公开(公告)号：US20050209728A1

公开(公告)日：2005-09-22

申请号：US11073575

申请日：2005-03-08

申请人： Toshiyuki Ogata ,  Koji Suzuki ,  Hiroyuki Abe

发明人： Toshiyuki Ogata ,  Koji Suzuki ,  Hiroyuki Abe

IPC分类号： B23Q15/00 ,  B23H1/02 ,  B23H7/26 ,  G05B19/4068 ,  G05B19/4069 ,  G06F19/00

CPC分类号： G05B19/4068 ,  B23H7/06 ,  B23H7/20 ,  G05B2219/35351

摘要： A machining configuration drawing apparatus includes a drawing unit for drawing a machining configuration and a present machining position, a setting unit for setting a display area in an overall drawing area, a division unit for dividing the overall drawing area into a plurality of display areas based on the set display area, and a selection unit for selecting a drawing region drawn by the drawing unit from a plurality of drawing regions. The selection unit selects a drawing region in which the present machining position exists. Further, the drawing unit draws a machining configuration and a present machining position of the selected drawing region.

摘要翻译： 加工配置描绘装置包括用于绘制加工构造和当前加工位置的绘制单元，用于设置整个绘图区域中的显示区域的设置单元，用于将整个绘图区域划分为多个显示区域的分割单元 以及选择单元，用于从多个绘图区域中选择由绘制单元绘制的绘图区域。 选择单元选择存在当前加工位置的绘图区域。 此外，绘图单元绘制所选择的绘图区域的加工配置和当前的加工位置。

公开(公告)号：US08877884B2

公开(公告)日：2014-11-04

申请号：US12458259

申请日：2009-07-07

申请人： Motoki Takahashi ,  Hirofumi Imai ,  Takahiro Asai ,  Koichi Misumi ,  Toshiyuki Ogata

发明人： Motoki Takahashi ,  Hirofumi Imai ,  Takahiro Asai ,  Koichi Misumi ,  Toshiyuki Ogata

IPC分类号： C08F212/08 ,  C09J7/02 ,  C09J125/04 ,  C09J133/04 ,  C09J135/00 ,  C08F6/10 ,  C08F6/12 ,  C09J125/14 ,  C08F220/12 ,  C08J3/09 ,  C09J133/24 ,  C09J125/08 ,  C09J135/06 ,  C07B63/00 ,  C08F6/00 ,  C08F220/14 ,  C08F220/18 ,  C08F222/40

CPC分类号： C09J7/02 ,  C07B63/00 ,  C08F6/001 ,  C08F6/10 ,  C08F6/12 ,  C08F212/08 ,  C08F220/12 ,  C08F220/14 ,  C08F2220/1825 ,  C08F2222/402 ,  C08J3/095 ,  C08J2325/08 ,  C08J2325/14 ,  C09J7/20 ,  C09J125/04 ,  C09J125/08 ,  C09J125/14 ,  C09J133/04 ,  C09J133/24 ,  C09J135/00 ,  C09J135/06 ,  C09J2425/00 ,  C09J2433/00 ,  C08F2220/1875 ,  C08L25/14

摘要： An adhesive composition is disclosed which includes a polymer prepared by copolymerizing a monomer containing a polymerizable group, the polymer including a low-molecular-weight component having a molecular weight equivalent to 1% or less of the weight-average molecular weight of the polymer, the low-molecular-weight component is contained in a range of not less than 0 weight % to less than 0.3 weight % of the total weight of the polymer. This allows provision of an adhesive composition having great adhesive strength in a high-temperature environment, especially at temperatures from 140° C. to 200° C., as well as high heat resistance and favorable crack resistance.

摘要翻译： 公开了一种粘合剂组合物，其包括通过共聚含有可聚合基团的单体制备的聚合物，所述聚合物包括分子量等于聚合物的重均分子量的1％或更低的低分子量组分， 低分子量成分的含量为聚合物总重量的0重量％〜小于0.3重量％。 这允许提供在高温环境下，特别是在140℃至200℃的温度下具有很大粘附强度的粘合剂组合物，以及高耐热性和良好的抗裂性。

公开(公告)号：US08426107B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US12991690

申请日：2009-05-13

申请人： Motoki Takahashi ,  Toshiyuki Ogata ,  Christopher Cordonier ,  Akimasa Nakamura ,  Tetsuya Shichi ,  Teruhiro Uematsu

发明人： Motoki Takahashi ,  Toshiyuki Ogata ,  Christopher Cordonier ,  Akimasa Nakamura ,  Tetsuya Shichi ,  Teruhiro Uematsu

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  B32B3/10

CPC分类号： C23C18/14 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/0226 ,  Y10T428/24479

摘要： Disclosed is a positive-type photosensitive composition which can form a metal compound film pattern at high resolution and with less affection by organic residues. The positive-type photosensitive composition comprises: a metal complex component (A) which can form a metal compound film when applied and subsequently fired; and a photosensitizing agent (B). In the composition, a ligand in the component (A) is preferably a multidentate ligand having an aromatic compound as its skeleton. According to this construction, even a composition containing substantially no photosensitive resin can impart photosensitivity and a metal compound film pattern can be formed readily.

