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公开(公告)号：US20070099108A1
公开(公告)日：2007-05-03
申请号：US11262639
申请日：2005-10-31
申请人： David Abdallah , Jian Yin , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Jian Yin , Mark Neisser
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： C08F8/30 , C08F212/08 , C08F220/18 , C09D133/06 , G03F7/091 , Y10S438/952 , C08L2666/04 , C08F216/08 , C08F2220/281
摘要： Novel self-crosslinking polymers are provided and which are useful in antireflective coatings to reduce outgassing.
摘要翻译： 提供了新颖的自交联聚合物，并且其可用于减反射涂料以减少除气。
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公开(公告)号：US20100248137A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：US12797949
申请日：2010-06-10
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译： 本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。
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公开(公告)号：US08026040B2
公开(公告)日：2011-09-27
申请号：US11676673
申请日：2007-02-20
申请人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
发明人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/06
摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.
摘要翻译： 本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。 该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。
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公开(公告)号：US07759046B2
公开(公告)日：2010-07-20
申请号：US11613410
申请日：2006-12-20
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译： 本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。
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公开(公告)号：US20080196626A1
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：US11676673
申请日：2007-02-20
申请人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
发明人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/06
摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.
摘要翻译： 本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。 该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。
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公开(公告)号：US08211621B2
公开(公告)日：2012-07-03
申请号：US12797949
申请日：2010-06-10
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译： 本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。
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公开(公告)号：US20110300488A1
公开(公告)日：2011-12-08
申请号：US12792994
申请日：2010-06-03
申请人： Huirong Yao , Jain Yin , Guanyang Lin , Mark Neisser , David Abdallah
发明人： Huirong Yao , Jain Yin , Guanyang Lin , Mark Neisser , David Abdallah
CPC分类号： G03F7/091 , G02B1/04 , G02B1/111 , G03F7/0046 , C08L33/16 , C08L33/24 , C08L33/066 , C08L61/20 , C08L79/08
摘要： The invention related to an antireflective coating comprising a mixture of a first polymer and a second polymer, and a thermal acid generator, where the first polymer comprises at least one fluoroalcohol moiety, at least one aliphatic hydroxyl moiety, and at least one acid moiety other than fluoroalcohol with a pKa in the range of about 8 to about 11; where the second polymer is a reaction product of an aminoplast compound with a compound comprising at least one hydroxyl and/or at least one acid group. The invention further relates to a process for using the novel composition to form an image.
摘要翻译： 本发明涉及包含第一聚合物和第二聚合物和热酸产生剂的混合物的抗反射涂层，其中第一聚合物包含至少一个氟代醇部分，至少一个脂族羟基部分和至少一个酸部分其它 而pKa在约8至约11的范围内的氟代醇; 其中第二聚合物是氨基塑料化合物与包含至少一个羟基和/或至少一个酸基团的化合物的反应产物。 本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。
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公开(公告)号：US07666575B2
公开(公告)日：2010-02-23
申请号：US11550459
申请日：2006-10-18
申请人： Woo-Kyu Kim , Hengpeng Wu , David Abdallah , Mark Neisser , PingHung Lu , Ruzhi Zhang , M. Dalil Rahman
发明人： Woo-Kyu Kim , Hengpeng Wu , David Abdallah , Mark Neisser , PingHung Lu , Ruzhi Zhang , M. Dalil Rahman
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S438/952
摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.
摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含至少一个结构单元（6）的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6）烷基和芳族基团，R 14和R 15独立地为（C 1 -C 10）烷基 。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。
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公开(公告)号：US20080096125A1
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：US11550459
申请日：2006-10-18
申请人： Woo-Kyu Kim , Hengpeng Wu , David Abdallah , Mark Neisser , PingHung Lu , Ruzhi Zhang , M. Dalil Rahman
发明人： Woo-Kyu Kim , Hengpeng Wu , David Abdallah , Mark Neisser , PingHung Lu , Ruzhi Zhang , M. Dalil Rahman
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S438/952
摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.
摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含结构（6）的至少一个单元的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6） C 1 -C 6烷基和芳基，R 14和R 15独立地是（C 1 -C 6）烷基和芳基， C 1 -C 10烷基。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。
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10.发明申请公开(公告)号：US20060177774A1
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：US11338462
申请日：2006-01-24
申请人： David Abdallah , Mark Neisser , Ralph Dammel , Georg Pawlowski , John Biafore , Andrew Romano , WooKyu Kim
发明人： David Abdallah , Mark Neisser , Ralph Dammel , Georg Pawlowski , John Biafore , Andrew Romano , WooKyu Kim
IPC分类号： G03C5/00
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S430/151
摘要： A process for imaging a photoresist comprising the steps of, a) forming a stack of multiple layers of organic antireflective coatings on a substrate; b) forming a coating of a photoresist over the upper layer of the stack of multiple layers of organic antireflective coatings; c) imagewise exposing the photoresist with an exposure equipment; and, d) developing the coating with a developer.
摘要翻译： 一种用于对光致抗蚀剂进行成像的方法，包括以下步骤：a）在衬底上形成多层有机抗反射涂层的叠层; b）在多层有机抗反射涂层的堆叠的上层上形成光致抗蚀剂的涂层; c）用曝光设备成像曝光光致抗蚀剂; 和d）用显影剂显影涂层。
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