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    Process for Imaging a Photoresist Coated over an Antireflective Coating
    1.
    发明申请
    Process for Imaging a Photoresist Coated over an Antireflective Coating 审中-公开
    在抗反射涂层上涂覆光刻胶的方法

    公开(公告)号：US20090162800A1

    公开(公告)日：2009-06-25

    申请号：US11961581

    申请日：2007-12-20

    申请人： David Abdallah ,  Alberto Dioses ,  Allen Timko ,  Ruzhi Zhang

    发明人： David Abdallah ,  Alberto Dioses ,  Allen Timko ,  Ruzhi Zhang

    IPC分类号： G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G02B1/111 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/16

    摘要： The process of the present invention relates to imaging a photoresist film coated over an antireflective coating film comprising a) forming an antireflective coating film from an antireflective coating composition, where the composition comprises a siloxane polymer, b) treating the antireflective film with an aqueous alkaline treating solution, c) rinsing the antireflective film treated with an aqueous rinsing solution, d) forming a coating of a photoresist over the film of the antireflective coating composition, e) imagewise exposing the photoresist film, and, f) developing the photoresist with an aqueous alkaline developing solution.

    摘要翻译： 本发明的方法涉及对涂覆在抗反射涂膜上的光致抗蚀剂膜进行成像，其包括：a）从防反射涂料组合物形成抗反射涂膜，其中组合物包含硅氧烷聚合物，b）用碱性水溶液处理抗反射膜 处理溶液，c）冲洗用水性漂洗溶液处理的抗反射膜，d）在抗反射涂料组合物的膜上形成光致抗蚀剂涂层，e）成像曝光光致抗蚀剂膜，以及f）用 水性碱性显影液。

    Process for making siloxane polymers
    5.
    发明申请
    Process for making siloxane polymers 审中-公开
    制备硅氧烷聚合物的方法

    公开(公告)号：US20100093969A1

    公开(公告)日：2010-04-15

    申请号：US12449750

    申请日：2008-02-25

    申请人： Ruzhi Zhang ,  David Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser

    发明人： Ruzhi Zhang ,  David Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser

    IPC分类号： C08G77/06

    CPC分类号： C09D183/06 ,  C08G77/06 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

    摘要： The present invention relates to process for making a siloxane polymer which comprises at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is a moiety other than hydrogen, comprising reacting one or more silane reactants together in the presence of a hydrolysis catalyst in either a water/alcohol mixture or in one or more alcohols to form the siloxane polymer; and separating the siloxane polymer from the water/alcohol mixture or the alcohol(s).

    摘要翻译： 本发明涉及制备硅氧烷聚合物的方法，其包含至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团，其中R是不同于氢的部分，包括使一种或多种硅烷反应物在一起存在下反应 在水/醇混合物中或在一种或多种醇中的水解催化剂以形成硅氧烷聚合物; 以及从水/醇混合物或醇分离硅氧烷聚合物。

    Antireflective Coating Composition Based on Silicon Polymer
    6.
    发明申请
    Antireflective Coating Composition Based on Silicon Polymer 失效
    基于硅聚合物的抗反射涂层组合物

    公开(公告)号：US20080199789A1

    公开(公告)日：2008-08-21

    申请号：US11676671

    申请日：2007-02-20

    申请人： David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

    发明人： David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

    IPC分类号： G03C11/00

    CPC分类号： C09D183/06 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02137 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

    摘要： The present invention relates to an antireflecting coating composition which is capable of forming a crosslinked coating underneath a layer of photoresist comprising a silicon polymer, where the silicon polymer comprises at least one unit with the structure 1, where, R1 is selected from C1-C4 alkyl. The invention also relates to a process for imaging this composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其能够在包含硅聚合物的光致抗蚀剂层下形成交联涂层，其中硅聚合物包含至少一个具有结构1的单元，其中R 1， SUB>选自C 1 -C 4烷基。 本发明还涉及对该组合物进行成像的方法。

    Antireflective coating compositions
    8.
    发明授权
    Antireflective coating compositions 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US07666575B2

    公开(公告)日：2010-02-23

    申请号：US11550459

    申请日：2006-10-18

    申请人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    发明人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含至少一个结构单元（6）的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6）烷基和芳族基团，R 14和R 15独立地为（C 1 -C 10）烷基 。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。