公开(公告)号：US07435984B2

公开(公告)日：2008-10-14

申请号：US11456115

申请日：2006-07-07

申请人： Koichi Sentoku ,  Gaku Takahashi ,  Hideki Ina ,  Yoshinori Miwa

发明人： Koichi Sentoku ,  Gaku Takahashi ,  Hideki Ina ,  Yoshinori Miwa

IPC分类号： G01N21/86

CPC分类号： G03F7/70883 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0844 ,  G03F7/70275 ,  G03F9/7096

摘要： An imaging optical system for imaging a pattern of an object plane onto an image plane includes a first imaging optical system for imaging at a first imaging position, the first imaging optical system having a magnification α in a vacuum atmosphere, and a second imaging optical system for imaging at a second imaging position, the second imaging optical system having a magnification β in the vacuum atmosphere, wherein when an environment in which the imaging optical system is placed changes from the vacuum atmosphere to an air atmosphere or vise versa, a direction of the first imaging position that moves along an optical axis is opposite to a direction of the second imaging position that moves along the optical axis.

摘要翻译： 用于将物平面图案成像到图像平面上的成像光学系统包括用于在第一成像位置成像的第一成像光学系统，具有在真空气氛中的α倍的第一成像光学系统和第二成像光学系统 为了在第二成像位置进行成像，第二成像光学系统在真空气氛中具有放大率β，其中当放置成像光学系统的环境从真空气氛改变到空气气氛或反之亦然时，方向 沿着光轴移动的第一成像位置与沿着光轴移动的第二成像位置的方向相反。

公开(公告)号：US07586582B2

公开(公告)日：2009-09-08

申请号：US11462175

申请日：2006-08-03

申请人： Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Gaku Takahashi ,  Yoshinori Miwa

发明人： Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Gaku Takahashi ,  Yoshinori Miwa

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7096

摘要： At least one exemplary embodiment is directed to an exposure apparatus which includes a chamber, an evacuating device configured to evacuate the chamber, a sensor configured to measure at least any one of the position and the height of a substrate, and a cover for hermetically sealing at least part of the sensor.

摘要翻译： 至少一个示例性实施例涉及一种曝光装置，其包括腔室，被构造成抽空腔室的抽空装置，构造成测量基底的位置和高度中的至少任何一个的传感器，以及用于气密密封的盖 传感器的至少一部分。

公开(公告)号：US20070035708A1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：US11462175

申请日：2006-08-03

申请人： Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Gaku Takahashi ,  Yoshinori Miwa

发明人： Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Gaku Takahashi ,  Yoshinori Miwa

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7096

摘要： At least one exemplary embodiment is directed to an exposure apparatus which includes a chamber, an evacuating device configured to evacuate the chamber, a sensor configured to measure at least any one of the position and the height of a substrate, and a cover for hermetically sealing at least part of the sensor.

摘要翻译： 至少一个示例性实施例涉及一种曝光装置，其包括腔室，构造成抽空腔室的抽空装置，构造成测量基底的位置和高度中的至少任何一个的传感器和用于气密密封的盖 传感器的至少一部分。

公开(公告)号：US07123414B2

公开(公告)日：2006-10-17

申请号：US10869558

申请日：2004-06-16

申请人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina

发明人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina

IPC分类号： G02B27/44 ,  G02B5/18

CPC分类号： G01B11/24

摘要： A method for producing a library includes the steps of calculating a plurality of conditions for a reflection light from a periodic pattern by changing the sectional shape of the periodic pattern, a condition of an incident light which is emitted to the periodic pattern, an optical constant of a material which forms the periodic pattern, relating a plurality of the libraries to the plurality of the reflection light's conditions, and the optical constant corresponding to the plurality of the reflection light's conditions respectively.

摘要翻译： 一种用于制作库的方法包括以下步骤：通过改变周期性图案的截面形状，发射到周期图案的入射光的条件，光学常数来计算来自周期性图案的反射光的多个条件 形成周期性图案的材料，将多个库与多个反射光的条件相关联，以及分别对应于多个反射光的条件的光学常数。

公开(公告)号：US07110116B2

公开(公告)日：2006-09-19

申请号：US10279924

申请日：2002-10-25

申请人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku

发明人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G01B21/00 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F9/7065 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7088

摘要： An alignment apparatus for aligning a reflective reticle includes a light source for emitting alignment light, an optical alignment mark provided on the reticle, and a reference mark provided on a reticle stage that holds the reticle. A detecting unit detects the alignment light reflected from the alignment mark and the reference mark, and the reticle is aligned on the basis of the result of detection by the detection unit.

摘要翻译： 用于对准反射标线的对准装置包括用于发射对准光的光源，设置在光罩上的光学对准标记，以及设置在保持光罩的标线片台上的参考标记。 检测单元检测从对准标记和参考标记反射的对准光，并且基于检测单元的检测结果对准标线。

公开(公告)号：US07067826B2

公开(公告)日：2006-06-27

申请号：US10151151

申请日：2002-05-21

申请人： Takehiko Suzuki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

发明人： Takehiko Suzuki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G03F9/7015 ,  G03F7/70233 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088

摘要： A reticle stage reference mark 3 of material having high reflectivity to alignment illumination light is provided on a reticle 5, and a chuck mark 8 of material having high reflectivity to the alignment illumination light is provided on a wafer chuck 11. A relative position of the reticle stage reference mark 3 to the chuck mark 8 is detected by using a first position detection optical system 1 and a first illumination optical system 2, and relative alignment is performed between the reticle 5 and a wafer 10.

