公开(公告)号：US20070263197A1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：US11430196

申请日：2006-05-09

申请人： Bernardus Antonius Luttikhuis ,  Henrikus Cox ,  Erik Loopstra ,  Engelbertus Antonius Van Der Pasch ,  Harmen Van Der Schoot

发明人： Bernardus Antonius Luttikhuis ,  Henrikus Cox ,  Erik Loopstra ,  Engelbertus Antonius Van Der Pasch ,  Harmen Van Der Schoot

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/53 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775

摘要： A displacement measurement system, in particular for measuring the displacement of a substrate table in a lithographic apparatus relative to a reference frame is presented. The displacement measure system includes a plurality of displacement sensors mounted to the substrate table and a target associated with each displacement sensor mounted to the reference frame.

摘要翻译： 提出了一种位移测量系统，特别是用于测量光刻设备中的衬底台相对于参考系的位移。 位移测量系统包括安装到衬底台的多个位移传感器和与安装到参考框架的每个位移传感器相关联的目标。

公开(公告)号：US20070258061A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：US11785548

申请日：2007-04-18

申请人： Santiago Puerto ,  Erik Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow Olson ,  Jonathan Feroce

发明人： Santiago Puerto ,  Erik Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow Olson ,  Jonathan Feroce

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  Y10S414/135

摘要： Systems and methods to protect a mask from being contaminated by airborne particles are described. The systems and methods include providing a reticle secured in a two-part cover. The two part cover includes a removable protection device used to protect the reticle from contaminants. The cover can be held inside a pod or box that can be used to transport the cover through a lithography system from an atmospheric section to a vacuum section. While in the vacuum section, the removable cover can be moved during an exposure process during which a pattern on the reticle can be formed on a wafer.

摘要翻译： 描述了保护面罩免受空气传播颗粒污染的系统和方法。 这些系统和方法包括提供固定在两部分覆盖物中的掩模版。 两部分盖子包括一个可拆卸的保护装置，用于保护光罩免受污染。 盖可以保持在可以用于将盖通过光刻系统从大气部分输送到真空部分的盒或盒中。 在真空部分中，可移动的盖可以在曝光过程中移动，在曝光过程期间可以在晶片上形成掩模版上的图案。

公开(公告)号：US20070256471A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：US11822633

申请日：2007-07-09

申请人： Erik Loopstra ,  Leon Levasier ,  Rene Oesterholt

发明人： Erik Loopstra ,  Leon Levasier ,  Rene Oesterholt

IPC分类号： G01B21/00 ,  G01P21/00

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/70516 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7019

摘要： Lithographic apparatus includes a substrate table and a motion control system for controlling a movement of the substrate table. The motion control system includes at least 3 position detectors constructed for detecting a position of the substrate table. For measuring a position and orientation of the substrate table, each position detector comprises an optical encoder of a single dimensional or multi dimensional type, the optical encoders being arranged for providing together at least 6 position values, at least one position value being provided for each of the 3 dimensions. 3 or more of the at least 3 optical encoders being connected to the substrate table at different locations in the 3 dimensional coordinate system. The motion control system is arranged to calculate the position of the substrate table in the 3 dimensional coordinate system from a subset of at least 3 of the 6 position values and to calculate an orientation of the substrate table with respect to the coordinate system from another subset of at least 3 of the 6 position values. Further, a method for calibrating the position detectors is described.

摘要翻译： 光刻设备包括用于控制衬底台的移动的衬底台和运动控制系统。 运动控制系统包括构造用于检测衬底台的位置的至少3个位置检测器。 为了测量衬底台的位置和取向，每个位置检测器包括一维或多维类型的光学编码器，光学编码器被布置为一起提供至少6个位置值，为每个位置值提供至少一个位置值 的三维。 所述至少3个光学编码器中的3个或更多个在所述三维坐标系中的不同位置连接到所述基板台。 运动控制系统被布置为从6个位置值中的至少3个的子集计算三维坐标系中的衬底台的位置，并且从另一个子集计算相对于坐标系的衬底台的取向 至少6个位置值中的3个。 此外，描述了用于校准位置检测器的方法。

公开(公告)号：US20070223007A1

公开(公告)日：2007-09-27

申请号：US11384834

申请日：2006-03-21

申请人： Renatus Klaver ,  Erik Loopstra ,  Engelbertus Fransiscus Van Der Pasch

发明人： Renatus Klaver ,  Erik Loopstra ,  Engelbertus Fransiscus Van Der Pasch

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01D5/38 ,  G03F7/70775

摘要： A displacement measurement system configured to provide measurement of the relative displacement of two components in six degrees of freedom with improved consistency and without requiring excessive space.

