公开(公告)号：US09431234B1

公开(公告)日：2016-08-30

申请号：US14798443

申请日：2015-07-13

申请人： Polyera Corporation

发明人： Shaofeng Lu ,  Damien Boudinet ,  Yu Xia ,  Wei Zhao ,  Antonio Facchetti

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/445 ,  H01L51/05 ,  H01L51/00

CPC分类号： H01L51/0034 ,  C08G61/08 ,  C08G2261/135 ,  C08G2261/3325 ,  C08G2261/418 ,  C08G2261/65 ,  C08G2261/72 ,  C08G2261/76 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/445 ,  H01L23/293 ,  H01L23/3178 ,  H01L29/4908 ,  H01L29/7869 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/052 ,  H01L51/0529 ,  H01L51/0558 ,  H01L51/107

摘要： Disclosed are curable linear polymers that can be used as active and/or passive organic materials in various electronic, optical, and optoelectronic devices. In some embodiments, the device can include an organic semiconductor layer and a dielectric layer prepared from such curable linear polymers. In some embodiments, the device can include a passivation layer prepared from the linear polymers described herein. The present linear polymers can be solution-processed, then cured thermally (particularly, at relatively low temperatures) and/or photochemically into various thin film materials with desirable properties.

摘要翻译： 公开了可用作各种电子，光学和光电子器件中的有源和/或无源有机材料的可固化线性聚合物。 在一些实施例中，该装置可以包括由这种可固化线性聚合物制备的有机半导体层和电介质层。 在一些实施例中，该装置可以包括由本文所述的线性聚合物制备的钝化层。 本发明的线性聚合物可以进行溶液处理，然后热（特别是在相对较低的温度）和/或光化学固化成具有所需性质的各种薄膜材料。

公开(公告)号：US20160190337A1

公开(公告)日：2016-06-30

申请号：US14943018

申请日：2015-11-16

申请人： Polyera Corporation

发明人： Shaofeng Lu ,  Daniel Batzel ,  Chun Huang ,  Minhuei Wang ,  Meko McCray ,  Yu Xia ,  Antonio Facchetti

IPC分类号： H01L29/786 ,  G03F7/038 ,  H01L27/12

CPC分类号： H01L29/78606 ,  C08G65/4006 ,  C08G65/48 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0384 ,  G03F7/0388 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/127 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78696

摘要： The present polymeric materials can be patterned with relatively low photo-exposure energies and are thermally stable, mechanically robust, resist water penetration, and show good adhesion to metal oxides, metals, metal alloys, as well as organic materials. In addition, these polymeric materials can be solution-processed (e.g., by spin-coating), and can exhibit good chemical (e.g., solvent and etchant) resistance in the cured form.

公开(公告)号：US20130217180A1

公开(公告)日：2013-08-22

申请号：US13844771

申请日：2013-03-15

申请人： NORTHWESTERN UNIVERSITY ,  POLYERA CORPORATION

发明人： Antonio Facchetti ,  Tobin J. Marks ,  Mercouri G. Kanatzidis ,  Myung-Gil Kim ,  William Christopher Sheets ,  He Yan ,  Yu Xia

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L29/66 ,  H01L21/285

CPC分类号： H01L29/66969 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1237 ,  C23C18/125 ,  C23C18/127 ,  H01L21/02172 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/02192 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02244 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/28506 ,  H01L21/441 ,  H01L21/443 ,  H01L21/477 ,  H01L29/45 ,  H01L29/517 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78693

摘要： Disclosed are new methods of fabricating metal oxide thin films and nanomaterial-derived metal composite thin films via solution processes at low temperatures (

公开(公告)号：US09704997B2

公开(公告)日：2017-07-11

申请号：US14943018

申请日：2015-11-16

申请人： Polyera Corporation

发明人： Shaofeng Lu ,  Daniel Batzel ,  Chun Huang ,  Minhuei Wang ,  Meko McCray ,  Yu Xia ,  Antonio Facchetti

IPC分类号： C08F2/46 ,  C08G61/04 ,  H01L29/786 ,  H01L29/66 ,  G03F7/038 ,  C08G65/40 ,  C08G65/48 ,  G03F7/004 ,  H01L27/12

CPC分类号： H01L29/78606 ,  C08G65/4006 ,  C08G65/48 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0384 ,  G03F7/0388 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/127 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78696

摘要： The present polymeric materials can be patterned with relatively low photo-exposure energies and are thermally stable, mechanically robust, resist water penetration, and show good adhesion to metal oxides, metals, metal alloys, as well as organic materials. In addition, these polymeric materials can be solution-processed (e.g., by spin-coating), and can exhibit good chemical (e.g., solvent and etchant) resistance in the cured form.

