公开(公告)号：US07029214B2

公开(公告)日：2006-04-18

申请号：US10767264

申请日：2004-01-30

申请人： Kazuhiro Shiba ,  Yoshiaki Kai ,  Takao Date

发明人： Kazuhiro Shiba ,  Yoshiaki Kai ,  Takao Date

IPC分类号： B23C9/00 ,  B23Q1/26 ,  B23Q1/40 ,  F16C29/10 ,  F16C29/12

CPC分类号： F16C29/10 ,  B23Q1/28 ,  F16C29/00 ,  F16C29/12 ,  F16C2322/39 ,  Y10T408/76 ,  Y10T408/91 ,  Y10T409/304312 ,  Y10T409/309912

摘要： There is provided a linear guide apparatus which, owing to the use of a gap-free braking device in a rolling guide, has a sufficiently high damping capacity. The linear guide apparatus for guiding a linear motion of a movable body along a guide rail on a fixed structure in a machine tool, includes: a rolling guide section including a rolling element for rolling on a rolling element-rolling surface of the guide rail; and a brake section for enhancing the damping capacity of the rolling guide section, the brake section including a pair of brake shoes, having a flexible structure, for sliding on the rolling element-rolling surface of the guide rail.

摘要翻译： 提供了一种线性引导装置，由于在滚动导轨中使用无间隙的制动装置，所以具有足够高的阻尼能力。 一种用于引导可移动体沿着导轨在机床上的固定结构上的直线运动的线性引导装置，包括：滚动导向部分，包括用于在导轨的滚动体滚动表面上滚动的滚动元件; 以及用于提高滚动导向部的阻尼能力的制动部，该制动部包括具有柔性结构的一对制动靴，用于在导轨的滚动体滚动面上滑动。

公开(公告)号：US06830415B2

公开(公告)日：2004-12-14

申请号：US10263092

申请日：2002-10-03

申请人： Kazuhiro Shiba ,  Minoru Hamamura ,  Katsuhito Endo ,  Takao Date

发明人： Kazuhiro Shiba ,  Minoru Hamamura ,  Katsuhito Endo ,  Takao Date

IPC分类号： B23C900

CPC分类号： B23Q11/0042 ,  G05B2219/49048 ,  G05B2219/49055 ,  Y10S29/094 ,  Y10S82/901 ,  Y10T29/49819 ,  Y10T29/49821 ,  Y10T29/53026 ,  Y10T29/5303 ,  Y10T29/53087 ,  Y10T83/091 ,  Y10T409/303752 ,  Y10T409/303864 ,  Y10T409/304088 ,  Y10T409/304312 ,  Y10T409/30476 ,  Y10T409/307336

摘要： A portion (14a, 14b) of a chip remover (14) is defined to be vibratory to give an NC machine tool (MT 1) a vibration transferable onto a surface (FS) of a work (13) under a finishing by the NC machine tool (MT1), a decision is made whether the NC machine tool (MT1) enters the finishing, and vibration of the vibratory portion (14a, 14b) is controlled, as the decision is true. A chip removal method and an NC machine tool equipped with a spiral chip remover (113) as a chip remover have various chip removal rules for determining permission/prohibition of the operation of the spiral chip remover (113). This spiral chip remover (113) operates based on commands described in a machining program. When a command in the machining program is executed, the permission/prohibition of the operation of the spiral chip remover (113) is controlled according to the chip removal rules.

摘要翻译： 芯片去除器（14）的一部分（14a，14b）被限定为振动的，从而给数控机床（MT1）提供振动，该振动能够通过NC机床在工件（13）的表面（FS）上精加工 工具（MT1），决定NC机床（MT1）是否进入精加工，并且作为判断结果，控制振动部（14a，14b）的振动。 配备有作为芯片去除器的螺旋形芯片去除器（113）的芯片去除方法和NC机床具有用于确定允许/禁止螺旋切屑去除器（113）的操作的各种切屑去除规则。 该螺旋切屑去除器（113）基于加工程序中描述的命令进行操作。 当执行加工程序中的命令时，根据切屑去除规则控制螺旋切屑去除器（113）的操作的允许/禁止。

