公开(公告)号：US20140004463A9

公开(公告)日：2014-01-02

申请号：US13699003

申请日：2011-05-19

申请人： Yusuke Asano ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Takeshi Ishii

发明人： Yusuke Asano ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Takeshi Ishii

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07D307/93 ,  C08F22/18 ,  C08F24/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a polymer having a structural unit (I) represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

摘要翻译： 提供了一种在液浸光刻工艺中提供抗蚀剂涂膜的辐射敏感性树脂组合物，该曝光敏感性树脂组合物能够在曝光期间表现出很大的动态接触角，由此抗蚀剂涂膜的表面可呈现出 排水性优异，并且能够导致显影期间动态接触角显着降低的放射线敏感性树脂组合物，从而可以抑制显影缺陷的产生，并且进一步缩短动态变化所需的时间段 接触角启用。 一种辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）具有由下式（1）表示的结构单元（I）的聚合物和（B）辐射敏感性酸产生剂。

公开(公告)号：US09261780B2

公开(公告)日：2016-02-16

申请号：US13699003

申请日：2011-05-19

申请人： Yusuke Asano ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Takeshi Ishii

发明人： Yusuke Asano ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Takeshi Ishii

IPC分类号： C08F18/20 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F220/26 ,  G03F7/038 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07D307/93 ,  C08F22/18 ,  C08F24/00 ,  C08F220/24

CPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07D307/93 ,  C08F22/18 ,  C08F24/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a polymer having a structural unit (I) represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

摘要翻译： 提供了一种在液浸光刻工艺中提供抗蚀剂涂膜的辐射敏感性树脂组合物，该曝光敏感性树脂组合物能够在曝光期间表现出很大的动态接触角，由此抗蚀剂涂膜的表面可呈现出 排水性优异，并且能够导致显影期间动态接触角显着降低的放射线敏感性树脂组合物，从而可以抑制显影缺陷的产生，并且进一步缩短动态变化所需的时间段 接触角启用。 一种辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）具有由下式（1）表示的结构单元（I）的聚合物和（B）辐射敏感性酸产生剂。

公开(公告)号：US20130143160A1

公开(公告)日：2013-06-06

申请号：US13699003

申请日：2011-05-19

申请人： Yusuke Asano ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Takeshi Ishii

发明人： Yusuke Asano ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Takeshi Ishii

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07D307/93 ,  C08F22/18 ,  C08F24/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a polymer having a structural unit (I) represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

摘要翻译： 提供了一种在液浸光刻工艺中提供抗蚀剂涂膜的辐射敏感性树脂组合物，该曝光敏感性树脂组合物能够在曝光期间表现出很大的动态接触角，由此抗蚀剂涂膜的表面可呈现出 排水性优异，并且能够导致显影期间动态接触角显着降低的放射线敏感性树脂组合物，从而可以抑制显影缺陷的产生，并且进一步缩短动态变化所需的时间段 接触角启用。 一种辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）具有由下式（1）表示的结构单元（I）的聚合物和（B）辐射敏感性酸产生剂。

公开(公告)号：US08765355B2

公开(公告)日：2014-07-01

申请号：US13459023

申请日：2012-04-27

申请人： Takakazu Kimoto ,  Mitsuo Sato ,  Yusuke Asano ,  Tomohiro Kakizawa

发明人： Takakazu Kimoto ,  Mitsuo Sato ,  Yusuke Asano ,  Tomohiro Kakizawa

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/30 ,  C08F12/20

CPC分类号： C08K5/375 ,  C08K5/205 ,  C08L101/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

摘要： A radiation sensitive resin composition includes a first polymer having a group represented by a following formula (1), and a radiation sensitive acid generator. n is an integer of 2 to 4. X represents a single bond or a bivalent organic group. A represents a (n+1) valent linking group. Each Q independently represents a group that includes an alkali-dissociable group.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括具有由下式（1）表示的基团的第一聚合物和辐射敏感性酸发生剂。 n为2〜4的整数.X表示单键或二价有机基团。 A表示（n + 1）价连接基团。 每个Q独立地表示包括碱解离基团的基团。

公开(公告)号：US09598520B2

公开(公告)日：2017-03-21

申请号：US13473957

申请日：2012-05-17

申请人： Yuko Kiridoshi ,  Takehiko Naruoka ,  Yukio Nishimura ,  Yusuke Asano ,  Takanori Kawakami ,  Hiromitsu Nakashima

发明人： Yuko Kiridoshi ,  Takehiko Naruoka ,  Yukio Nishimura ,  Yusuke Asano ,  Takanori Kawakami ,  Hiromitsu Nakashima

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  C08F220/24 ,  C08F228/00 ,  C08F220/22 ,  C08L33/14 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

CPC分类号： C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F228/00 ,  C08L33/14 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  C08L101/00

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer, a second polymer and a radiation-sensitive acid generator. The first polymer has a structure unit represented by a following formula (1-1), a structure unit represented by a following formula (1-2), or both thereof, and has a content of fluorine atoms of no less than 5% by mass to a total mass of the first polymer. The second polymer has an acid-dissociable group, and has a content of fluorine atoms of less than 5% by mass to a total mass of the second polymer.

