/00 ,  H02P3/00 ,  B60L11/18 ,  H02J1/00 ,  H02J7/00

CPC分类号： B60L11/1816 ,  B60L3/0046 ,  B60L11/1803 ,  B60L11/1859 ,  B60L11/1861 ,  B60L11/1864 ,  B60L2210/14 ,  B60L2210/30 ,  B60L2240/545 ,  B60L2240/547 ,  B60L2240/549 ,  B60L2250/10 ,  B60L2250/16 ,  B60L2270/20 ,  H02J1/00 ,  H02J5/00 ,  H02J7/00 ,  H02J7/0029 ,  H02J7/007 ,  H02J7/02 ,  Y02T10/7005 ,  Y02T10/7044 ,  Y02T10/7061 ,  Y02T10/7072 ,  Y02T10/7225 ,  Y02T10/7241 ,  Y02T90/127 ,  Y02T90/14

摘要： An electric storage system includes a charger which supplies power from an external power source to an electric storage apparatus and supplies power of the electric storage apparatus to an external device. A first and a second system main relay allow connection between a positive electrode terminal and a negative electrode terminal of the electric storage apparatus and a load, respectively. A third system main relay is connected in series with a current limiting resistor and, together with the current limiting resistor, is connected in parallel with the first system main relay. A first and a second charge relay allow connection between the positive electrode terminal and the negative electrode terminal of the electric storage apparatus and the charger, respectively. A third charge relay is connected in series with the abovementioned current limiting resistor and, together with the current limiting resistor, is connected in parallel with the first charge relay.

摘要翻译： 电气存储系统包括从外部电源向蓄电装置供电并将蓄电装置的电力供给到外部装置的充电器。 第一和第二系统主继电器分别允许蓄电装置的正极端子和负极端子与负载之间的连接。 第三系统主继电器与限流电阻串联连接，并与限流电阻一起与第一系统主继电器并联连接。 第一和第二充电继电器分别允许蓄电装置的正极端子和负极端子与充电器之间的连接。 第三充电继电器与上述限流电阻串联连接，并与限流电阻一起与第一充电继电器并联连接。

公开(公告)号：US08865389B2

公开(公告)日：2014-10-21

申请号：US13246618

申请日：2011-09-27

申请人： Shuji Hirano ,  Hidenori Takahashi ,  Hideaki Tsubaki

发明人： Shuji Hirano ,  Hidenori Takahashi ,  Hideaki Tsubaki

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, including a resin comprising a repeating unit (A), the a repeating unit (A) containing a structural moiety (S1) that when acted on by an acid, is decomposed to thereby generate an alkali-soluble group and a structural moiety (S2) that when acted on by an alkali developer, is decomposed to thereby increase its rate of dissolution in the alkali developer, and a repeating unit (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid.

摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线或辐射敏感性树脂组合物，其包含含有重复单元（A）的树脂，含有结构部分（S1）的重复单元（A），其在被酸作用时分解成 从而产生碱溶性基团和结构部分（S2），当被碱显影剂作用时，其分解，从而增加其在碱性显影剂中的溶解速率，以及当暴露于光化射线时的重复单元（B） 或辐射，产生酸。

公开(公告)号：US08808947B2

公开(公告)日：2014-08-19

申请号：US12293226

申请日：2007-03-13

申请人： Hidenori Takahashi ,  Shuichiro Osada

发明人： Hidenori Takahashi ,  Shuichiro Osada

IPC分类号： C09B67/00 ,  G02B5/20

CPC分类号： C08F20/36 ,  C08F2/38 ,  C08F20/04 ,  C08F20/10 ,  C08F20/26 ,  C08F20/52 ,  C08F220/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C09B67/009 ,  C09B69/101 ,  C09B69/109 ,  G02B5/20 ,  G03C1/73 ,  G03C1/735 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033

摘要： The present invention provides a polymer compound represented by the following Formula (1) and a method for production thereof, a pigment dispersant, a pigment dispersion composition, and a photocurable composition respectively using the polymer compound, and a color filter and a method for production thereof [R1: an organic linking group having a valency of (m+n); R2: a single bond or a divalent organic linking group; A1: a monovalent organic group containing at least one moiety selected from an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a coordinating oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, an alkoxysilyl group, an epoxy group, an isocyanate group, and a hydroxyl group; m=1 to 8, n=2 to 9 (m+n=3 to 10); and P1: polymer skeleton].

摘要翻译： 本发明提供由下述通式（1）表示的高分子化合物及其制造方法，颜料分散剂，颜料分散组合物和使用该高分子化合物的光固化性组合物，以及滤色器及其制造方法 [R1：具有（m + n）价的有机连接基团; R2：单键或二价有机连接基团; A1：含有选自有机染料结构，杂环结构，酸性基团，具有碱性氮原子的基团，脲基，氨基甲酸酯基，具有配位氧原子的基团的至少一个部分的一价有机基团， 具有4个以上碳原子的烃基，烷氧基甲硅烷基，环氧基，异氰酸酯基和羟基; m = 1〜8，n = 2〜9（m + n = 3〜10）。 和P1：聚合物骨架]。