摘要翻译： 一种位移测量系统，被配置为提供六个自由度中的两个部件的相对位移的测量，具有改进的一致性并且不需要过多的空间。

公开(公告)号：US20070201012A1

公开(公告)日：2007-08-30

申请号：US11529587

申请日：2006-09-29

申请人： Erik Loopstra ,  Johannes Mulkens

发明人： Erik Loopstra ,  Johannes Mulkens

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70341 ,  Y10S430/162

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed for use with an immersion liquid positioned between the projection system and a substrate. Several methods and mechanism are disclosed to protect components of the projection system, substrate table and a liquid confinement system. These include providing a protective coating on a final element of the projection system as well as providing one or more sacrificial bodies upstream of the components. A two component final optical element of CaF2 is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种与位于投影系统和基板之间的浸没液体一起使用的光刻投影装置。 公开了几种方法和机构来保护投影系统，衬底台和液体限制系统的组件。 这些包括在投影系统的最终元件上提供保护涂层，以及在部件上游提供一个或多个牺牲体。 还公开了CaF 2 2的双组分最终光学元件。

公开(公告)号：US20070177122A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：US11341894

申请日：2006-01-30

申请人： Erik Loopstra ,  Adrianus Engelen ,  Bernardus Luttikhuis ,  Maria Rubingh ,  Johannes Hazenberg ,  Laurentius Jorritsma ,  Johannes Klerk ,  Bernhard Geuppert ,  Aart Van Beuzekom ,  Petrus Franciscus Mandigers ,  Franz Sorg ,  Peter Deufel

发明人： Erik Loopstra ,  Adrianus Engelen ,  Bernardus Luttikhuis ,  Maria Rubingh ,  Johannes Hazenberg ,  Laurentius Jorritsma ,  Johannes Klerk ,  Bernhard Geuppert ,  Aart Van Beuzekom ,  Petrus Franciscus Mandigers ,  Franz Sorg ,  Peter Deufel

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70933

摘要： A lithographic apparatus has an assembly to exchange optical elements in a pupil plane of its projection system. The optical elements may be pupil filters and may conform to the physical dimensions specified for a reticle standard, e.g. having sides substantially equal to 5, 6 or 9 inches.

摘要翻译： 光刻设备具有在其投影系统的光瞳平面中交换光学元件的组件。 光学元件可以是光瞳滤光器，并且可以符合对于掩模版标准规定的物理尺寸，例如。 侧面基本上等于5,6或9英寸。

公开(公告)号：US20070114655A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11281901

申请日：2005-11-18

申请人： Sven Antoin Johan Hol ,  Angelo Cesar De Klerk ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Mark Scholten

发明人： Sven Antoin Johan Hol ,  Angelo Cesar De Klerk ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Mark Scholten

IPC分类号： H01L23/34

CPC分类号： G03F7/70875 ,  F28D11/02 ,  G03F7/70758 ,  H02K9/22 ,  H02N13/00

摘要： A cooling apparatus is disclosed that has a first cooling structure, in thermal contact with a heat source having a temperature greater than a cool structure, comprising a channel through which a cooling fluid is passed, an isolator between the heat source and the cool structure, the isolator in thermal contact with the first cooling structure and comprising a material of low thermal conductivity, and a second cooling structure between the isolator and the cool structure, the second cooling structure comprising a channel through which cooling fluid is passed.