摘要翻译： 在掩模版5上设置有对齐照明光具有高反射率的材料的标线片基准标记3，并且在晶片卡盘11上设置具有对准照明光的高反射率的材料的卡盘8。 通过使用第一位置检测光学系统1和第一照明光学系统2来​​检测标线片基准标记3与卡盘标记8的相对位置，并且在标线片5和晶片10之间进行相对对准。

公开(公告)号：US20060050274A1

公开(公告)日：2006-03-09

申请号：US11218538

申请日：2005-09-06

申请人： Takahiro Matsumoto ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

发明人： Takahiro Matsumoto ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7092 ,  G03F7/70633

摘要： An exposure apparatus performs AGA measurement by using a predetermined sample shot group formed on a wafer, and decides an alignment parameter. The exposure apparatus executes wafer alignment processing and exposure processing by using the alignment parameter. The exposure apparatus notifies a central processing unit of AGA measurement results and the alignment parameter. An overlay inspection apparatus measures an actual exposure position on the exposed wafer, and notifies the central processing unit of the measurement result. The central processing unit optimizes alignment processing on the basis of the AGA measurement results, alignment parameter, and actually measured exposure position.

摘要翻译： 曝光装置通过使用形成在晶片上的预定取样组进行AGA测量，并且确定对准参数。 曝光装置通过使用对准参数来执行晶片对准处理和曝光处理。 曝光装置向中央处理单元通知AGA测量结果和对准参数。 覆盖检查装置测量曝光的晶片上的实际曝光位置，并向中央处理单元通知测量结果。 中央处理单元根据AGA测量结果，对准参数和实际测量的曝光位置优化对准处理。

公开(公告)号：US06992767B2

公开(公告)日：2006-01-31

申请号：US10423889

申请日：2003-04-28

申请人： Takahiro Matsumoto ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

发明人： Takahiro Matsumoto ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G01B11/00 ,  G06F19/00

CPC分类号： G03F9/7092 ,  G03F7/70633

摘要： An exposure apparatus performs AGA measurement by using a predetermined sample shot group formed on a wafer, and decides an alignment parameter. The exposure apparatus executes wafer alignment processing and exposure processing by using the alignment parameter. The exposure apparatus notifies a central processing unit (4) of AGA measurement results and the alignment parameter. An overlay inspection apparatus measures an actual exposure position on the exposed wafer, and notifies the central processing unit of the measurement result. The central processing unit (4) optimizes alignment processing on the basis of the AGA measurement results, alignment parameter, and actually measured exposure position.

摘要翻译： 曝光装置通过使用形成在晶片上的预定取样组进行AGA测量，并且确定对准参数。 曝光装置通过使用对准参数来执行晶片对准处理和曝光处理。 曝光装置向中央处理单元（4）通知AGA测量结果和对准参数。 覆盖检查装置测量曝光的晶片上的实际曝光位置，并向中央处理单元通知测量结果。 中央处理单元（4）基于AGA测量结果，对准参数和实际测量的曝光位置来优化对准处理。

公开(公告)号：US07771905B2

公开(公告)日：2010-08-10

申请号：US11618137

申请日：2006-12-29

申请人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina ,  Koji Mikami ,  Yoshiaki Sugimura ,  Hiroto Yoshii ,  Tomoyuki Miyashita

发明人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina ,  Koji Mikami ,  Yoshiaki Sugimura ,  Hiroto Yoshii ,  Tomoyuki Miyashita

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F7/70625

摘要： A method for calculating an offset of an exposure dose and a focus position in an exposure apparatus that exposes a substrate via an original includes the steps of obtaining information of a shape of a pattern formed on the substrate using the exposure apparatus, calculating a shift amount between a critical dimension contained in the information of the shape of the pattern and a reference value of the critical dimension, and calculating an offset of the focus position based on the information of the shape of the pattern, and calculating the offset of the exposure dose based on the shift amount and the offset of the focus position.

摘要翻译： 用于计算经由原稿曝光基板的曝光装置中的曝光剂量和聚焦位置的偏移量的方法包括以下步骤：使用曝光装置获得在基板上形成的图案的形状的信息，计算偏移量 在包含在图案形状的信息和临界尺寸的参考值之间的临界尺寸之间，基于图案形状的信息计算焦点位置的偏移量，以及计算曝光剂量的偏移量 基于偏移量和焦点位置的偏移。

公开(公告)号：US07531821B2

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：US11851006

申请日：2007-09-06

申请人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

发明人： Nobuhito Suehira ,  Junichi Seki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G01N21/86

CPC分类号： G03F9/7088 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7042 ,  G06K9/325

摘要： An imprint apparatus, comprising a first holder for holding a mold having an imprint pattern; a second holder for holding a workpiece to which the imprint pattern is transferred; a first illumination system for irradiating a mark for determining a position of the mold and a mark for determining a position of the workpiece with light; a first and second optical systems for imaging the marks for the mold and workpiece at a first and second observation points respectively; an imaging optical system; a first and second image pick-up devices for observing the marks for the mold and workpiece respectively; and at least one of a first drive mechanism for moving the first image pick-up device while following movement of the first observation point and a second drive mechanism for moving the second image pick-up device while following movement of the second observation point.

摘要翻译： 一种压印装置，包括用于保持具有印记图案的模具的第一保持器; 用于保持印刷图案被转印到的工件的第二保持器; 用于照射用于确定模具的位置的标记的第一照明系统和用于用光确定工件的位置的标记; 第一和第二光学系统，用于分别在第一和第二观察点成像用于模具和工件的标记; 成像光学系统; 分别用于观察模具和工件的标记的第一和第二图像拾取装置; 以及用于在跟随第一观察点的移动的同时移动第一图像拾取装置的第一驱动机构和用于在第二观察点的移动之前移动第二图像拾取装置的第二驱动机构中的至少一个。