公开(公告)号：US09040221B2

公开(公告)日：2015-05-26

申请号：US13699007

申请日：2011-05-19

申请人： Hitoshi Osaki ,  Yusuke Asano ,  Mitsuo Sato ,  Tomoki Nagai

发明人： Hitoshi Osaki ,  Yusuke Asano ,  Mitsuo Sato ,  Tomoki Nagai

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F22/18 ,  C08F220/26 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07D307/93 ,  C08F24/00 ,  C08F220/24

CPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07D307/93 ,  C08F22/18 ,  C08F24/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a fluorine-containing polymer having a structural unit (I) that includes a group represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

摘要翻译： 提供了一种在液浸光刻工艺中提供抗蚀剂涂膜的辐射敏感性树脂组合物，该曝光敏感性树脂组合物能够在曝光期间表现出很大的动态接触角，由此抗蚀剂涂膜的表面可呈现出 排水性优异，并且能够导致显影期间动态接触角显着降低的放射线敏感性树脂组合物，从而可以抑制显影缺陷的产生，并且进一步缩短动态变化所需的时间段 接触角启用。 一种辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）具有由下式（1）表示的基团的结构单元（I）的含氟聚合物和（B）辐射敏感性酸发生剂。

公开(公告)号：US08603726B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13243046

申请日：2011-09-23

申请人： Kazuo Nakahara ,  Mitsuo Sato ,  Yusuke Asano

发明人： Kazuo Nakahara ,  Mitsuo Sato ,  Yusuke Asano

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： C07C255/20 ,  C07C205/52 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F220/42 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition including (A) a polymer that includes a repeating unit (a1) and a fluorine atom, and (B) a photoacid generator, the repeating unit (a1) including a group shown by any of the following formulas (1-1) to (1-3).

摘要翻译： 一种辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）包含重复单元（a1）和氟原子的聚合物和（B）光酸产生剂，所述重复单元（a1）包括由下式 1-1）〜（1-3）。

公开(公告)号：US20130122426A1

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：US13699007

申请日：2011-05-19

申请人： Hitoshi Osaki ,  Yusuke Asano ,  Mitsuo Sato ,  Tomoki Nagai

发明人： Hitoshi Osaki ,  Yusuke Asano ,  Mitsuo Sato ,  Tomoki Nagai

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F22/18 ,  G03F7/20 ,  C07C69/753 ,  C08F24/00 ,  C07C69/653 ,  C07D307/93

CPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07D307/93 ,  C08F22/18 ,  C08F24/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a fluorine-containing polymer having a structural unit (I) that includes a group represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

摘要翻译： 提供了一种在液浸光刻工艺中提供抗蚀剂涂膜的辐射敏感性树脂组合物，该曝光敏感性树脂组合物能够在曝光期间表现出很大的动态接触角，由此抗蚀剂涂膜的表面可呈现出 排水性优异，并且能够导致显影期间动态接触角显着降低的放射线敏感性树脂组合物，从而可以抑制显影缺陷的产生，并且进一步缩短动态变化所需的时间段 接触角启用。 一种辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）具有由下式（1）表示的基团的结构单元（I）的含氟聚合物和（B）辐射敏感性酸发生剂。

公开(公告)号：US20120028189A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：US13191416

申请日：2011-07-26

申请人： Yusuke Asano ,  Mitsuo Sato

发明人： Yusuke Asano ,  Mitsuo Sato

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F214/18 ,  C07C69/653 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F214/18 ,  C07C69/653 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes (A) a fluorine-containing compound that includes a group shown by the following formula (1), and (B) a photoacid generator. wherein RC represents a (p+1)-valent aromatic ring group, Q represents a linking group obtained by removing one hydrogen atom from a monovalent hydrophilic group, RE represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, p is an integer from 1 to 5, provided that a plurality of Q and a plurality of RE may respectively be either the same or different when p is an integer from 2 to 5, and “*” indicates a bonding hand.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包含（A）包含下式（1）所示基团的含氟化合物和（B）光酸产生剂。 其中RC表示（p + 1）价芳族环基，Q表示通过从一价亲水基除去一个氢原子得到的连接基，RE表示氢原子或碳原子数1〜10的烃基，p表示 1至5的整数，条件是当p为2至5的整数时，多个Q和多个RE可以分别相同或不同，“*”表示键合手。

公开(公告)号：US08580480B2

公开(公告)日：2013-11-12

申请号：US13191416

申请日：2011-07-26

申请人： Yusuke Asano ,  Mitsuo Sato

发明人： Yusuke Asano ,  Mitsuo Sato

IPC分类号： G03F7/00 ,  C08F20/10 ,  C07C69/017

CPC分类号： C08F214/18 ,  C07C69/653 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes (A) a fluorine-containing compound that includes a group shown by the following formula (1), and (B) a photoacid generator. wherein RC represents a (p+1)-valent aromatic ring group, Q represents a linking group obtained by removing one hydrogen atom from a monovalent hydrophilic group, RE represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, p is an integer from 1 to 5, provided that a plurality of Q and a plurality of RE may respectively be either the same or different when p is an integer from 2 to 5, and “*” indicates a bonding hand.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包含（A）包含下式（1）所示基团的含氟化合物和（B）光酸产生剂。 其中RC表示（p + 1）价芳族环基，Q表示通过从一价亲水基除去一个氢原子得到的连接基，RE表示氢原子或碳原子数1〜10的烃基，p表示 1至5的整数，条件是当p为2至5的整数时，多个Q和多个RE可以分别相同或不同，“*”表示键合手。