利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

60 条记录 (耗时 0.03 秒)

    Optical apparatus for diffracting radiation having wavelength ≦160 nm
    13.
    发明授权
    Optical apparatus for diffracting radiation having wavelength ≦160 nm 失效
    用于衍射具有波长<= 160nm的辐射的光学装置

    公开(公告)号：US06700952B2

    公开(公告)日：2004-03-02

    申请号：US09760091

    申请日：2001-01-11

    申请人： Udo Dinger ,  Martin Ross-Messemer

    发明人： Udo Dinger ,  Martin Ross-Messemer

    IPC分类号： G21K106

    CPC分类号： G03F7/702 ,  G02B5/1828 ,  G02B5/1838 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70158

    摘要： There is provided an optical apparatus for radiation with a wavelength ≦160 nm. The apparatus comprises a mirror with a mirror surface, and a first device for generating elastic oscillations with different acoustic wavelengths on the mirror surface due to surface deformations. Radiation impinging on the mirror surface is diffracted in a predetermined range of angles (&agr;).

    摘要翻译： 提供了一种波长<= 160nm的辐射光学装置。 该装置包括具有镜面的反射镜，以及用于由于表面变形而在镜面上产生具有不同声波长的弹性振荡的第一装置。 撞击在镜面上的辐射在预定的角度范围（α）被衍射。

    Microlithography projection objective and projection exposure apparatus
    14.
    发明授权
    Microlithography projection objective and projection exposure apparatus 失效
    微光投影物镜和投影曝光装置

    公开(公告)号：US06495839B1

    公开(公告)日：2002-12-17

    申请号：US09523297

    申请日：2000-03-10

    申请人： Udo Dinger

    发明人： Udo Dinger

    IPC分类号： G21K500

    CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0657

    摘要： The invention is concerned with a microlithography projection objective device for short wavelength microlithography, preferably

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于短波微光刻的微光刻投影物镜装置，优选<100nm，第一镜（S1），第二镜（S2），第三镜（S3），第四镜（S4）和 第五镜（S5）。 本发明的特征在于，图像侧数值孔径（NA）大于或等于0.10，并且最接近被照射物体的反射镜（优选晶片）的布置方式使得图像 - 至少与最接近晶片的反射镜的使用直径（D）相对应; 图像侧光学自由工作距离至少为最接近晶片的反射镜的使用直径（D）的三分之一和位于20mm和30mm之间的长度的总和; 和/或图像侧光学自由工作距离为至少50mm，优选为60mm。

    Projection system for EUV lithography
    15.
    再颁专利
    Projection system for EUV lithography 有权
    EUV光刻投影系统

    公开(公告)号：USRE42118E1

    公开(公告)日：2011-02-08

    申请号：US11981511

    申请日：2007-10-31

    申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jûrgen Mann ,  Udo Dinger

    发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jûrgen Mann ,  Udo Dinger

    IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70275

    摘要： An EUV optical projection system includes at least six reflecting surfaces for imaging an object (OB) on an image (IM). The system is preferably configured to form an intermediate image (IMI) along an optical path from the object (OB) to the image (IM) between a secondary mirror (M2) and a tertiary mirror (M3), such that a primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2) form a first optical group (G1) and the tertiary mirror (M3), a fourth mirror (M4), a fifth mirror (M5) and a sixth mirror (M6) form a second optical group (G2). The system also preferably includes an aperture stop (APE) located along the optical path from the object (OB) to the image (IM) between the primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2). The secondary mirror (M2) is preferably concave, and the tertiary mirror (M3) is preferably convex. Each of the six reflecting surfaces preferably receives a chief ray (CR) from a central field point at an incidence angle of less than substantially 15°. The system preferably has a numerical aperture greater than 0.18 at the image (IM). The system is preferably configured such that a chief ray (CR) converges toward the optical axis (OA) while propagating between the secondary mirror (M2) and the tertiary mirror (M3).

