公开(公告)号：US5837331A

公开(公告)日：1998-11-17

申请号：US614703

申请日：1996-03-13

Applicant: Eric P. Menu ,  John Song ,  Bernard F. Coll

Inventor： Eric P. Menu ,  John Song ,  Bernard F. Coll

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/54 ,  C23C16/34 ,  H01J1/30 ,  H01J1/304 ,  H01J3/02 ,  H01J9/02 ,  H05H1/24 ,  B05D1/36 ,  B05D5/12 ,  C23C16/00

CPC classification number: C23C16/342 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/548 ,  H01J3/022 ,  H01J9/025 ,  H01J2201/30457 ,  H01J2201/319

Abstract: An amorphous multi-layered structure (100, 200) is formed by a method including the steps of: i) positioning a deposition substrate (101) in a physical vapor deposition apparatus (300, 400, 500) ii) ionizing a precursor of a multi-phase material within the physical vapor deposition apparatus (300, 400, 500) iv) modulating the total ion impinging energy of the ions to deposit layers having predetermined properties corresponding to the total ion impinging energy values.

Abstract translation: 通过包括以下步骤的方法形成非晶多层结构（100,200）：i）将沉积基板（101）定位在物理气相沉积设备（300,400,500）中，ii）将 物理气相沉积装置（300,400,500）内的多相材料iv）调节离子的总离子冲击能量以沉积具有对应于总离子冲击能量值的预定特性的层。

公开(公告)号：US6100628A

公开(公告)日：2000-08-08

申请号：US322304

申请日：1999-05-28

Applicant: Bernard F. Coll ,  Eric P. Menu ,  Albert Alec Talin

Inventor： Bernard F. Coll ,  Eric P. Menu ,  Albert Alec Talin

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/32 ,  H01J1/304 ,  H01J9/02 ,  H01J29/04 ,  H01J31/12 ,  H01J1/05

CPC classification number: B82Y30/00 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/325 ,  H01J9/025

Abstract: A method for forming an electron emissive film (200, 730, 830) includes the steps of: (i) evaporating a graphite source (120, 620) in a cathodic arc deposition apparatus (100, 600) to create a carbon plasma (170, 670), (ii) applying a potential difference between the graphite source (120, 620) and a glass or silicon deposition substrate (130, 630, 710, 810) for accelerating the carbon plasma (170, 670) toward the deposition substrate (130, 630, 710, 810), (iii) providing a working gas within the cathodic arc deposition apparatus (100, 600), and (ii) depositing the carbon plasma (170, 670) onto the deposition substrate (130, 630, 710, 810).

Abstract translation: 形成电子发射膜（200,730,830）的方法包括以下步骤：（i）在阴极电弧沉积设备（100,600）中蒸发石墨源（120,620）以产生碳等离子体（170 ，670），（ii）在石墨源（120,620）和玻璃或硅沉积衬底（130,630,710,810）之间施加电位差，用于将碳等离子体（170,670）加速到沉积衬底 （130,630,710,810），（iii）在阴极电弧沉积设备（100,600）内提供工作气体，和（ii）将碳等离子体（170,670）沉积到沉积衬底（130,630）上 ，710,810）。

公开(公告)号：US6078133A

公开(公告)日：2000-06-20

申请号：US28797

申请日：1998-02-25

Applicant: Eric P. Menu ,  John Song ,  Bernard F. Coll

Inventor： Eric P. Menu ,  John Song ,  Bernard F. Coll

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/54 ,  C23C16/34 ,  H01J1/30 ,  H01J1/304 ,  H01J3/02 ,  H01J9/02 ,  H01J1/02

CPC classification number: C23C16/342 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/548 ,  H01J3/022 ,  H01J9/025 ,  H01J2201/30457 ,  H01J2201/319

Abstract: An amorphous multi-layered structure (100, 200) is formed by a method including the steps of: i) positioning a deposition substrate (101) in a physical vapor deposition apparatus, (300, 400, 500) ii) ionizing a precursor of a multi-phase material within the physical vapor deposition apparatus (300, 400, 500) iv) modulating the total ion impinging energy of the ions to deposit layers having predetermined properties corresponding to the total ion impinging energy values.

Abstract translation: 通过包括以下步骤的方法形成非晶多层结构（100,200）：i）将沉积基板（101）定位在物理气相沉积设备中（300,400,500），ii）将前体 在物理气相沉积装置（300,400,500）内的多相材料，iv）调节离子的总离子冲击能量以沉积具有对应于总离子冲击能量值的预定特性的层。

公开(公告)号：US5750188A

公开(公告)日：1998-05-12

申请号：US705361

申请日：1996-08-29

Applicant: Eric P. Menu

Inventor： Eric P. Menu

IPC: C09K11/08 ,  C09K11/60 ,  C23C14/00 ,  C23C14/08 ,  B05D5/13

CPC classification number: C23C14/0021 ,  C09K11/0811 ,  C09K11/605 ,  C23C14/086

Abstract: A method for forming a thin film (220) of luminescent zinc oxide includes the steps of: (i) providing a mixture (170) of powdered zinc oxide and powdered graphite, (ii) providing a substrate (140) at a distance of about 9 millimeters from the mixture (170), (iii) disposing the mixture (170) and substrate (140) within an apparatus (100) that provides a confined environment having a partial pressure of oxygen of about 0.21 atmospheres, (iv) heating the mixture (170) to a temperature of about 850 degrees Celsius, and (v) establishing a temperature gradient between the substrate (140) and the mixture (170) of about 15 degrees, the temperature of the substrate (140) being less than the temperature of the mixture (170).

Abstract translation: 形成发光氧化锌薄膜（220）的方法包括以下步骤：（i）提供粉状氧化锌和粉状石墨的混合物（170），（ii）提供距离约 离开混合物（170）9毫米，（iii）将混合物（170）和基底（140）设置在提供约0.21大气压的氧分压的限制环境的设备（100）内，（iv）加热 混合物（170）至约850摄氏度的温度，和（v）在衬底（140）和混合物（170）之间建立约15度的温度梯度，衬底（140）的温度小于 混合物的温度（170）。