公开(公告)号：US20070099108A1

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：US11262639

申请日：2005-10-31

申请人： David Abdallah ,  Jian Yin ,  Mark Neisser

发明人： David Abdallah ,  Jian Yin ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： C08F8/30 ,  C08F212/08 ,  C08F220/18 ,  C09D133/06 ,  G03F7/091 ,  Y10S438/952 ,  C08L2666/04 ,  C08F216/08 ,  C08F2220/281

摘要： Novel self-crosslinking polymers are provided and which are useful in antireflective coatings to reduce outgassing.

摘要翻译： 提供了新颖的自交联聚合物，并且其可用于减反射涂料以减少除气。

公开(公告)号：US08835581B2

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：US13492125

申请日：2012-06-08

申请人： Hengpeng Wu ,  Orest Polishchuk ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin ,  Margareta Paunescu ,  Mark Neisser

发明人： Hengpeng Wu ,  Orest Polishchuk ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin ,  Margareta Paunescu ,  Mark Neisser

IPC分类号： C08F4/04 ,  C07C245/04

CPC分类号： C08F4/04 ,  C07C245/04 ,  C08F8/12 ,  C08F212/08 ,  C08F2800/20 ,  C08F2810/40 ,  G03F7/0002 ,  C08F220/14

摘要： The present invention relates to a novel polymeric composition comprising a novel polymer having two or more repeat units and a terminus having the structure (1): wherein R1 represents a C1-C20 substituted or unsubstituted alkyl group, w is a number from 1-8, X is oxygen (O) or nitrogen (N), and Rd is a reactive group. The invention also relates to a process for forming a pattern using the novel polymeric composition. The invention further relates to a process of making the novel polymer.

摘要翻译： 本发明涉及包含具有两个或多个重复单元的新型聚合物和具有结构（1）的末端的新型聚合物组合物：其中R1表示C1-C20取代或未取代的烷基，w为1-8 ，X是氧（O）或氮（N），Rd是反应性基团。 本发明还涉及使用新型聚合物组合物形成图案的方法。 本发明还涉及制备该新型聚合物的方法。

公开(公告)号：US20100092894A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12250563

申请日：2008-10-14

申请人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  Joon Yeon Cho ,  Jian Yin ,  Salem K. Mullen ,  Mark Neisser

发明人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  Joon Yeon Cho ,  Jian Yin ,  Salem K. Mullen ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D251/32 ,  C09D5/00

CPC分类号： G03F7/091

摘要： Antireflective coating compositions are discussed.

摘要翻译： 讨论了抗反射涂料组合物。

公开(公告)号：US20100009297A1

公开(公告)日：2010-01-14

申请号：US12133567

申请日：2008-07-08

申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G75/04 ,  C08G69/08 ,  C08G75/00 ,  C08G73/00 ,  B05D5/06 ,  C08G73/06 ,  C08G18/71 ,  C08G16/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G63/6854 ,  C08G73/0273 ,  C08G73/06 ,  C08G73/0638 ,  C08G73/0644 ,  C08G73/0677 ,  C08L79/04 ,  C09D167/00 ,  C09D179/04

摘要： Antireflective coatings and related polymers are disclosed.

摘要翻译： 公开了抗反射涂层和相关聚合物。

公开(公告)号：US08686109B2

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：US13416669

申请日：2012-03-09

申请人： Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Muthiah Thiyagarajan ,  SungEun Hong ,  Mark Neisser ,  Yi Cao

发明人： Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Muthiah Thiyagarajan ,  SungEun Hong ,  Mark Neisser ,  Yi Cao

IPC分类号： C08F6/00 ,  C08G63/02

CPC分类号： B05D5/00 ,  B01D15/361 ,  B01J39/05 ,  B01J41/07 ,  B01J45/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/00 ,  C08F6/02 ,  C08J3/00 ,  C08L53/00

摘要： The present invention relates to a method for treating a block copolymer solution, wherein the method comprises: providing a solution comprising a block copolymer in a non aqueous solvent; and, treating the solution to remove metals using an ion exchange resin. The invention also relates to a method of forming patterns using the treated block copolymer.