摘要翻译： 公开了能够以高分辨率形成金属化合物膜图案并且较少受有机残基影响的正型感光性组合物。 正型感光性组合物包括：金属络合物成分（A），其可以在涂布后随后烧制时形成金属化合物膜; 和光敏剂（B）。 在组合物中，组分（A）中的配体优选为具有芳族化合物作为其骨架的多齿配体。 根据该结构，即使是基本上不含感光性树脂的组合物也能赋予光敏性，容易形成金属化合物膜图案。

公开(公告)号：US07700257B2

公开(公告)日：2010-04-20

申请号：US10547427

申请日：2004-03-24

申请人： Toshiyuki Ogata ,  Kotaro Endo ,  Hiromitsu Tsuji ,  Masaaki Yoshida

发明人： Toshiyuki Ogata ,  Kotaro Endo ,  Hiromitsu Tsuji ,  Masaaki Yoshida

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/108

摘要： A photoresist composition containing a polymer (A) containing an alkali-soluble constituent unit (a1) containing an alicyclic group having both a fluorine atom or a fluorinated alkyl group (i) and an alcoholic hydroxyl group (ii), whose alkali-solubility is changeable by an action of an acid; an acid generator (B) which generates an acid by light irradiation; and a dissolution inhibitor (C) having a fluorine atom(s) and/or a nitrogen-containing compound (D) selected from a tertiary amine (d1) having a polar group, a tertiary alkylamine (d2) having 7 or more and 15 or less of carbon atoms or an ammonium salt (d3). The composition has a resist property capable of accomplishing line and space (1:1) of 90 nm or less in good shape as a pattern processing accuracy of a semiconductor integrated circuit by lithography.

摘要翻译： 1.一种光致抗蚀剂组合物，其含有含有具有氟原子或氟代烷基（i）和醇羟基（ii）的脂环族基团的碱溶性结构单元（a1）的聚合物（A），其碱溶性为 可以通过酸的作用而变化; 通过光照射产生酸的酸产生剂（B）; 和具有氟原子的溶解抑制剂（C）和/或选自具有极性基团的叔胺（d1），具有7以上的叔烷基胺（d2）和15以上的含氮化合物（D） 或更少的碳原子或铵盐（d3）。 该组合物具有能够通过光刻作为半导体集成电路的图案处理精度而实现90nm或更小的线和空间（1：1）的良好形状的抗蚀剂性质。

公开(公告)号：US07638964B2

公开(公告)日：2009-12-29

申请号：US11498041

申请日：2006-08-03

申请人： Hiroyuki Abe ,  Toshiyuki Ogata ,  Hiroyuki Kawamura

发明人： Hiroyuki Abe ,  Toshiyuki Ogata ,  Hiroyuki Kawamura

IPC分类号： B23Q15/00 ,  G05B19/404 ,  G05B23/02

CPC分类号： G05B19/4062 ,  G05B2219/37626 ,  G05B2219/37632

摘要： A speed region of a motor is divided into a region lower than a first switch speed VS1, a region higher than a second switch speed VS2 and a region between the first and second switch speeds. An abnormal load determination level to be compared with an estimated load obtained by an observer is set for each of the regions. An abnormal load determination level AL4 applied when an acceleration exceeds a threshold value is set. The abnormal load determination level AL4 is used for comparison with the estimated load until a predetermined period of time elapses after the acceleration to be commanded to the motor, which once exceeded the threshold level, drops. In other cases, the estimated load is compared with the abnormal load determination level having a value according to the speed. If the estimated load exceeds the compared abnormal load determination level, it is judged that a collision is detected.

摘要翻译： 电动机的速度区域被分成低于第一开关速度VS1，高于第二开关速度VS2的区域和第一和第二开关速度之间的区域。 针对每个区域设定要与观察者获得的估计负载进行比较的异常负载确定水平。 设定加速度超过阈值时施加的异常负荷判定水平AL4。 异常负载确定电平AL4用于与估计的负载进行比较，直到在超过阈值电平的电动机被命令的加速之后经过预定时间段时。 在其他情况下，将估计负载与根据速度具有值的异常负载确定水平进行比较。 如果估计负载超过比较的异常负载判定水平，则判断为检测到碰撞。

公开(公告)号：US20090286936A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：US11912388

申请日：2006-04-20

申请人： Toshiyuki Ogata ,  Hideo Hada ,  Shigenori Fujikawa ,  Toyoki Kunitake

发明人： Toshiyuki Ogata ,  Hideo Hada ,  Shigenori Fujikawa ,  Toyoki Kunitake

IPC分类号： C08F12/04

CPC分类号： B29C33/424 ,  B29C33/3842 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08L25/18 ,  C08L2205/02 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  H01L21/31 ,  C08L2666/04

摘要： Disclosed is a composition for formation of a mold, which is used in a method for producing a nanostructure by removing a portion of a thin film formed on the surface of a mold, and removing the mold, the composition including an organic compound, which has a hydrophilic group and has a molecular weight of 500 or more.

