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    Photoreceptor with improved electron transport
    1.
    发明授权
    Photoreceptor with improved electron transport 有权
    具有改善的电子传递的光敏剂

    公开(公告)号：US07544453B2

    公开(公告)日：2009-06-09

    申请号：US11247889

    申请日：2005-10-11

    申请人： T. Edwin Freeman ,  Nancy Belknap ,  John F. Yanus

    发明人： T. Edwin Freeman ,  Nancy Belknap ,  John F. Yanus

    IPC分类号： G03G5/14

    CPC分类号： G03G5/142 ,  G03G5/071

    摘要： The presently disclosed embodiments relate in general to electrophotographic imaging members, such as layered photoreceptor structures, and processes for making and using the same. More particularly, the embodiments pertain to a photoreceptor that incorporates copolymers to that provide electron transporting functionality to improve image quality.

    摘要翻译： 目前公开的实施例一般涉及电子照相成像构件，例如层状感光体结构，以及制造和使用它们的方法。 更具体地，实施方案涉及包含提供电子传递功能以提高图像质量的共聚物的感光体。

    Structure and method for creating surface texture of compliant coatings on piezo ink jet imaging drums
    9.
    发明授权
    Structure and method for creating surface texture of compliant coatings on piezo ink jet imaging drums 有权
    用于在压电喷墨成像鼓上形成柔顺涂层的表面纹理的结构和方法

    公开(公告)号：US08377316B2

    公开(公告)日：2013-02-19

    申请号：US12432868

    申请日：2009-04-30

    申请人： David H. Pan ,  T. Edwin Freeman

    发明人： David H. Pan ,  T. Edwin Freeman

    IPC分类号： B32B3/00 ,  C23F1/00 ,  G03F7/00

    CPC分类号： C09D5/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/11 ,  Y10T428/24802

    摘要： This is structure and method for providing a textured surfaced that can be used in a plurality of systems including ink jet printing. In ink jet printing, the textured surface of this invention controls ink drawback and significantly improves image quality. The textured surface has an average roughness, Ra, of about 0.2 to 1.5 microns, a texture density of about 104-107 pits per cm2, a texture size of about 0.5-5 microns, and a texture depth of about 0.5-10 microns.

    摘要翻译： 这是用于提供可用于包括喷墨打印在内的多个系统中的纹理表面的结构和方法。 在喷墨打印中，本发明的纹理化表面控制墨水缺点并显着提高图像质量。 纹理表面的平均粗糙度Ra为约0.2至1.5微米，织构密度为约104-107个凹坑/厘米2，织构尺寸为约0.5-5微米，纹理深度为约0.5-10微米。