公开(公告)号：US08432531B2

公开(公告)日：2013-04-30

申请号：US12893875

申请日：2010-09-29

申请人： Kornelis Tijmen Hoekerd ,  Roelof Frederik De Graaf ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Antonius Johannus Van Der Net ,  Pieter Jacob Kramer ,  Anthonie Kuijper ,  Arjan Hubrecht Josef Anna Martens ,  Sandra Van Der Graaf ,  Alexandre Viktorovych Padiy

发明人： Kornelis Tijmen Hoekerd ,  Roelof Frederik De Graaf ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Antonius Johannus Van Der Net ,  Pieter Jacob Kramer ,  Anthonie Kuijper ,  Arjan Hubrecht Josef Anna Martens ,  Sandra Van Der Graaf ,  Alexandre Viktorovych Padiy

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/70341

摘要： A cleaning liquid supply system is disclosed. The cleaning liquid supply system may supply an emulsified cleaning liquid to clean an immersion lithographic apparatus. A lithographic apparatus is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种清洗液供应系统。 清洁液体供应系统可以提供乳化清洁液体以清洁浸没式光刻设备。 还公开了一种光刻设备。

公开(公告)号：US08003968B2

公开(公告)日：2011-08-23

申请号：US12219606

申请日：2008-07-24

申请人： Joost Jeroen Ottens ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Joost Jeroen Ottens ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A method of helping to prevent liquid reaching under a substrate is disclosed that includes introducing a gas at a bottom edge of the substrate so that a buffer is created at the edge of the substrate, helping to keep immersion liquid that is present at the top and edge of the substrate away from the bottom surface of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种有助于防止液体到达衬底的方法，其包括在衬底的底部边缘处引入气体，使得在衬底的边缘产生缓冲液，有助于保持存在于顶部的浸没液体，以及 衬底的边缘远离衬底的底表面。

公开(公告)号：US20110194096A1

公开(公告)日：2011-08-11

申请号：US13043192

申请日：2011-03-08

申请人： Herman BOOM ,  Borgert Kruizinga ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Huibert Visser ,  Peter Julian Pollard

发明人： Herman BOOM ,  Borgert Kruizinga ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Huibert Visser ,  Peter Julian Pollard

IPC分类号： G03B27/32 ,  G02B3/12

CPC分类号： G03B27/522 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70958

摘要： A lens element, for use in a projection system, includes a concave side. The lens element further includes a membrane and a nozzle, the membrane at least covering the concave side of the lens element. The nozzle is arranged for supplying and/or removing a liquid and/or a gas in between the concave side and the membrane.

摘要翻译： 用于投影系统的透镜元件包括凹面。 透镜元件还包括膜和喷嘴，所述膜至少覆盖透镜元件的凹面。 喷嘴布置成用于在凹面和膜之间提供和/或去除液体和/或气体。

公开(公告)号：US20110080567A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：US12893875

申请日：2010-09-29

申请人： Kornelis Tijmen HOEKERD ,  Roelof Frederik De Graaf ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Antonius Johannus Van Der Net ,  Pieter Jacob Kramer ,  Anthonie Kuijper ,  Arjan Hubrecht Josef Anna Martens ,  Sandra Van Der Graaf ,  Alexandre Viktorovych Padiy

发明人： Kornelis Tijmen HOEKERD ,  Roelof Frederik De Graaf ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Antonius Johannus Van Der Net ,  Pieter Jacob Kramer ,  Anthonie Kuijper ,  Arjan Hubrecht Josef Anna Martens ,  Sandra Van Der Graaf ,  Alexandre Viktorovych Padiy

IPC分类号： G03B27/52 ,  G05D11/02

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/70341

摘要： A cleaning liquid supply system is disclosed. The cleaning liquid supply system may supply an emulsified cleaning liquid to clean an immersion lithographic apparatus. A lithographic apparatus is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种清洗液供给系统。 清洁液体供应系统可以提供乳化清洁液体以清洁浸没式光刻设备。 还公开了一种光刻设备。

公开(公告)号：US07916269B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US11862817

申请日：2007-09-27

申请人： Anthonius Martinus Cornelis Petrus De Jong ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Antonius Johannus Van Der Net ,  Peter Franciscus Wanten ,  Jacques Cor Johan Van Der Donck ,  Robert Douglas Watso ,  Teunis Cornelis Van Den Dool ,  Nadja Schuh ,  Jan Willem Cromwijk

发明人： Anthonius Martinus Cornelis Petrus De Jong ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Antonius Johannus Van Der Net ,  Peter Franciscus Wanten ,  Jacques Cor Johan Van Der Donck ,  Robert Douglas Watso ,  Teunis Cornelis Van Den Dool ,  Nadja Schuh ,  Jan Willem Cromwijk

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/32 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70925

摘要： An immersion lithographic apparatus is cleaned by use of a cleaning liquid consisting essentially of ultra-pure water and (a) a mixture of hydrogen peroxide and ozone, or (b) hydrogen peroxide at a concentration of up to 5%, or (c) ozone at a concentration of up to 50 ppm, or (d) oxygen at concentration of up to 10 ppm, or (e) any combination selected from (a)-(d).