公开(公告)号：US20150021597A1

公开(公告)日：2015-01-22

申请号：US14332332

申请日：2014-07-15

申请人： Polyera Corporation

发明人： Shaofeng Lu ,  Daniel Batzel ,  Chun Huang ,  Ming Huei Wang ,  Meko McCray ,  Yu Xia ,  Antonio Facchetti

IPC分类号： H01L29/66 ,  C08G65/48 ,  C08G65/40 ,  H01L29/786 ,  G03F7/038

CPC分类号： H01L29/78606 ,  C08G65/4006 ,  C08G65/48 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0384 ,  G03F7/0388 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/127 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78696

摘要： The present polymeric materials can be patterned with relatively low photo-exposure energies and are thermally stable, mechanically robust, resist water penetration, and show good adhesion to metal oxides, metals, metal alloys, as well as organic materials. In addition, these polymeric materials can be solution-processed (e.g., by spin-coating), and can exhibit good chemical (e.g., solvent and etchant) resistance in the cured form.

摘要翻译： 本发明的聚合物材料可以以相对较低的光曝露能量进行图案化，并且是热稳定的，机械稳固的，抗水渗透性，并且对金属氧化物，金属，金属合金以及有机材料表现出良好的粘合性。 此外，这些聚合物材料可以进行溶液处理（例如通过旋涂），并且可以在固化形式中显示良好的化学（例如溶剂和蚀刻剂）电阻。

公开(公告)号：US20150206957A1

公开(公告)日：2015-07-23

申请号：US14606014

申请日：2015-01-26

申请人： Northwestern University ,  Polyera Corporation

发明人： Antonio Facchetti ,  Tobin J. Marks ,  Mercouri G. Kanatzidis ,  Myung-Gil Kim ,  William Christopher Sheets ,  He Yan ,  Yu Xia

IPC分类号： H01L29/66 ,  H01L29/45 ,  H01L21/477 ,  H01L21/02 ,  H01L21/443 ,  H01L29/786 ,  H01L29/51

CPC分类号： H01L29/66969 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1237 ,  C23C18/125 ,  C23C18/127 ,  H01L21/02172 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/02192 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02244 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/28506 ,  H01L21/441 ,  H01L21/443 ,  H01L21/477 ,  H01L29/45 ,  H01L29/517 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78693

摘要： Disclosed are new methods of fabricating nanomaterial-derived metal composite thin films via solution processes at low temperatures (

摘要翻译： 公开了在低温（<400℃）下通过溶液工艺制造纳米材料衍生的金属复合薄膜的新方法。 本薄膜可用作薄膜半导体，薄膜电介质或薄膜导体，并且可以实现为诸如薄膜晶体管和薄膜光伏器件的半导体器件。

公开(公告)号：US08940578B2

公开(公告)日：2015-01-27

申请号：US13804037

申请日：2013-03-14

申请人： Northwestern University ,  Polyera Corporation

发明人： Antonio Facchetti ,  Tobin J. Marks ,  Mercouri G. Kanatzidis ,  Myung-Gil Kim ,  William Christopher Sheets ,  He Yan ,  Yu Xia

IPC分类号： H01L21/441 ,  H01L21/02 ,  C23C18/12 ,  H01L29/66 ,  H01L21/285 ,  H01L29/786

CPC分类号： H01L29/66969 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1237 ,  C23C18/125 ,  C23C18/127 ,  H01L21/02172 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/02192 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02244 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/28506 ,  H01L21/441 ,  H01L21/443 ,  H01L21/477 ,  H01L29/45 ,  H01L29/517 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78693

摘要： Disclosed are new methods of fabricating metal oxide thin films and nanomaterial-derived metal composite thin films via solution processes at low temperatures (

