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    Pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device
    35.
    发明申请
    Pattern forming method and method of manufacturing semiconductor device 审中-公开
    图案形成方法和制造半导体器件的方法

    公开(公告)号：US20060127815A1

    公开(公告)日：2006-06-15

    申请号：US11296480

    申请日：2005-12-08

    申请人： Yasuhiko Sato ,  Yasunobu Onishi

    发明人： Yasuhiko Sato ,  Yasunobu Onishi

    IPC分类号： G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/094 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  G03F7/093 ,  G03F7/11 ,  G03F7/115

    摘要： According to an aspect of the invention, there is provided a pattern forming method comprising forming a first resist film on a film to be worked formed on a semiconductor substrate, forming a second resist film on the first resist film, forming a resist pattern from the second resist film, forming an overcoat film containing a metal element or a semi-conducting element on the resist pattern, insolubilizing, in a predetermined solvent, a portion of the overcoat film at a predetermined distance from an interface between the overcoat film and the resist pattern, removing, with the solvent, a portion of the overcoat film soluble in the solvent to form an overcoat film pattern, transferring the overcoat film pattern to the first resist film to form a lower-layer resist film pattern, and transferring the lower-layer resist film pattern to the film to be worked to form a pattern on the film.

    摘要翻译： 根据本发明的一个方面，提供了一种图案形成方法，包括在半导体衬底上形成的待加工膜上形成第一抗蚀剂膜，在第一抗蚀剂膜上形成第二抗蚀剂膜，从第一抗蚀剂图案形成抗蚀剂图案 在抗蚀剂图案上形成含有金属元素或半导体元件的外涂膜，在规定的溶剂中不溶解从外涂膜与抗蚀剂之间的界面预定距离的一部分覆盖膜 用溶剂除去一部分可溶于溶剂的外涂膜形成外涂膜图案，将覆盖膜图案转印到第一抗蚀剂膜上以形成下层抗蚀剂膜图案， 层抗蚀剂膜图案到待加工的膜以在膜上形成图案。

    Photosensitive element for use as flexographic printing plate
    36.
    发明申请
    Photosensitive element for use as flexographic printing plate 审中-公开
    用作柔版印版的感光元件

    公开(公告)号：US20050142480A1

    公开(公告)日：2005-06-30

    申请号：US10507950

    申请日：2003-03-14

    申请人： Udo Bode ,  Rudolf Osowski

    发明人： Udo Bode ,  Rudolf Osowski

    IPC分类号： G03F7/11 ,  B41C1/055 ,  B41N1/12 ,  G03C1/76 ,  G03F7/00 ,  G03F7/115

    CPC分类号： G03F7/11 ,  B41C1/055 ,  B41N1/12 ,  G03F7/115

    摘要： A photosensitive element for use as a flexographic printing plate comprises a support, an elastomeric photopolymerizable layer, and a matted layer disposed above a surface of the photopolymerizable layer opposite the support, comprising a polymeric binder and at least one matting agent which is capable of being anchored in the surface of the photopolymerizable layer. Also described is a process for preparing such a photosensitive element and a process for preparing a flexographic printing plate from the photosensitive element.

    摘要翻译： 用作柔性印版的感光元件包括支撑体，弹性体光聚合层和设置在与支撑体相对的可光聚合层的表面之上的无光层，包括聚合物粘合剂和至少一种消光剂，其能够被 锚定在可光聚合层的表面。 还描述了制备这种感光元件的方法和从感光元件制备柔版印刷版的方法。

    Photomask, method of generating resist pattern, and method of fabricating master information carrier
    37.
    发明授权
    Photomask, method of generating resist pattern, and method of fabricating master information carrier 失效
    光掩模，产生抗蚀剂图案的方法，以及制造主信息载体的方法

    公开(公告)号：US06821869B2

    公开(公告)日：2004-11-23

    申请号：US10139379

    申请日：2002-05-07

    申请人： Terumi Yanagi ,  Nobuyuki Komura ,  Tatsuaki Ishida ,  Keizo Miyata

    发明人： Terumi Yanagi ,  Nobuyuki Komura ,  Tatsuaki Ishida ,  Keizo Miyata

    IPC分类号： H01L21425

    CPC分类号： G11B5/3163 ,  G03F7/115 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/203 ,  G11B5/865

    摘要： A recess for deaeration is formed in the surface of a resist film by using the photolithography technique, a photomask is allowed to come into contact with projections for close contact on both sides or around the recess for deaeration, and evacuation is performed via the recess for deaeration, thereby enhancing close contact between the photomask and the projections for close contact. With the configuration, a resist pattern having an accurate recess while preventing diffraction of light is formed.