摘要翻译： 或（c）过氧化氢和臭氧的混合物，或（b）浓度高达5％的过氧化氢，或（c） 浓度高达50ppm的臭氧，或（d）浓度高达10ppm的氧，或（e）选自（a） - （d）的任何组合。

公开(公告)号：US20100245791A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：US12814242

申请日：2010-06-11

申请人： Johannes Henricus Wilhelmus JACOBS ,  Igor Petrus Maria Bouchoms ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Nicolaas Ten Kate ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Erik Roelof Loopstra ,  Joost Jeroen Ottens ,  Martinus Cornelis Maria Verhagen ,  Yücel Kök ,  Johannes Van Es ,  Herman Boom ,  Fraciscus Johannes Joseph Janssen

发明人： Johannes Henricus Wilhelmus JACOBS ,  Igor Petrus Maria Bouchoms ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Nicolaas Ten Kate ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Erik Roelof Loopstra ,  Joost Jeroen Ottens ,  Martinus Cornelis Maria Verhagen ,  Yücel Kök ,  Johannes Van Es ,  Herman Boom ,  Fraciscus Johannes Joseph Janssen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70875

摘要： Methods and apparatus for maintaining the thermal equilibrium of a substrate and an immersion lithographic apparatus are disclosed using or having a timetable comprising information regarding the position, speed and/or acceleration of the substrate; and an evaporation controller and/or condensation controller acting to decrease localized evaporation and/or increase localized condensation in response to the information in the timetable. Evaporation of liquid from the surface of the substrate cools it down, while condensing liquid on its bottom surface heats the substrate locally.

摘要翻译： 使用或具有包括关于衬底的位置，速度和/或加速度的信息的时间表来公开用于维持衬底和浸没式光刻设备的热平衡的方法和设备; 以及响应于时间表中的信息，用于减少局部蒸发和/或增加局部冷凝的蒸发控制器和/或冷凝控制器。 从基材表面蒸发液体将其冷却下来，同时在其底部表面上冷凝液体局部加热基材。

公开(公告)号：US07423733B2

公开(公告)日：2008-09-09

申请号：US10894367

申请日：2004-07-20

申请人： Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Gert-Jan Heerens ,  Robert Gabriël Maria Lansbergen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Erik Roelof Loopstra

发明人： Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Gert-Jan Heerens ,  Robert Gabriël Maria Lansbergen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Erik Roelof Loopstra

IPC分类号： G03B27/62

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/709

摘要： The invention pertains to a lithographic apparatus that includes a docking system for positioning a patterning device, such as a reticle, relative to the reticle stage. The lithographic projection apparatus has an operational cycle that includes a projection phase, in which the reticle stage carries the patterning device and an exchange phase, in which the patterning device is exchanged and the docking system positions the patterning device relative to the reticle stage. The docking system is configured to be spaced from the patterning device during the projection phase in order to ensure that a higher accuracy of the projected image is obtained.

摘要翻译： 本发明涉及一种光刻设备，其包括用于相对于标线片台定位图案形成装置（例如掩模版）的对接系统。 光刻投影设备具有包括投影相的操作周期，其中标线片载物台承载图案形成装置和交换相，其中图案形成装置被更换，并且对接系统相对于掩模版台定位图案形成装置。 对接系统被配置为在投影阶段与图案形成装置间隔开，以便确保获得更高的投影图像精度。

公开(公告)号：US20050146703A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US11023359

申请日：2004-12-29

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/703

摘要： A device manufacturing method according to one embodiment of the invention includes positioning a reflective patterning structure to reflect at least a portion of a beam of raditaion as a patterned beam of radiation having a pattern in its cross-section. The method also includes using a projection system to project the patterned beam of radiation to form an image on a target portion of a layer of radiation-sensitive material. Positioning includes at least one among shifting and tilting a nominal reflective surface of the reflective patterning structure with respect to a nominal object plane of the projection system according to a distortion value.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的器件制造方法包括定位反射图案形成结构，以将辐射束的至少一部分反射为在其横截面中具有图案的图案化的辐射束。 该方法还包括使用投影系统投影图案化的辐射束以在辐射敏感材料层的目标部分上形成图像。 定位包括根据失真值相对于投影系统的标称物平面移动和倾斜反射图案形成结构的标称反射表面中的至少一个。

公开(公告)号：US06879374B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US10173559

申请日：2002-06-18

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/68 ,  G03B27/42 ,  G03C5/00 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/703

摘要： A device manufacturing method according to one embodiment of the invention includes positioning a reflective patterning structure to reflect at least a portion of a beam of radiation as a patterned beam of radiation having a pattern in its cross-section. The method also includes using a projection system to project the patterned beam of radiation to form an image on a target portion of a layer of radiation-sensitive material. Positioning includes at least one among shifting and tilting a nominal reflective surface of the reflective patterning structure with respect to a nominal object plane of the projection system according to a distortion value.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的器件制造方法包括定位反射图案形成结构以将辐射束的至少一部分反射为在其横截面中具有图案的图案化辐射束。 该方法还包括使用投影系统投影图案化的辐射束以在辐射敏感材料层的目标部分上形成图像。 定位包括根据失真值相对于投影系统的标称物平面移动和倾斜反射图案形成结构的标称反射表面中的至少一个。

公开(公告)号：US08786823B2

公开(公告)日：2014-07-22

申请号：US12960947

申请日：2010-12-06

申请人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Joost Jeroen Ottens

发明人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Joost Jeroen Ottens

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic apparatus is disclosed in which at least a part of the liquid supply system (which provides liquid between the projection system and the substrate) is moveable in a plane substantially parallel to a top surface of the substrate during scanning. The part is moved to reduce the relative velocity between that part and the substrate so that the speed at which the substrate may be moved relative to the projection system may be increased.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻设备，其中液体供应系统（其在投影系统和基板之间提供液体）的至少一部分可在扫描期间在基本上平行于基板的顶表面的平面中移动。 移动部件以减小该部件与基板之间的相对速度，使得可以相对于投影系统移动基板的速度。