公开(公告)号：US06685178B2

公开(公告)日：2004-02-03

申请号：US10318026

申请日：2002-12-13

申请人： Kazuhiro Shiba ,  Takao Date

发明人： Kazuhiro Shiba ,  Takao Date

IPC分类号： B23Q125

CPC分类号： B23Q1/385 ,  B23Q1/40

摘要： There is provided a linear guiding apparatus for a machine tool, the system having both of rapid characteristics of a rolling guide which does not deteriorate the precision of movement, and damping characteristics of a sliding guide which is hardly influenced by the load of a movable body. The feed guiding system includes: rolling guides 14a, 14b, 15a and 15b for guiding a horizontal movement while receiving the load of a movable body 12 on a bed 11; a sliding guide including sliding guide ways 16a and 16b, which extend in parallel to the rolling guides and in vertical directions, and slider portions 18a and 18b which slide on the sliding guide ways; and frictional force setting parts for changing the frictional force between the slider portions and the sliding guide ways, to set the magnitude of the frictional force.

摘要翻译： 提供了一种用于机床的线性引导装置，该系统具有不会降低运动精度的滚动导轨的快速特性，并且几乎不受可移动体的负载影响的滑动导向件的阻尼特性 。 进给引导系统包括：用于引导水平运动的滚动导轨14a，14b，15a和15b，同时在床11上接收可动体12的载荷; 包括平行于滚动导轨并沿垂直方向延伸的滑动导向件16a和16b的滑动导轨以及滑动导轨上滑动的滑块部分18a和18b; 以及用于改变滑块部分和滑动导轨之间的摩擦力的摩擦力设定部件，以设定摩擦力的大小。

公开(公告)号：US20090050933A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：US11815003

申请日：2005-12-15

申请人： Kazuhiro Shiba ,  Kikuo Makita ,  Takeshi Nakata

发明人： Kazuhiro Shiba ,  Kikuo Makita ,  Takeshi Nakata

IPC分类号： H01L31/0304 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L31/02161 ,  H01L31/035281 ,  H01L31/107 ,  Y02E10/50

摘要： Disclosed is a semiconductor light-receiving device having high reproducibility and reliability. Also disclosed is a method for manufacturing a semiconductor light-receiving device. Specifically disclosed is a semiconductor light-receiving device 100 with a mesa structure wherein a light-absorbing layer 6, an avalanche multiplication layer 4 and an electric-field relaxation layer 5 are formed on a semiconductor substrate 2. The light-absorbing layer 6, avalanche multiplication layer 4 and electric-field relaxation layer 5 exposed in the side wall of the mesa structure are protected by an SiNx film or an SiOyNz film. The hydrogen concentration in the side wall surface of the electric-field relaxation layer 5 is set at not more than 15%, preferably not more than 10% of the carrier concentration of the electric-field relaxation layer 5.

摘要翻译： 公开了一种具有高再现性和可靠性的半导体光接收装置。 还公开了一种用于制造半导体光接收装置的方法。 具体公开了具有台面结构的半导体光接收装置100，其中在半导体衬底2上形成有光吸收层6，雪崩倍增层4和电场弛豫层5.光吸收层6， 暴露在台面结构的侧壁中的雪崩倍增层4和电场弛豫层5被SiNx膜或SiO yNz膜保护。 电场弛豫层5的侧壁面的氢浓度为电场弛豫层5的载流子浓度的15％以下，优选为10％以下。

公开(公告)号：US06895297B2

公开(公告)日：2005-05-17

申请号：US10281983

申请日：2002-10-29

申请人： Kazuhiro Shiba ,  Minoru Hamamura

发明人： Kazuhiro Shiba ,  Minoru Hamamura

IPC分类号： B23Q15/00 ,  G05B19/404 ,  G05B19/409 ,  G05B19/4155 ,  G05B23/02 ,  G06F19/00

CPC分类号： G05B19/409 ,  G05B2219/33119 ,  G05B2219/35398 ,  G05B2219/35439 ,  G05B2219/35472

摘要： A numerical control device is disclosed having a parameter memory section 12B that stores discrete optimum parameters for respective operational modes, an operational mode setting switch 20 to allow operational modes to be selectively set through user's operation, and a defect content setting means for registering defect contents of machined results. The optimum parameter, suited for a particular operational mode selected and set with the operational mode setting switch 20, is retrieved for executing setting of the parameter while enabling setting of the parameter based on information obtained with the defect content setting means.

