公开(公告)号：US20190048488A1

公开(公告)日：2019-02-14

申请号：US16164795

申请日：2018-10-19

申请人： Seoul Semiconductor Co., Ltd.

发明人： Jacob J. Richardson ,  Evan C. O'Hara ,  Daniel Estrada

IPC分类号： C30B7/04 ,  H01L21/02 ,  C30B7/00 ,  C25D7/12 ,  C30B29/16 ,  C30B19/00 ,  C23C18/16 ,  C23C18/12 ,  C30B29/10

CPC分类号： C30B7/04 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/125 ,  C23C18/1283 ,  C23C18/1651 ,  C25D7/123 ,  C30B7/00 ,  C30B19/00 ,  C30B29/10 ,  C30B29/16 ,  H01L21/02175 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02293 ,  H01L21/02304 ,  H01L21/02307

摘要： A solution deposition method includes: applying a liquid precursor solution to a substrate, the precursor solution including an oxide of a first metal, a hydroxide of the first metal, or a combination thereof, dissolved in an aqueous ammonia solution; evaporating the precursor solution to directly form a solid seed layer on the substrate, the seed layer including an oxide of the first metal, a hydroxide of the first metal, or a combination thereof, the seed layer being substantially free of organic compounds; and growing a bulk layer on the substrate, using the seed layer as a growth site or a nucleation site.

公开(公告)号：US20160315215A1

公开(公告)日：2016-10-27

申请号：US15102569

申请日：2014-12-19

申请人： NUVOSUN, INC.

发明人： Bruce HACHTMANN ,  Preston CLOVER ,  Dennis HOLLARS ,  Arthur C. WALL ,  Rocky TAYLOR ,  Gang Grant PENG

IPC分类号： H01L31/18 ,  B05C11/02 ,  B05C11/10 ,  H01L31/0392 ,  B05C5/00

CPC分类号： H01L31/1876 ,  B05C5/007 ,  B05C11/026 ,  B05C11/1039 ,  C23C18/1204 ,  C23C18/125 ,  H01L31/03925 ,  H01L31/03926 ,  H01L31/1836 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/50

摘要： Methods and systems for forming a layer from a fluid mixture on a web are provided. The system includes a fluid delivery apparatus for delivering the fluid mixture onto the web. The fluid delivery apparatus includes a cascade device and a chemical dispenser device. The system also includes a fluid stirring apparatus comprising at least one fan positioned over the web and configured to generate a flow pattern that stirs the fluid mixture on the web while the layer is being formed, without the at least one fan contacting the fluid mixture. The system further includes a fluid removal apparatus having a rinsing device and a suction device. The rinsing device is configured to dispense a rinsing fluid onto the web. The suction device is configured to remove by suction the rinsing fluid and a remaining portion of the fluid mixture remaining on the web after formation of the layer.

摘要翻译： 提供了用于从网上的流体混合物形成层的方法和系统。 该系统包括用于将流体混合物输送到卷材上的流体输送装置。 流体输送装置包括级联装置和化学分配装置。 该系统还包括流体搅拌装置，其包括至少一个风扇，该风扇定位在纸幅上并且被配置为产生流动图案，其在形成该层的同时搅拌幅材上的流体混合物，而至少一个风扇不接触流体混合物。 该系统还包括具有漂洗装置和抽吸装置的流体清除装置。 冲洗装置被配置为将清洗流体分配到网上。 抽吸装置构造成在形成层之后通过抽吸去除冲洗流体和剩余部分的流体混合物。

公开(公告)号：US20160163538A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：US15009248

申请日：2016-01-28

申请人： NIKON CORPORATION

发明人： Makoto NAKAZUMI ,  Yasutaka Nishi

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L29/66 ,  C01F7/02 ,  H01L21/28

CPC分类号： H01L21/02178 ,  C01F7/02 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/125 ,  H01L21/02172 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02323 ,  H01L21/02334 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/28008 ,  H01L21/28158 ,  H01L21/311 ,  H01L29/4908 ,  H01L29/517 ,  H01L29/66477

摘要： Provided is a technology for efficiently obtaining a metal oxide film having good adhesiveness. A method of producing a metal oxide film includes: an application step of applying a solution containing an organic metal complex onto a substrate; an ozone exposure step of exposing the resultant coating film to ozone; and a heating step of heating the coating film.

