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    Antireflective Coating Compositions
    21.
    发明申请
    Antireflective Coating Compositions 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US20080096125A1

    公开(公告)日：2008-04-24

    申请号：US11550459

    申请日：2006-10-18

    申请人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    发明人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含结构（6）的至少一个单元的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6） C 1 -C 6烷基和芳基，R 14和R 15独立地是（C 1 -C 6）烷基和芳基， C 1 -C 10烷基。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Positive-Working Photoimageable Bottom Antireflective Coating
    23.
    发明申请
    Positive-Working Photoimageable Bottom Antireflective Coating 有权
    正面照相底部防反射涂层

    公开(公告)号：US20080038666A1

    公开(公告)日：2008-02-14

    申请号：US11876332

    申请日：2007-10-22

    申请人： Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Shuji Ding-Lee ,  Aritaka Hishida ,  Joseph Oberlander ,  Medhat Toukhy

    发明人： Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Shuji Ding-Lee ,  Aritaka Hishida ,  Joseph Oberlander ,  Medhat Toukhy

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S438/952

    摘要： The present invention relates to a positive bottom photoimageable antireflective coating composition which is capable of being developed in an aqueous alkaline developer, wherein the antireflective coating composition comprises a polymer comprising at least one recurring unit with a chromophore group and one recurring unit with a hydroxyl and/or a carboxyl group, a vinyl ether terminated crosslinking agent, and optionally, a photoacid generator and/or an acid and/or a thermal acid generator. The invention further relates to a process for using such a composition.

    摘要翻译： 本发明涉及能够在含水碱性显影剂中显影的正底部可光成像抗反射涂料组合物，其中抗反射涂料组合物包含含有至少一个具有发色团的重复单元的聚合物和一个具有羟基的重复单元， /或羧基，乙烯基醚封端的交联剂，以及任选的光酸产生剂和/或酸和/或热酸发生剂。 本发明还涉及使用这种组合物的方法。

    Antireflective compositions for photoresists
    27.
    发明授权
    Antireflective compositions for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US07691556B2

    公开(公告)日：2010-04-06

    申请号：US11159002

    申请日：2005-06-22

    申请人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan ,  Hong Zhuang

    发明人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan ,  Hong Zhuang

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The present invention relates to a coating solution comprising a polymer obtained by reacting a glycoluril compound with at least one reactive compound containing at least one hydroxy group and/or at least one acid group, and further where the polymer is soluble in an organic solvent. The invention also relates to a process for imaging a photoresist coated over such a coating composition and to a polymer for the coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种包含通过使甘脲化合物与至少一种含有至少一个羟基和/或至少一个酸基团的反应性化合物反应而得到的聚合物的涂层溶液，此外，聚合物可溶于有机溶剂中。 本发明还涉及一种用于对涂覆在这种涂料组合物上的光致抗蚀剂和用于涂料组合物的聚合物进行成像的方法。