公开(公告)号：US08790860B2

公开(公告)日：2014-07-29

申请号：US13610271

申请日：2012-09-11

申请人： Kosuke Koshijima ,  Hidenori Takahashi ,  Shuhei Yamaguchi ,  Kei Yamamoto

发明人： Kosuke Koshijima ,  Hidenori Takahashi ,  Shuhei Yamaguchi ,  Kei Yamamoto

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24479

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a hole pattern which has an ultrafine pore diameter (for example, 60 nm or less) and has an excellent cross-sectional shape with excellent local pattern dimensional uniformity; and a resist film, a pattern forming method, a method for preparing an electronic device, and an electronic device, each using the same, are provided.The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin containing 30 mol % or more of a repeating unit (a) represented by the following general formula (I) based on all the repeating units; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation of actinic rays or radiation; and (G) a compound having at least one of a fluorine atom and a silicon atom, and further having basicity or being capable of increasing the basicity by an action of an acid:

摘要翻译： 能够形成具有超细孔径（例如60nm以下）的孔图案并且具有优异的局部图案尺寸均匀性的截面形状优异的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物; 并且提供了各自使用它们的抗蚀剂膜，图案形成方法，制备电子设备的方法和电子设备。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）基于所有重复单元含有30mol％以上由以下通式（I）表示的重复单元（a）的树脂的树脂; （B）能够在光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物; 和（G）具有氟原子和硅原子中的至少一个的化合物，并且还具有碱性或能够通过酸的作用增加碱度：

公开(公告)号：US20140203735A1

公开(公告)日：2014-07-24

申请号：US13392372

申请日：2011-09-21

申请人： Yoshinobu Sugiyama ,  Hidenori Takahashi

发明人： Yoshinobu Sugiyama ,  Hidenori Takahashi

IPC分类号： B60L11/18 ,  H02J7/00

CPC分类号： B60L11/1816 ,  B60L3/0046 ,  B60L11/1803 ,  B60L11/1859 ,  B60L11/1861 ,  B60L11/1864 ,  B60L2210/14 ,  B60L2210/30 ,  B60L2240/545 ,  B60L2240/547 ,  B60L2240/549 ,  B60L2250/10 ,  B60L2250/16 ,  B60L2270/20 ,  H02J1/00 ,  H02J5/00 ,  H02J7/00 ,  H02J7/0029 ,  H02J7/007 ,  H02J7/02 ,  Y02T10/7005 ,  Y02T10/7044 ,  Y02T10/7061 ,  Y02T10/7072 ,  Y02T10/7225 ,  Y02T10/7241 ,  Y02T90/127 ,  Y02T90/14

摘要： An electric storage system includes a charger which supplies power from an external power source to an electric storage apparatus and supplies power of the electric storage apparatus to an external device. A first and a second system main relay allow connection between a positive electrode terminal and a negative electrode terminal of the electric storage apparatus and a load, respectively. A third system main relay is connected in series with a current limiting resistor and, together with the current limiting resistor, is connected in parallel with the first system main relay. A first and a second charge relay allow connection between the positive electrode terminal and the negative electrode terminal of the electric storage apparatus and the charger, respectively. A third charge relay is connected in series with the abovementioned current limiting resistor and, together with the current limiting resistor, is connected in parallel with the first charge relay.

摘要翻译： 电气存储系统包括从外部电源向蓄电装置供电并将蓄电装置的电力供给到外部装置的充电器。 第一和第二系统主继电器分别允许蓄电装置的正极端子和负极端子与负载之间的连接。 第三系统主继电器与限流电阻串联连接，并与限流电阻一起与第一系统主继电器并联连接。 第一和第二充电继电器分别允许蓄电装置的正极端子和负极端子与充电器之间的连接。 第三充电继电器与上述限流电阻串联连接，并与限流电阻一起与第一充电继电器并联连接。

公开(公告)号：US20140100526A1

公开(公告)日：2014-04-10

申请号：US14122084

申请日：2012-05-22

申请人： Mitsutaka Ueda ,  Ryoichi Akai ,  Hidenori Takahashi

发明人： Mitsutaka Ueda ,  Ryoichi Akai ,  Hidenori Takahashi

IPC分类号： A61M5/168 ,  A61M5/142

CPC分类号： A61M5/16813 ,  A61M5/142 ,  A61M5/14228 ,  A61M39/281 ,  A61M39/285 ,  A61M39/286 ,  A61M2205/14 ,  F04B43/0081 ,  F04B43/082 ,  F04B43/1223 ,  F04B49/10

摘要： An infusion pump includes a pump body for holding a roller clamp 7, and a roller movement mechanism 3 for moving a roller 72 of the roller clamp 7 and operating in coordination with manipulation of a door lock mechanism. When the door lock mechanism is in an unlocked state, an infusion tube T is blocked by the roller clamp 72. This configuration reliably prevents free flow even if a door is not closed completely or if the door is accidentally left unlocked. After the finish of infusion treatment, the infusion tube T is blocked by the roller clamp 7 at the moment when the door lock mechanism is unlocked before the opening of the door. This configuration avoids a trouble of removing the infusion tube T from the infusion pump while a user forgets to block the infusion tube by the roller clamp 7.

摘要翻译： 输液泵包括用于保持辊夹具7的泵体和用于移动辊夹7的辊72并与门锁机构的操纵协同操作的辊移动机构3。 当门锁机构处于解锁状态时，输液管T被辊夹具72阻挡。即使门未完全闭合或者门被意外地未锁定，该结构可靠地防止自由流动。 在输液处理完成之后，在门打开之前门锁机构被解锁时，输液管T被滚子夹具7阻挡。 这种构造避免了在用户忘记通过辊夹7阻塞输液管时从输注泵中移除输液管T的麻烦。

公开(公告)号：US08329379B2

公开(公告)日：2012-12-11

申请号：US12748728

申请日：2010-03-29

申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。