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    Histone demethylase inhibitors and methods for using the same
    2.
    发明授权
    Histone demethylase inhibitors and methods for using the same 有权
    组蛋白脱甲基酶抑制剂及其使用方法

    公开(公告)号：US08735622B2

    公开(公告)日：2014-05-27

    申请号：US13691507

    申请日：2012-11-30

    申请人： Xiang Wang ,  Wenqing Xu

    发明人： Xiang Wang ,  Wenqing Xu

    IPC分类号： C07C271/00

    CPC分类号： C07C271/30 ,  C07C259/06 ,  C07C271/12 ,  C07C271/28 ,  C07C275/28 ,  C07C275/40 ,  C07C335/20 ,  C07C2603/86 ,  C07D211/28 ,  C07D215/38 ,  C07D311/90

    摘要： The present invention provides compounds, or derivatives or prodrugs thereof, that comprise a methyllysine mimic, and an α-ketoglutarate mimic that are attached through a linker and methods for using and producing the same. In some embodiments, compounds of the invention are of the formula: M-L-K, or a derivative or a prodrug thereof, wherein M is a methyllysine mimic, L is a linker, and K is an α-ketoglutarate mimic.

    摘要翻译： 本发明提供了包含甲基赖氨酸模拟物的化合物或其衍生物或前药，以及通过连接子连接的α-酮戊二酸酯模拟物及其制备方法。 在一些实施方案中，本发明的化合物具有下式：M-L-K或其衍生物或前药，其中M是甲基赖氨酸模拟物，L是连接体，K是α-酮戊二酸酯模拟物。

    Background visual effect processing method and device
    3.
    发明申请
    Background visual effect processing method and device 有权
    背景视觉效果处理方法和装置

    公开(公告)号：US20150286498A1

    公开(公告)日：2015-10-08

    申请号：US14394579

    申请日：2011-11-28

    申请人： Xiang Wang

    发明人： Xiang Wang

    IPC分类号： G06F9/48 ,  G06T1/20

    CPC分类号： G06F9/485 ,  G06F9/461 ,  G06F9/4881 ,  G06T1/20 ,  G06T2200/28 ,  H04N5/262

    摘要： Disclosed are a method and an apparatus for processing a background visual effect. The method is registering dependence resources, running parameters and handlers corresponding to respective visual effect modes of a background, selecting a visual effect mode corresponding to the background according to a running instruction, and initializing the dependence resource, the running parameter and the handler corresponding to the selected visual effect mode to control the background to enter the running status of the selected visual effect mode, and switching the current running visual effect mode of the background according to a received switching instruction. Through the method and the apparatus for processing a background visual effect, background visual effects can be shared in different scenarios, the variety of background visual effects which can be implemented in the same scenario is enriched and the effect of user experience is improved.

    摘要翻译： 公开了一种用于处理背景视觉效果的方法和装置。 该方法是登录与背景的各种视觉效果模式相对应的依赖资源，运行参数和处理程序，根据运行指令选择与背景相对应的视觉效果模式，以及初始化依赖资源，运行参数和对应于 所选择的视觉效果模式来控制背景进入所选择的视觉效果模式的运行状态，并且根据接收到的切换指令切换当前运行的背景的视觉效果模式。 通过用于处理背景视觉效果的方法和装置，可以在不同的场景中共享背景视觉效果，丰富了在同一情景中可以实现的各种背景视觉效果，提高了用户体验的效果。

    Method for forming substrate with buried insulating layer
    5.
    发明授权
    Method for forming substrate with buried insulating layer 有权
    用掩埋绝缘层形成衬底的方法

    公开(公告)号：US08633090B2

    公开(公告)日：2014-01-21

    申请号：US13383416

    申请日：2010-07-10

    申请人： Xiang Wang ,  Xing Wei ,  Miao Zhang ,  Chenglu Lin ,  Xi Wang

    发明人： Xiang Wang ,  Xing Wei ,  Miao Zhang ,  Chenglu Lin ,  Xi Wang

    IPC分类号： H01L21/762

    CPC分类号： H01L21/76256

    摘要： A method for forming an edge-chamfered substrate with a buried insulating layer is provided, which comprises the following steps: providing a first substrate (S10); forming an etching mask layer on surfaces of the first substrate, wherein said etching mask layer is formed on the whole surfaces of the first substrate (S11); chamfering a glazed surface of the first substrate and the etching mask layer thereon by the edge grinding (S12); by rotary etching, etching the first substrate which is exposed by the edge grinding on the etching mask layer (S13); providing a second substrate (S14); and bonding the first substrate to the second substrate with a buried insulating layer (S15). The method avoids the edge collapses and the changes of the warp degree in subsequent processes.