摘要翻译： 本发明涉及一种处理嵌段共聚物溶液的方法，其中该方法包括：在非水溶剂中提供包含嵌段共聚物的溶液; 并使用离子交换树脂处理该溶液以除去金属。 本发明还涉及使用经处理的嵌段共聚物形成图案的方法。

公开(公告)号：US08329387B2

公开(公告)日：2012-12-11

申请号：US12133567

申请日：2008-07-08

申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  C08G73/06 ,  C08G73/10 ,  C08G18/71

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G63/6854 ,  C08G73/0273 ,  C08G73/06 ,  C08G73/0638 ,  C08G73/0644 ,  C08G73/0677 ,  C08L79/04 ,  C09D167/00 ,  C09D179/04

摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising a novel polymer without an aromatic chromophore, where the polymer comprises a structural unit derived from an aminoplast and a structural unit derived from a diol, triol, dithiol, trithiol, other polyols, diacid, triacid, other polyacids, diimide or mixture thereof, where the diol, dithiol, triol, trithiol, diacid, triacid, diimide, diamide or imide-amide optionally contain one or more nitrogen and/or sulfur atoms or contain one or more alkene groups. The invention also relates to the novel polymer and a process for using the novel antireflective coating composition in a lithographic process.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含没有芳族发色团的新型聚合物，其中聚合物包含衍生自氨基塑料的结构单元和衍生自二醇，三醇，二硫醇，三硫醇，其它多元醇，二酸，三酸的结构单元 ，其它多元酸，二酰亚胺或其混合物，其中二醇，二硫醇，三醇，三硫醇，二酸，三酸，二酰亚胺，二酰胺或酰亚胺 - 酰胺任选地含有一个或多个氮和/或硫原子或含有一个或多个烯烃基团。 本发明还涉及新型聚合物和在光刻工艺中使用新型抗反射涂料组合物的方法。

公开(公告)号：US20110250544A1

公开(公告)日：2011-10-13

申请号：US13162065

申请日：2011-06-16

申请人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  JoonYeon Cho ,  Jian Yin ,  Salem K. Mullen ,  Mark Neisser

发明人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  JoonYeon Cho ,  Jian Yin ,  Salem K. Mullen ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D251/04 ,  C09D5/00

CPC分类号： G03F7/091

摘要： Antireflective coating compositions are discussed.

摘要翻译： 讨论了抗反射涂料组合物。

公开(公告)号：US09040659B2

公开(公告)日：2015-05-26

申请号：US14175203

申请日：2014-02-07

申请人： Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Muthiah Thiyagarajan ,  SungEun Hong ,  Mark Neisser ,  Yi Cao

发明人： Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Muthiah Thiyagarajan ,  SungEun Hong ,  Mark Neisser ,  Yi Cao

IPC分类号： C08G64/00 ,  B05D5/00 ,  B01D15/36 ,  B01J45/00 ,  C08J3/00 ,  B01J39/04 ,  B01J41/04 ,  B05D1/00 ,  B05D3/00 ,  C08F6/02

CPC分类号： B05D5/00 ,  B01D15/361 ,  B01J39/05 ,  B01J41/07 ,  B01J45/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/00 ,  C08F6/02 ,  C08J3/00 ,  C08L53/00

摘要： The present invention relates to a method for treating a block copolymer solution, wherein the method comprises: providing a solution comprising a block copolymer in a non aqueous solvent; and, treating the solution to remove metals using an ion exchange resin. The invention also relates to a method of forming patterns using the treated block copolymer.

摘要翻译： 本发明涉及一种处理嵌段共聚物溶液的方法，其中该方法包括：在非水溶剂中提供包含嵌段共聚物的溶液; 并使用离子交换树脂处理该溶液以除去金属。 本发明还涉及使用经处理的嵌段共聚物形成图案的方法。

公开(公告)号：US20100015550A1

公开(公告)日：2010-01-21

申请号：US12174718

申请日：2008-07-17

申请人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  Salem K. Mullen ,  Jian Yin ,  Mark Neisser

发明人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  Salem K. Mullen ,  Jian Yin ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： H01L21/76808 ,  C08F212/08 ,  C08F220/14 ,  C08F220/26 ,  C08F220/32 ,  C08F222/14 ,  C08L33/068 ,  C08L63/00 ,  H01L21/312 ,  C08L2666/22

摘要： Compositions for use in dual damascene process are disclosed.

摘要翻译： 公开了用于双镶嵌工艺的组合物。

公开(公告)号：US20090042133A1

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：US11836980

申请日：2007-08-10

申请人： Zhong Xiang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  David Abdallah

发明人： Zhong Xiang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  David Abdallah

IPC分类号： G03C1/04 ,  C08F283/04 ,  G03C5/29

CPC分类号： C08G12/12 ,  C08G12/32 ,  C08L61/32 ,  G03F7/091

摘要： An antireflective coating composition which forms films with high n values is described.

摘要翻译： 描述了形成具有高n值的膜的抗反射涂层组合物。