摘要翻译： 公开了一种冷却装置，其具有与具有大于冷结构的温度的热源热接触的第一冷却结构，包括冷却流体通过的通道，在热源和冷结构之间的隔离器， 所述隔离器与所述第一冷却结构热接触并且包括低导热性的材料，以及在所述隔离器和所述冷结构之间的第二冷却结构，所述第二冷却结构包括冷却流体通过的通道。

公开(公告)号：US20070108848A1

公开(公告)日：2007-05-17

申请号：US11273634

申请日：2005-11-15

申请人： Sven Hol ,  Angelo De Klerk ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Mark Scholten ,  Arjan Bakker

发明人： Sven Hol ,  Angelo De Klerk ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Mark Scholten ,  Arjan Bakker

IPC分类号： H02K41/00 ,  G03B27/42

CPC分类号： H02K41/03 ,  G03F7/70758 ,  H02K2201/18

摘要： A motor includes a magnet assembly to generate a magnetic field. The field includes along the first direction parts which are alternately orientated in the first and the second direction. The parts extend in a third direction which is perpendicular to the first and the second direction. The motor further includes a first coil winding to carry a first current. The first coil winding to extend in the first direction between parts of the magnetic field orientated in the second direction, to generate the force in the first direction. The motor also includes a second coil winding to carry a second current. The second coil winding to extend in the first direction between parts of the magnetic field substantially orientated in the first direction, to generate the force in the second direction.

摘要翻译： 电动机包括用于产生磁场的磁体组件。 该场包括沿着第一方向的部分，其沿第一方向和第二方向交替取向。 这些部件在垂直于第一和第二方向的第三方向上延伸。 电动机还包括用于承载第一电流的第一线圈绕组。 所述第一线圈绕组在所述磁场的部分之间沿所述第一方向在所述第二方向上定向，以在所述第一方向上产生力。 电动机还包括用于承载第二电流的第二线圈绕组。 所述第二线圈绕组在所述磁场的各部分之间沿所述第一方向沿所述第一方向大致取向，以在所述第二方向上产生所述力。

公开(公告)号：US20070076184A1

公开(公告)日：2007-04-05

申请号：US10595469

申请日：2003-12-18

申请人： Yim-Bun Kwan ,  Erik Loopstra

发明人： Yim-Bun Kwan ,  Erik Loopstra

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G02B5/005 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

摘要： The invention relates to an optical assembly (1) having a plurality of optical elements (2), at least one optical element (2, 2″) being connected to a structure (5) dynamically decoupled from the optical assembly (1), as a result of which it is substantially dynamically decoupled from the remaining optical elements (2) and the optical assembly (1).

摘要翻译： 本发明涉及一种具有多个光学元件（2）的光学组件（1），至少一个与光学组件（1）动态分离的结构（5）连接的光学元件（2,2“）， 其结果是与剩余的光学元件（2）和光学组件（1）基本上动态地分离。

公开(公告)号：US20070070315A1

公开(公告)日：2007-03-29

申请号：US11454129

申请日：2006-06-16

申请人： Johannes Jacobs ,  Igor Bouchoms ,  Nicolaas Kate ,  Nicolaas Kemper ,  Martinus Leenders ,  Erik Loopstra ,  Joost Ottens ,  Martinus Verhagen ,  Yucel Kok ,  Johannes Van Es ,  Herman Boom ,  Franciscus Janssen

发明人： Johannes Jacobs ,  Igor Bouchoms ,  Nicolaas Kate ,  Nicolaas Kemper ,  Martinus Leenders ,  Erik Loopstra ,  Joost Ottens ,  Martinus Verhagen ,  Yucel Kok ,  Johannes Van Es ,  Herman Boom ,  Franciscus Janssen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716

摘要： Methods and apparatus for maintaining the thermal equilibrium of a substrate and an immersion lithographic apparatus are disclosed using or having a timetable comprising information regarding the position, speed and/or acceleration of the substrate; and an evaporation controller and/or condensation controller acting to decrease localized evaporation and/or increase localized condensation in response to the information in the timetable. Evaporation of liquid from the surface of the substrate cools it down, while condensing liquid on its bottom surface heats the substrate locally.

摘要翻译： 使用或具有包括关于衬底的位置，速度和/或加速度的信息的时间表来公开用于维持衬底和浸没式光刻设备的热平衡的方法和设备; 以及响应于时间表中的信息，用于减少局部蒸发和/或增加局部冷凝的蒸发控制器和/或冷凝控制器。 从基材表面蒸发液体将其冷却下来，同时在其底部表面上冷凝液体局部加热基材。