    摘要翻译： 通过使用光刻技术在抗蚀剂膜的表面形成用于脱气的凹部，允许光掩模与两个侧面或周围的突起紧密接触以进行脱气，并且通过凹部进行抽真空 脱泡，从而增强光掩模和突起之间的紧密接触以进行紧密接触。 利用该结构，形成具有准确的凹部同时防止光的衍射的抗蚀图案。

    Lithographic printing method using a low surface energy layer
    38.
    发明授权
    Lithographic printing method using a low surface energy layer 失效
    使用低表面能层的平版印刷方法

    公开(公告)号：US06562553B2

    公开(公告)日：2003-05-13

    申请号：US09881242

    申请日：2001-05-10

    申请人： David P. Mancini ,  Douglas J. Resnick

    发明人： David P. Mancini ,  Douglas J. Resnick

    IPC分类号： G03F700

    CPC分类号： G03F7/115 ,  G03F1/48 ,  G03F7/2014

    摘要： A method of contact printing on a device using a partially transparent mask (18) having first and second surfaces, comprises the steps of applying a layer of low surface energy polymeric material (22) to the first surface of the mask; placing the first surface (24) of the mask contiguous to the device (10), the layer of low surface energy polymeric material being substantially in contact with the device; and applying radiation (32) to the second surface of the mask for affecting a pattern in the device.

    摘要翻译： 使用具有第一表面和第二表面的部分透明掩模（18）在装置上进行接触印刷的方法包括以下步骤：将低表面能聚合材料层（22）施加到掩模的第一表面; 将所述掩模的所述第一表面（24）邻近所述装置（10）放置，所述低表面能聚合物材料层基本上与所述装置接触; 以及将辐射（32）施加到所述掩模的第二表面以影响所述装置中的图案。

    Lithographic printing method using a low surface energy layer
    39.
    发明申请
    Lithographic printing method using a low surface energy layer 失效
    使用低表面能层的平版印刷方法

    公开(公告)号：US20010031426A1

    公开(公告)日：2001-10-18

    申请号：US09881242

    申请日：2001-05-10

    发明人： David P. Mancini ,  Douglas J. Resnick

    IPC分类号： G03F007/00

    CPC分类号： G03F7/115 ,  G03F1/48 ,  G03F7/2014

    摘要： A method of contact printing on a device using a partially transparent mask (18) having first and second surfaces, comprises the steps of applying a layer of low surface energy polymeric material (22) to the first surface of the mask; placing the first surface (24) of the mask contiguous to the device (10), the layer of low surface energy polymeric material being substantially in contact with the device; and applying radiation (32) to the second surface of the mask for affecting a pattern in the device.

    摘要翻译： 使用具有第一表面和第二表面的部分透明掩模（18）在装置上进行接触印刷的方法包括以下步骤：将低表面能聚合材料层（22）施加到掩模的第一表面; 将所述掩模的所述第一表面（24）邻近所述装置（10）放置，所述低表面能聚合物材料层基本上与所述装置接触; 以及将辐射（32）施加到所述掩模的第二表面以影响所述装置中的图案。

    Method for producing a presensitized printing plate
    40.
    发明授权
    Method for producing a presensitized printing plate 失效
    制造未敏化印版的方法

    公开(公告)号：US5948595A

    公开(公告)日：1999-09-07

    申请号：US986017

    申请日：1997-12-05

    申请人： Shinya Watanabe

    发明人： Shinya Watanabe

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/115

    CPC分类号： G03F7/115 ,  Y10S430/151

    摘要： A method for producing a presensitized printing plate is disclosed. The method comprises the steps ofproviding a photosensitive layer on a supportspraying a resin dissolved or dispersed in an organic solvent on the surface of the photosensitive layer so that sprayed droplets of the resin solution or dispersion are stuck onto the surface of the photosensitive layer to form dots of the resin, anddrying the droplets stuck on the surface of the photosensitive layer so that the surface of the photosensitive layer is dotted with the particles of the resin.

    摘要翻译： 公开了一种用于制造未敏化印刷版的方法。 该方法包括以下步骤：在支撑体上提供感光层，将感光层表面上溶解或分散在有机溶剂中的树脂喷涂，使得树脂溶液或分散体的喷雾液滴粘附在感光层的表面上， 形成树脂的点，并且干燥粘附在感光层的表面上的液滴，使得感光层的表面被树脂的颗粒点缀。