摘要翻译： 公开了通过低温（<400℃）的溶液工艺制造金属氧化物薄膜和纳米材料衍生的金属复合薄膜的新方法。 本薄膜可用作薄膜半导体，薄膜电介质或薄膜导体，并且可以实现为诸如薄膜晶体管和薄膜光伏器件的半导体器件。

公开(公告)号：US08878169B2

公开(公告)日：2014-11-04

申请号：US13796017

申请日：2013-03-12

申请人： Polyera Corporation

发明人： Hakan Usta ,  Huei Shuan Phoebe Tan ,  Yu Xia ,  Zhihua Chen ,  Yan Zheng ,  Antonio Facchetti

IPC分类号： H01L29/08 ,  H01L51/05 ,  C08F220/28 ,  H01L51/10 ,  C08F220/30

CPC分类号： H01L51/0512 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/092 ,  H01L51/052 ,  H01L51/0541 ,  H01L51/0545 ,  H01L51/107

摘要： Disclosed are photocurable polymers that can be used as active and/or passive organic materials in various electronic, optical, and optoelectronic devices. In some embodiments, the device can include a dielectric layer prepared from such photocurable polymers. In some embodiments, the device can include a passivation layer prepared from the polymers described herein.

摘要翻译： 公开了可用作各种电子，光学和光电子器件中的有源和/或无源有机材料的光固化聚合物。 在一些实施例中，该装置可以包括由这种光固化聚合物制备的介电层。 在一些实施方案中，该装置可以包括由本文所述的聚合物制备的钝化层。

公开(公告)号：US20130196469A1

公开(公告)日：2013-08-01

申请号：US13804037

申请日：2013-03-14

申请人： Northwestern University ,  Polyera Corporation

发明人： Antonio Facchetti ,  Tobin J. Marks ,  Mercouri G. Kanatzidis ,  Myung-Gil Kim ,  William Christopher Sheets ,  He Yan ,  Yu Xia

IPC分类号： H01L29/66 ,  H01L21/02 ,  H01L21/441

CPC分类号： H01L29/66969 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1237 ,  C23C18/125 ,  C23C18/127 ,  H01L21/02172 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/02192 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02244 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/28506 ,  H01L21/441 ,  H01L21/443 ,  H01L21/477 ,  H01L29/45 ,  H01L29/517 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78693

摘要： Disclosed are new methods of fabricating metal oxide thin films and nanomaterial-derived metal composite thin films via solution processes at low temperatures (

摘要翻译： 公开了通过低温（<400℃）的溶液工艺制造金属氧化物薄膜和纳米材料衍生的金属复合薄膜的新方法。 本薄膜可用作薄膜半导体，薄膜电介质或薄膜导体，并且可以实现为诸如薄膜晶体管和薄膜光伏器件的半导体器件。

公开(公告)号：US20160149138A1

公开(公告)日：2016-05-26

申请号：US14951628

申请日：2015-11-25

申请人： Northwestern University ,  Polyera Corporation

发明人： Antonio Facchetti ,  Tobin J. Marks ,  Yu Xia ,  Martin Drees ,  Ferdinand Melkonyan ,  Wei Zhao

IPC分类号： H01L51/00 ,  C08G75/06 ,  C07D513/14

CPC分类号： H01L51/0036 ,  C07D513/14 ,  C08G61/122 ,  C08G61/126 ,  C08G75/06 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/3223 ,  C08G2261/3243 ,  C08G2261/344 ,  C08G2261/364 ,  C08G2261/414 ,  C08G2261/92 ,  C09K11/06 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0068 ,  H01L51/0071 ,  H01L51/0558 ,  H01L51/4253 ,  Y02E10/549

摘要： The present invention relates to new semiconducting compounds having at least one optionally substituted bithiophene sulfonamide moiety. The compounds disclosed herein can exhibit high carrier mobility and/or efficient light absorption/emission characteristics, and can possess certain processing advantages such as solution-processability and/or good stability at ambient conditions.

摘要翻译： 本发明涉及具有至少一个任选取代的二噻吩磺酰胺部分的新的半导体化合物。 本文公开的化合物可以表现出高的载流子迁移率和/或有效的光吸收/释放特性，并且可以具有某些加工优点，例如在环境条件下的溶液加工性和/或良好的稳定性。