    摘要翻译： 提供一种形成具有掩埋绝缘层的边缘倒角衬底的方法，包括以下步骤：提供第一衬底（S10）; 在所述第一基板的表面上形成蚀刻掩模层，其中所述蚀刻掩模层形成在所述第一基板的整个表面上; 通过边缘磨削倒角第一基板的玻璃表面和其上的蚀刻掩模层（S12）; 通过旋转蚀刻，蚀刻通过边缘研磨而暴露在蚀刻掩模层上的第一衬底（S13）; 提供第二基板（S14）; 以及用掩埋绝缘层将第一衬底接合到第二衬底（S15）。 该方法避免了边缘崩溃和后续过程中翘曲度的变化。

    Asymmetric process for making substituted 2-amino-thiazolones
    6.
    发明授权
    Asymmetric process for making substituted 2-amino-thiazolones 失效
    制备取代的2-氨基 - 噻唑酮的不对称方法

    公开(公告)号：US08501954B2

    公开(公告)日：2013-08-06

    申请号：US13056583

    申请日：2009-07-28

    申请人： Seb Caille ,  Sheng Cui ,  Xiang Wang ,  Margaret Faul

    发明人： Seb Caille ,  Sheng Cui ,  Xiang Wang ,  Margaret Faul

    IPC分类号： C07D277/14

    CPC分类号： C07D277/54

    摘要： The invention provides two process for synthesizing substituted aminothiazolone compounds as inhibitors of 11-β-hydroxy steroid dehydrogenase type 1. The processes allow the stereoselective synthesis of the desired compounds without the use of stoichiometric amounts of chiral catalysts.

    摘要翻译： 本发明提供两种合成取代的氨基噻唑酮化合物作为11型11-β-羟基类固醇脱氢酶抑制剂的方法。该方法允许所需化合物的立体选择性合成而不使用化学计量的手性催化剂。

    METHOD FOR FORMING SUBSTRATE WITH BURIED INSULATING LAYER
    7.
    发明申请
    METHOD FOR FORMING SUBSTRATE WITH BURIED INSULATING LAYER 有权
    用埋设绝缘层形成衬底的方法

    公开(公告)号：US20120122299A1

    公开(公告)日：2012-05-17

    申请号：US13383416

    申请日：2010-07-10

    申请人： Xiang Wang ,  Xing Wei ,  Miao Zhang ,  Chenglu Lin ,  Xi Wang

    发明人： Xiang Wang ,  Xing Wei ,  Miao Zhang ,  Chenglu Lin ,  Xi Wang

    IPC分类号： H01L21/762 ,  H01L21/306

    CPC分类号： H01L21/76256

    摘要： A method for forming an edge-chamfered substrate with a buried insulating layer is provided, which comprises the following steps: providing a first substrate (S10); forming an etching mask layer on surfaces of the first substrate, wherein said etching mask layer is formed on the whole surfaces of the first substrate (S11); chamfering a glazed surface of the first substrate and the etching mask layer thereon by the edge grinding (S12); by rotary etching, etching the first substrate which is exposed by the edge grinding on the etching mask layer (S13); providing a second substrate (S14); and bonding the first substrate to the second substrate with a buried insulating layer (S15). The method avoids the edge collapses and the changes of the warp degree in subsequent processes.

    摘要翻译： 提供一种形成具有掩埋绝缘层的边缘倒角衬底的方法，包括以下步骤：提供第一衬底（S10）; 在所述第一基板的表面上形成蚀刻掩模层，其中所述蚀刻掩模层形成在所述第一基板的整个表面上; 通过边缘磨削倒角第一基板的玻璃表面和其上的蚀刻掩模层（S12）; 通过旋转蚀刻，蚀刻通过边缘研磨而暴露在蚀刻掩模层上的第一衬底（S13）; 提供第二基板（S14）; 以及用掩埋绝缘层将第一衬底接合到第二衬底（S15）。 该方法避免了边缘崩溃和后续过程中翘曲度的变化。

    Fault analysis result generating system and method
    8.
    发明授权
    Fault analysis result generating system and method 失效
    故障分析结果生成系统和方法

    公开(公告)号：US08020052B2

    公开(公告)日：2011-09-13

    申请号：US12715534

    申请日：2010-03-02

    申请人： Chung-Chi Huang ,  Guang-Dong Yuan ,  De-Sheng Qiu ,  Xun-Chun Qiu ,  Xiang Wang ,  Rong Hu

    发明人： Chung-Chi Huang ,  Guang-Dong Yuan ,  De-Sheng Qiu ,  Xun-Chun Qiu ,  Xiang Wang ,  Rong Hu

    IPC分类号： G06F11/00

    CPC分类号： G06F17/30076 ,  H04L41/16

    摘要： A fault analysis result generating system includes an extracting unit, a converting unit, a determining unit, and a result generating unit. The system extracts fault analysis files, converts the fault analysis files to a first predetermined file format which is easy to be processed, converts the fault analysis files with the first predetermined file format to a second predetermined file format, and then transfers the fault analysis files with the second predetermined file format to a learning sharing module.

    摘要翻译： 故障分析结果产生系统包括提取单元，转换单元，确定单元和结果生成单元。 系统提取故障分析文件，将故障分析文件转换为易于处理的第一预定文件格式，将第一预定文件格式的故障分析文件转换为第二预定文件格式，然后传送故障分析文件 具有第二预定文件格式到学习共享模块。