    摘要翻译： EUV光学投影系统包括用于对图像（IM）上的物体（OB）进行成像的至少六个反射表面。 该系统优选地被配置成沿着从物体（OB）到次级反射镜（M2）和第三反射镜（M3）之间的图像（IM）的光路形成中间图像（IMI），使得主反射镜 M1）和副镜（M2）形成第一光学组（G1），第三反射镜（M3），第四反射镜（M4），第五反射镜（M5）和第六反射镜（M6）形成第二光学组 （G2）。 该系统还优选地包括沿着从物体（OB）到主镜（M1）和副镜（M2）之间的图像（IM）的光路定位的孔径光阑（APE）。 副镜（M2）优选为凹面，第三反射镜（M3）优选为凸面。 六个反射表面中的每一个优选地以小于大约15°的入射角从中心场点接收主光线（CR）。 该系统优选地在图像（IM）处具有大于0.18的数值孔径。 优选地，该系统被配置为使得主光线（CR）在副反射镜（M2）和第三反射镜（M3）之间传播的同时朝向光轴（OA）会聚。

    BUNDLE-GUIDING OPTICAL COLLECTOR FOR COLLECTING THE EMISSION OF A RADIATION SOURCE
    16.
    发明申请
    BUNDLE-GUIDING OPTICAL COLLECTOR FOR COLLECTING THE EMISSION OF A RADIATION SOURCE 有权
    用于收集辐射源排放的组合光学收集器

    公开(公告)号：US20100231882A1

    公开(公告)日：2010-09-16

    申请号：US12726081

    申请日：2010-03-17

    申请人： Udo Dinger ,  Christopher Weth

    发明人： Udo Dinger ,  Christopher Weth

    IPC分类号： G03B27/54 ,  G02B5/10 ,  G02B5/09 ,  G02B7/185

    CPC分类号： G03F7/70175 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/09 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/702 ,  G21K2201/064

    摘要： A bundle-guiding optical collector collects an emission of a radiation source and forms a radiation bundle from the collected emission. A reflective surface of the collector is the first bundle-forming surface downstream of the radiation source. The reflective surface is formed such that it converts the radiation source into a family of images in a downstream plane. The family of images includes a plurality of radiation source images which are offset to each other in two dimensions (x, y) in a direction perpendicular to the beam direction of the transformed radiation bundle and are arranged relative to each other in a non-rotationally symmetric manner relative to the beam direction of the transformed radiation bundle. The transformed radiation bundle in the downstream plane has a non-rotationally symmetric bundle edge contour relative to the beam direction of the transformed radiation bundle. The result is a collector in which the radiation bundle shape generated by the collector. In other words, the illumination distribution generated by the collector in a defined manner in the plane downstream of the collector has a shape which is freely selectable to the greatest possible extent.

    摘要翻译： 束引导光学收集器收集辐射源的发射并从收集的发射形成辐射束。 收集器的反射表面是辐射源下游的第一束形成表面。 反射表面形成为使得其在下游平面中将辐射源转换成一系列图像。 图像系列包括在垂直于变换辐射束的光束方向的方向上以二维（x，y）彼此偏移的多个辐射源图像，并且以非旋转方式相对于彼此布置 相对于变换辐射束的束方向的对称方式。 下游平面中的变换的辐射束相对于变换的辐射束的光束方向具有非旋转对称的束边缘轮廓。 其结果是由收集器产生的辐射束形状的收集器。 换句话说，集电体在集电体下游的平面中以规定的方式产生的照明分布具有可以最大可能地自由选择的形状。

    COLLECTOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM
    20.
    发明申请
    COLLECTOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM 有权
    收集器用于照明系统

    公开(公告)号：US20080018876A1

    公开(公告)日：2008-01-24

    申请号：US11781010

    申请日：2007-07-20

    申请人： Ralf Stuetzle ,  Udo Dinger

    发明人： Ralf Stuetzle ,  Udo Dinger

    IPC分类号： G03B27/54 ,  G02B19/00

    CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G02B2207/123 ,  G03F7/70166

    摘要： Collectors with mirror shells arranged inside each other, illumination systems equipped with such collectors, projection exposure apparatuses equipped with such illumination systems, methods of manufacturing microelectronic components with such projection exposure apparatuses, and related systems, components and methods are disclosed.

    摘要翻译： 公开了具有彼此布置的具有镜壳的收集器，配备有这种收集器的照明系统，配备有这种照明系统的投影曝光装置，具有这种投影曝光装置的微电子部件的制造方法以及相关系统，部件和方法。