摘要翻译： 公开了一种用于形成模具的组合物，其用于通过除去在模具表面上形成的薄膜的一部分来制造纳米结构，并且除去模具，该组合物包含有机化合物，该组合物具有 亲水性基团，分子量为500以上。

公开(公告)号：US20090029284A1

公开(公告)日：2009-01-29

申请号：US11993444

申请日：2006-06-16

申请人： Shogo Matsumaru ,  Toshiyuki Ogata ,  Kiyoshi Ishikawa ,  Hideo Hada ,  Shigenori Fujikawa ,  Toyoki Kunitake

发明人： Shogo Matsumaru ,  Toshiyuki Ogata ,  Kiyoshi Ishikawa ,  Hideo Hada ,  Shigenori Fujikawa ,  Toyoki Kunitake

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01L21/0273 ,  G03F7/405

摘要： There are provided a coating material which improves an etching resistance of a pattern in an etching process using a pattern formed on a substrate as a mask.The material is a pattern coating material for an etching process using a pattern formed on a substrate as a mask, including a metal compound (W) which can produce a hydroxyl group on hydrolysis.

摘要翻译： 提供一种涂覆材料，其使用在基板上形成的图案作为掩模，在蚀刻工艺中提高图案的耐蚀刻性。 该材料是使用在基板上形成的图案作为掩模的蚀刻工艺的图案涂覆材料，其包括在水解时可产生羟基的金属化合物（W）。

公开(公告)号：US20080086724A1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：US11902202

申请日：2007-09-19

申请人： Toshiyuki Ogata ,  Kaoru Hiraga

发明人： Toshiyuki Ogata ,  Kaoru Hiraga

IPC分类号： G06F9/44

CPC分类号： G05B19/4155 ,  G05B2219/35573 ,  G05B2219/36225

摘要： A processing program is constituted by a main program and sub-programs, and a plurality of processing programs are stored in a storage means. Only main programs are extracted from the storage means and displayed on a display device by a list. Extraction of only the main program is performed by determining whether a program to be detected has a specific code included in only the main program or whether the program to be detected has a specific code included in only a sub-program.

摘要翻译： 处理程序由主程序和子程序构成，并且多个处理程序存储在存储装置中。 仅从存储装置提取主程序并通过列表显示在显示装置上。 仅通过确定要检测的程序是否具有仅包括在主程序中的特定代码，或者所检测的程序是否仅包括在子程序中的特定代码来执行仅主程序的提取。

公开(公告)号：US20080050564A1

公开(公告)日：2008-02-28

申请号：US11628793

申请日：2005-06-08

申请人： Shigenori Fujikawa ,  Toyoki Kunitake ,  Hideo Hada ,  Toshiyuki Ogata

发明人： Shigenori Fujikawa ,  Toyoki Kunitake ,  Hideo Hada ,  Toshiyuki Ogata

IPC分类号： B05D1/00

CPC分类号： G03F7/405 ,  H01L21/0272 ,  Y10T428/24802

摘要： A method of forming a nano-structure can form a fine pattern easily, and the nano-structure obtained by the method is provided. A method of forming a nano-structure comprising forming a thin film by a liquid phase adsorption on surface of a template formed on a substrate, and removing a portion of the thin film, and removing the template is used.

摘要翻译： 形成纳米结构的方法可以容易地形成精细图案，并且提供通过该方法获得的纳米结构。 使用形成纳米结构的方法，包括通过在形成在基板上的模板的表面上的液相吸附形成薄膜，以及去除薄膜的一部分，以及去除模板。

公开(公告)号：US20070172757A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：US10588866

申请日：2005-01-20

申请人： Toshiyuki Ogata ,  Syogo Matsumaru ,  Hideo Hada

发明人： Toshiyuki Ogata ,  Syogo Matsumaru ,  Hideo Hada

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： The present invention provide a polymer compound whereby the alkali solubility greatly changes before and after exposure in a chemically amplified positive resist, and a photoresist composition including the polymer compound and a resist pattern formation method which can form a fine pattern with high resolution. The photoresist composition and the resist pattern formation method use the polymer compound including at least one substituent group selected from an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, or a carboxyl group as an alkali soluble group (i), wherein the substituent group is protected by an acid dissociable, dissolution inhibiting group (ii) represented by a general formula (1): —CH2—O—R  (1)(wherein R represents an organic group containing no more than 20 carbon atoms and at least one hydrophilic group).

摘要翻译： 本发明提供了一种聚合物化合物，其中碱溶解度在化学放大的正性抗蚀剂中暴露之前和之后剧烈变化，以及包含高分子化合物的光致抗蚀剂组合物和能够以高分辨率形成精细图案的抗蚀剂图案形成方法。 光致抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法使用包含至少一个选自醇羟基，酚羟基或羧基的取代基的聚合物化合物作为碱溶性基团（i），其中取代基被保护 通过由通式（1）表示的酸解离的溶解抑制基团（ⅱ）：<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”→> CH 2 （式中，R表示含有不超过20个碳原子的有机基团和至少一个亲水基团） 。