摘要翻译： 提供了一种有效地获得具有良好粘附性的金属氧化物膜的技术。 制造金属氧化物膜的方法包括：将含有有机金属络合物的溶液涂布在基板上的涂布工序; 将所得涂膜暴露于臭氧的臭氧暴露步骤; 以及加热涂膜的加热步骤。

公开(公告)号：US09249507B2

公开(公告)日：2016-02-02

申请号：US13452933

申请日：2012-04-23

申请人： Wei-Tse Hsu ,  Tung-Po Hsieh ,  Song-Yeu Tsai

发明人： Wei-Tse Hsu ,  Tung-Po Hsieh ,  Song-Yeu Tsai

IPC分类号： B05C3/02 ,  B05C3/04 ,  B05B1/00 ,  C23C18/12

CPC分类号： C23C18/12 ,  B05C3/02 ,  C23C18/1204 ,  C23C18/125 ,  C23C18/1283 ,  C23C18/1295

摘要： A chemical bath deposition (CBD) apparatus includes a first cap, a second cap, and a solution input/output device. The second cap is arranged corresponding to the first cap so as to form a deposition space. The solution input/output device is located in the first cap so as to feed a solution into/out of the deposition space. The position of the solution input/output device is fixed, or the solution input/output device is movable in the deposition space.

摘要翻译： 化学浴沉积（CBD）装置包括第一盖，第二盖和溶液输入/输出装置。 第二盖被布置成对应于第一盖，以形成沉积空间。 溶液输入/输出装置位于第一盖中，以将溶液供入/离开沉积空间。 解决方案输入/输出设备的位置固定，或解决方案输入/输出设备可在沉积空间中移动。

公开(公告)号：US09096923B2

公开(公告)日：2015-08-04

申请号：US13293726

申请日：2011-11-10

申请人： Joel Edward Clinton ,  Curtis Robert Fekety ,  Yunfeng Gu

发明人： Joel Edward Clinton ,  Curtis Robert Fekety ,  Yunfeng Gu

IPC分类号： B05C7/04 ,  B05C5/00 ,  B05D5/00 ,  B05D1/00 ,  C23C18/12 ,  B05D7/22 ,  C23C18/02 ,  B05D3/04

CPC分类号： C23C18/1262 ,  B05C7/04 ,  B05D3/0493 ,  B05D7/22 ,  C23C18/02 ,  C23C18/125

摘要： A coating apparatus includes modular interfaces and substrate receptors for accommodating various shapes and sizes of monolith substrates when coating layers are applied onto the monolith substrates. The monolith substrates are laterally surrounded by an elastically deformable sleeve that prevents lateral leakage of a vacuum out of the monolith substrate when a vacuum is applied to opposing ends of the monolith substrate, thereby eliminating needs for bulky vacuum chambers. The coating apparatus also includes valves and control apparatus that enable excess precursor liquid to be drained from monolith channels in-situ, without the use of additional spin-drying steps. Coating methods for using the coating apparatus are provided.

摘要翻译： 涂覆设备包括用于在将涂层施加到整体衬底上时适应各种形状和尺寸的整体衬底的模块化界面和衬底受体。 单块基板被可弹性变形的套筒侧向包围，当将真空施加到整体式基板的相对端部时，可防止真空从单体基板侧向泄漏，从而消除了对庞大的真空室的需要。 涂覆设备还包括阀和控制装置，其能够使多余的前体液体能够从原料中的整料通道排出，而不需要额外的纺丝干燥步骤。 提供了使用涂布装置的涂布方法。

公开(公告)号：US09093267B2

公开(公告)日：2015-07-28

申请号：US14211695

申请日：2014-03-14

申请人： Yuanchang Zhang

发明人： Yuanchang Zhang

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L21/469 ,  H01L21/02 ,  C23C18/06 ,  C23C18/12 ,  H01L31/0216 ,  H01L31/068 ,  C25D5/02 ,  C25D17/06

CPC分类号： H01L21/02282 ,  C23C18/06 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/125 ,  C23C18/1254 ,  C25D5/02 ,  C25D17/06 ,  H01L31/02167 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/068 ,  Y02E10/50 ,  Y02E10/547

摘要： A deposition process for coating a substrate with films of varying thickness on a substrate can be achieved. The thickness of the film deposition can be controlled by the separation between the substrate and a curtain. Different separation distances between the substrate and curtain in the same chemical bath will result in different film thicknesses depositing on the substrate.

摘要翻译： 可以实现用于在衬底上涂覆具有不同厚度的膜的衬底的沉积工艺。 膜沉积的厚度可以通过基板和帘幕之间的分离来控制。 在相同的化学浴中，衬底和窗帘之间的不同间隔距离将导致沉积在衬底上的不同的膜厚度。

公开(公告)号：US08716152B2

公开(公告)日：2014-05-06

申请号：US13434088

申请日：2012-03-29

申请人： Yuanchang Zhang

发明人： Yuanchang Zhang

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L21/469

CPC分类号： H01L21/02282 ,  C23C18/06 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/125 ,  C23C18/1254 ,  C25D5/02 ,  C25D17/06 ,  H01L31/02167 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/068 ,  Y02E10/50 ,  Y02E10/547

摘要： A deposition process for coating a substrate with films of a different thickness on front and rear surface of a substrate can be achieve in one growth. The thickness of the film deposition can be controlled by the separation between the substrates. Different separation distances between the substrates in the same chemical bath will result in different film thicknesses on the substrate. Substrates may be arranged to have different separation distances between front and back surfaces, a V-shaped arrangement, or placed next to a curtain with varying separation distances between a substrate and the curtain.