摘要翻译： 公开了一种数字控制装置，具有存储用于各个操作模式的离散最优参数的参数存储部分12B，操作模式设置开关20，以允许通过用户操作来选择性地设置操作模式;以及缺陷内容设置装置，用于记录缺陷 加工结果的内容。 检索适合于使用操作模式设置开关20选择和设置的特定操作模式的最佳参数，以便执行参数的设置，同时基于使用缺陷内容设置装置获得的信息来设置参数。

公开(公告)号：US06889115B2

公开(公告)日：2005-05-03

申请号：US10108866

申请日：2002-03-29

申请人： Kazuhiro Shiba ,  Minoru Hamamura ,  Jun Fujita

发明人： Kazuhiro Shiba ,  Minoru Hamamura ,  Jun Fujita

IPC分类号： G05B11/01 ,  G05B19/404 ,  G05D3/12 ,  H02P5/00 ,  H02P29/00 ,  G06F19/00

CPC分类号： G05B19/404 ,  G05B2219/41041 ,  G05B2219/41045

摘要： A position control apparatus and method has been devised which provides for an improved means of suppressing tracking error from a variable position reference occurring when a control object positioned via a transmission mechanism with mechanical transmission error resumes movement from a state stopped at a target position. A selection between two alternative tracking error compensating means within the control apparatus is made based on whether the detected position of the control object changes in a period after the control object stops and before the variable position reference is input again to a control deviation generating unit.

摘要翻译： 已经设计了一种位置控制装置和方法，其提供了一种改进的方法，用于当经由具有机械传动错误的传动机构定位的控制对象从在目标位置处停止的状态恢复运动时，从可变位置参考中消除跟踪误差。 基于控制对象的检测位置是否在控制对象停止之后的时段内以及在可变位置参考被再次输入到控制偏差产生单元之前，进行控制装置内的两个可选跟踪误差补偿装置之间的选择。

公开(公告)号：US06701212B2

公开(公告)日：2004-03-02

申请号：US09734725

申请日：2000-12-13

申请人： Kazuhiro Shiba ,  Sadaji Hayama ,  Minoru Hamamura

发明人： Kazuhiro Shiba ,  Sadaji Hayama ,  Minoru Hamamura

IPC分类号： G06F1900

CPC分类号： G05B19/404 ,  G05B2219/41059

摘要： A lost motion correction value setting method for a machine tool of a hybrid control system that performs a positional loop control with both machine position signals outputted from position detecting scales for detecting machine positions and motor position signals outputted from rotary encoders for detecting a rotational angle of a feed driving servomotor includes executing a test program; periodically inputting the machine position signals outputted from the position detecting scale and the motor position signals outputted from the rotary encoder; determining errors by determining the difference between the machine position signals and the motor position signals, determining the difference between an average value on an advance side and an average value on a return side of the errors, and storing the difference in lost motion correction value memories as a dynamic lost motion correction value.

摘要翻译： 一种用于混合控制系统的机床的失速运动校正值设定方法，其利用从用于检测机器位置的位置检测标尺输出的两个机器位置信号和从旋转编码器输出的用于检测旋转角度的旋转角度的电动机位置信号执行位置环路控制 进给驱动伺服电机包括执行测试程序; 周期性地输入从位置检测标尺输出的机器位置信号和从旋转编码器输出的电机位置信号; 通过确定机器位置信号和电动机位置信号之间的差异来确定误差，确定前进侧的平均值与误差的返回侧的平均值之间的差，以及存储失调校正值存储器中的差异 作为动态失去运动校正值。

公开(公告)号：US08330242B2

公开(公告)日：2012-12-11

申请号：US12919551

申请日：2009-03-05

申请人： Kazuhiro Shiba ,  Junichi Fujikata

发明人： Kazuhiro Shiba ,  Junichi Fujikata

IPC分类号： G02B6/26

CPC分类号： H01L31/105 ,  G02B6/12004 ,  G02B6/125 ,  H01L31/107

摘要： The Si waveguide 305 includes a first conductivity-type Si layer 301 and an intrinsic Si layer 302, and a second conductivity-type light-absorption layer 303 is partially formed on an area thereof. During operation, a reverse bias is applied between the first conductivity-type Si layer 301 and the light-absorption layer 303. Since the light-absorption layer 303 has a conductivity type, it is not depleted when a voltage is applied, but the intrinsic Si layer 302 forming the Si waveguide 305 is depleted. Therefore, it is possible to reduce a CR time constant. Furthermore, since the intrinsic Si layer 302 can be formed on the first conductivity-type Si layer 301 in a continuous manner, it is possible to reduce lattice defects. As a result, it is possible to suppress the dark current generated in the light-receiving element.

