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    PROCESS FOR PRODUCING FILM FORMING RESINS FOR PHOTORESIST COMPOSITIONS
    32.
    发明申请
    PROCESS FOR PRODUCING FILM FORMING RESINS FOR PHOTORESIST COMPOSITIONS 审中-公开
    用于生产胶片组合物的薄膜形成树脂的方法

    公开(公告)号：US20070248913A1

    公开(公告)日：2007-10-25

    申请号：US11379817

    申请日：2006-04-24

    申请人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie

    发明人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie

    IPC分类号： G03C5/00

    CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0382

    摘要： The present invention provides a method for producing a film forming resin suitable for use in a photoresist composition by passing a solution of a film forming resin in a solvent through at least two filter sheets, one filter sheet comprising a particulate strong cationic or weak cationic ion exchange resin and the other filter sheet comprising a particulate strong anionic or weak anionic ion exchange resin, rinsing the filter sheets with the solvent of used to form the solution and passing the solution of the film forming resin through the first filter sheet and then through the second filter sheet.

    摘要翻译： 本发明提供一种适用于光致抗蚀剂组合物的成膜树脂的制造方法，该方法是使成膜树脂在溶剂中的溶液通过至少两个过滤片，一个包含强阳离子或弱阳离子颗粒的过滤片 交换树脂和另一个包含强阴离子或弱阴离子离子交换树脂颗粒的过滤片，用用于形成溶液的溶剂冲洗过滤片，并使成膜树脂的溶液通过第一过滤片，然后通过 第二张滤纸。

    Photoactive compounds
    36.
    发明授权
    Photoactive compounds 失效
    光活性化合物

    公开(公告)号：US07547501B2

    公开(公告)日：2009-06-16

    申请号：US11538841

    申请日：2006-10-05

    申请人： Ralph R. Dammel ,  M. Dalil Rahman ,  David L. Rentkiewicz ,  Karl van Werden

    发明人： Ralph R. Dammel ,  M. Dalil Rahman ,  David L. Rentkiewicz ,  Karl van Werden

    IPC分类号： G03C1/73 ,  G03C1/76 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

    CPC分类号： C07F5/027 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： The present application relates to photoactive materials having the formula wherein C1+ is a cation; each of R30, R31, R32, R33, R34, R35, R36, R37, R38, R39, R40, and R41 are selected from hydrogen, alkyl, alkyl chain optionally containing one or more O atoms, halide, aryl, aralkyl, alkoxyalkyl, cycloalkyl, hydroxyl, and alkoxy, the alkyl, alkyl chain optionally containing one or more O atoms, aryl, aralkyl, alkoxyalkyl, cycloalkyl, and alkoxy groups being unsubstituted or substituted.

    摘要翻译： 本申请涉及具有下式的光活性材料：其中C1 +是阳离子; R30，R31，R32，R33，R34，R35，R36，R37，R38，R39，R40和R41各自选自氢，烷基，任选含有一个或多个O原子的烷基链，卤素，芳基，芳烷基，烷氧基烷基 ，环烷基，羟基和烷氧基，烷基，任选地含有一个或多个O原子的烷基，芳基，芳烷基，烷氧基烷基，环烷基和烷氧基是未取代或取代的。

    Chelated polyhydroxstyrene for removing metal ions from aqueous and nonaqueous systems
    37.
    发明授权
    Chelated polyhydroxstyrene for removing metal ions from aqueous and nonaqueous systems 失效
    用于从水和非水系统中去除金属离子的螯合多羟基苯乙烯

    公开(公告)号：US6028120A

    公开(公告)日：2000-02-22

    申请号：US991033

    申请日：1997-12-15

    申请人： M. Dalil Rahman ,  John Saukaitis ,  Robert E. Potvin ,  Mohammad Khadim

    发明人： M. Dalil Rahman ,  John Saukaitis ,  Robert E. Potvin ,  Mohammad Khadim

    IPC分类号： C08F8/28 ,  C08F8/30 ,  C08F116/02

    CPC分类号： C08F8/30

    摘要： A process for producing a deionizing resin, which comprises reacting an organic compound having at least one reactive hydroxy group and at least one active chelating site with an organic polymer matrix having at least one reactive --OH or --NH.sub.2 group, and thereby producing a chelated.sub.-- polymer complex, as shown in FIG. II or FIG. IV: ##STR1## Washing the polymer complex with water, followed by washing with a mineral acid solution and then again washing with water and thereby reducing the level of sodium, iron and chromium ions in the polymer complex to less than 100 ppb each.

    摘要翻译： 一种用于生产去离子树脂的方法，其包括将具有至少一个反应性羟基的有机化合物和至少一个活性螯合位点与具有至少一个反应性-OH或-NH 2基团的有机聚合物基质反应，从而产生螯合的 - 聚合物复合物，如图1所示。 II或图 IV：用水洗涤聚合物配合物，然后用无机酸溶液洗涤，然后再次用水洗涤，从而降低聚合物络合物中的钠，铁和铬离子的水平，每个低于100ppb。

    Fractionated novolak resin and photoresist composition therefrom
    38.
    发明授权
    Fractionated novolak resin and photoresist composition therefrom 失效
    分馏的酚醛清漆树脂及其光致抗蚀剂组合物

    公开(公告)号：US5977288A

    公开(公告)日：1999-11-02

    申请号：US128900

    申请日：1998-08-04

    申请人： M. Dalil Rahman ,  Ping-Hung Lu

    发明人： M. Dalil Rahman ,  Ping-Hung Lu

    IPC分类号： C08G8/00 ,  C08G8/08 ,  C08G16/02 ,  C08L61/06 ,  G03F7/023 ,  C08G8/04 ,  C08G18/04

    CPC分类号： C08G8/08 ,  C08G16/0293 ,  G03F7/0236

    摘要： The present invention provides a method for producing a film forming, fractionated novolak resin having consistent molecular weight and superior performance in photoresist composition, by isolating such novolak resin fractions without high temperature distillation. A method is also provided for producing photoresist composition from such a fractionated novolak resin and for producing semiconductor devices using such a photoresist composition.

    摘要翻译： 本发明提供一种通过在不进行高温蒸馏的情况下分离这些酚醛清漆树脂部分来制备具有一致的分子量和光致抗蚀剂组合物性能优异的成膜分级酚醛清漆树脂的方法。 还提供了一种从这种分级酚醛清漆树脂制备光致抗蚀剂组合物并用于制备使用这种光致抗蚀剂组合物的半导体器件的方法。

    Low metals perfluorooctanoic acid and top anti-reflective coatings for photoresists
    40.
    发明授权
    Low metals perfluorooctanoic acid and top anti-reflective coatings for photoresists 失效
    低金属全氟辛酸和光抗蚀剂的顶部防反射涂层

    公开(公告)号：US5830990A

    公开(公告)日：1998-11-03

    申请号：US537199

    申请日：1995-09-29

    申请人： M. Dalil Rahman

    发明人： M. Dalil Rahman

    IPC分类号： G03F7/09 ,  C08F6/06 ,  C08J3/07

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The present invention provides methods for producing top anti-reflective coating compositions having a very low level of metal ions, utilizing a specially washed and modified ion exchange resin. A method is also provided for producing semiconductor devices using such ion exchange treated top anti-reflective coating compositions.

    摘要翻译： 本发明提供了使用特别洗涤和改性的离子交换树脂制备具有非常低水平的金属离子的顶部抗反射涂料组合物的方法。 还提供了使用这种离子交换处理的顶部抗反射涂层组合物来制造半导体器件的方法。