摘要翻译： 可以在一个生长中实现用于在衬底的前表面和后表面上涂覆具有不同厚度的膜的衬底的沉积工艺。 膜沉积的厚度可以通过基板间的分离来控制。 在同一化学浴液中不同的衬底间隔距离会导致衬底上不同的膜厚度。 衬底可以被布置成在前表面和后表面之间具有不同的间隔距离，V形布置，或者放置在帘幕旁边，并且衬底和帘幕之间具有不同的间隔距离。

公开(公告)号：US20130255762A1

公开(公告)日：2013-10-03

申请号：US13764821

申请日：2013-02-12

申请人： ETERNAL CHEMICAL CO., LTD. ,  NEW E MATERIALS CO., LTD.

发明人： FU-CHUAN FANG ,  JIA-HONG CHEN ,  JUI-YI HUNG ,  CHING-CHANG WEN

IPC分类号： H01L31/0216

CPC分类号： H01L31/02167 ,  B41M1/12 ,  C23C18/06 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/125 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/1283 ,  H01L31/022466 ,  H01L31/068 ,  Y02E10/547

摘要： The present invention pertains to a passivation layer disposed on a surface of a substrate for use in solar cells, including a first passivation layer formed on the substrate by screen printing. The present invention also pertains to a method for preparing the passivation layer structure. The method according to the present invention can prepare a passivation layer on a surface of a semiconductor substrate by screen printing, and during the screen printing, a patterning step can be performed simultaneously. Therefore, the present invention is able to produce the passivation layer in a more economic and faster manner.

摘要翻译： 本发明涉及一种设置在用于太阳能电池的基板的表面上的钝化层，包括通过丝网印刷形成在基板上的第一钝化层。 本发明还涉及一种制备钝化层结构的方法。 根据本发明的方法可以通过丝网印刷在半导体基板的表面上制备钝化层，并且在丝网印刷期间，可以同时执行图案化步骤。 因此，本发明能够以更经济和更快速的方式制造钝化层。

公开(公告)号：US20130217180A1

公开(公告)日：2013-08-22

申请号：US13844771

申请日：2013-03-15

申请人： NORTHWESTERN UNIVERSITY ,  POLYERA CORPORATION

发明人： Antonio Facchetti ,  Tobin J. Marks ,  Mercouri G. Kanatzidis ,  Myung-Gil Kim ,  William Christopher Sheets ,  He Yan ,  Yu Xia

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L29/66 ,  H01L21/285

CPC分类号： H01L29/66969 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1237 ,  C23C18/125 ,  C23C18/127 ,  H01L21/02172 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/02192 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02244 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/28506 ,  H01L21/441 ,  H01L21/443 ,  H01L21/477 ,  H01L29/45 ,  H01L29/517 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78693

摘要： Disclosed are new methods of fabricating metal oxide thin films and nanomaterial-derived metal composite thin films via solution processes at low temperatures (

公开(公告)号：US20130171442A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：US13557763

申请日：2012-07-25

申请人： Meng-Chang LIN ,  Yu-Li Lin ,  Yen-Hsun Chi ,  Jun-Yen Uan

发明人： Meng-Chang LIN ,  Yu-Li Lin ,  Yen-Hsun Chi ,  Jun-Yen Uan

IPC分类号： B32B3/26 ,  C25D11/24 ,  C23C16/06 ,  B05D3/02 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C28/345 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1241 ,  C23C18/125 ,  C23C18/1295 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C25D9/04 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/24999

摘要： A method for modifying a porous substrate, including: coating a metal hydroxide layer on a porous substrate; and calcining the porous substrate with the metal hydroxide layer coated thereon to transform the metal hydroxide layer into a continuous metal oxide layer, forming a modified porous substrate. The disclosure also provides a modified porous substrate.

摘要翻译： 一种改性多孔基材的方法，包括：在多孔基材上涂覆金属氢氧化物层; 并且用涂覆有金属氢氧化物层的多孔基材煅烧以将金属氢氧化物层转变为连续的金属氧化物层，形成改性的多孔基材。 本公开还提供了一种改性的多孔基材。