摘要翻译： Si波导305包括第一导电型Si层301和本征Si层302，并且在其一部分上部分地形成第二导电型光吸收层303。 在操作期间，在第一导电型Si层301和光吸收层303之间施加反向偏压。由于光吸收层303具有导电类型，所以在施加电压时不会耗尽，而是内在的 形成Si波导305的Si层302耗尽。 因此，可以减少CR时间常数。 此外，由于本征Si层302可以以连续的方式形成在第一导电型Si层301上，所以可以减少晶格缺陷。 结果，可以抑制在光接收元件中产生的暗电流。

公开(公告)号：US08304335B2

公开(公告)日：2012-11-06

申请号：US13269153

申请日：2011-10-07

申请人： Shigeru Koumoto ,  Tatsuya Sasaki ,  Kazuhiro Shiba ,  Masayoshi Sumino

发明人： Shigeru Koumoto ,  Tatsuya Sasaki ,  Kazuhiro Shiba ,  Masayoshi Sumino

IPC分类号： H01L21/28

CPC分类号： H01L33/40 ,  H01L21/28575 ,  H01L33/32 ,  H01S5/0421 ,  H01S5/0425 ,  H01S5/2009 ,  H01S5/22 ,  H01S5/32341

摘要： According to the present invention, there is provided an electrode structure which includes: a nitride semiconductor layer; an electrode provided over the nitride semiconductor layer; and an electrode protective film provided over the electrode, wherein the nitride semiconductor layer contains a metal nitride containing Nb, Hf or Zr as a constitutive element, the electrode has a portion having a metal oxide containing Ti or V as a constitutive element formed therein, and the electrode protective film covers at least a portion of the electrode, and contains a protective layer having Au or Pt as a constitutive element.

摘要翻译： 根据本发明，提供了一种电极结构，其包括：氮化物半导体层; 设置在氮化物半导体层上的电极; 以及设置在所述电极上的电极保护膜，其中所述氮化物半导体层包含含有Nb，Hf或Zr作为构成元素的金属氮化物，所述电极具有含有作为其中形成的构成元素的Ti或V的金属氧化物的部分， 并且所述电极保护膜覆盖所述电极的至少一部分，并且包含具有Au或Pt作为构成要素的保护层。

公开(公告)号：US20090160033A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12095031

申请日：2006-12-20

申请人： Sawaki Watanabe ,  Kazuhiro Shiba ,  Takeshi Nakata

发明人： Sawaki Watanabe ,  Kazuhiro Shiba ,  Takeshi Nakata

IPC分类号： H01L29/06 ,  H01L31/0352 ,  H01L33/00

CPC分类号： H01L33/20 ,  H01L31/022408 ,  H01L31/035281 ,  H01L31/1075 ,  H01L31/109 ,  Y02E10/50

摘要： A light receiving element 1 has a semiconductor substrate 101; a first mesa 11 provided over the semiconductor substrate 101, and having an active region and a first electrode (p-side electrode 111) provided over the active region; a second mesa 12 provided over the semiconductor substrate 101, and having a semiconductor layer and a second electrode (n-side electrode 121) provided over the semiconductor layer; and a third mesa 13 provided over the semiconductor substrate 101, and having a semiconductor layer, wherein the third mesa 13 is arranged so as to surround the first mesa 11.

摘要翻译： 光接收元件1具有半导体衬底101; 设置在半导体衬底101上的第一台面11，并且具有有源区和设置在有源区上的第一电极（p侧电极111）; 设置在半导体衬底101上的第二台面12，并且具有设置在半导体层上的半导体层和第二电极（n侧电极121）; 以及设置在半导体衬底101上并具有半导体层的第三台面13，其中第三台面13布置成围绕第一台面11。