具有粗化电流扩展层的GaAs基LED芯片及制备方法

    公开(公告)号:CN106340574A

    公开(公告)日:2017-01-18

    申请号:CN201610949920.7

    申请日:2016-11-02

    摘要: 一种具有粗化电流扩展层的GaAs基LED芯片及其制备方法,该GaAs基LED芯片包括N电极、GaAs衬底和外延层,外延层上设置有电流扩展层,电流扩展层上设置有p电极,p电极外围的电流扩展层为粗化电流扩展层;制备步骤包括:(1)在GaAs衬底上生长外延层;(2)在外延层表面涂负性光刻胶,通过光刻得到负性光刻胶粗化图形(;3)在整个负性光刻胶表面生长电流扩展层;4)通过剥离负性光刻胶,得到粗化电流扩展层;5)在粗化电流扩展层上制备负性光刻胶电极图形(;6)在负性光刻胶电极图形上制备p电极;(7)对GaAs衬底减薄及生长N电极。本发明避免了现有技术中对GaAs基LED芯片的外延层直接进行粗化造成的不稳定性,提高了出光效率。

    具有嵌入式透明扩展电极结构的发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN106129211A

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201610709305.9

    申请日:2016-08-24

    发明人: 张银桥 潘彬

    摘要: 本发明公开了一种具有嵌入式透明扩展电极结构的发光二极管及其制备方法,在GaAs衬底的上面依次设置的缓冲层、布拉格反射层、n‑AlGaInP限制层、MQW多量子阱有源层、p‑AlGaInP限制层、p‑GaP窗口层、ITO电流扩展层和AlGaInP粗化层,在图案化的AlGaInP粗化层上设有金属电极层,在GaAs衬底的下面设有背电极层,所述金属电极层包括主电极和扩展电极,其中:主电极连接在图案化的AlGaInP粗化层上,扩展电极嵌入在图案化的AlGaInP粗化层中,并且与ITO电流扩展层保持连接。扩展电极自身因为其嵌入式结构的特点,因而稳定性好,从而提高了整个金属电极层的附着性和完整性,确保了发光二极管的工作电压稳定,提高了产品的焊线可靠性和发光效率,极大地提升了产品的质量和良率。

    一种倒装式大功率紫外LED芯片及其制备方法

    公开(公告)号:CN105914277A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201610395135.1

    申请日:2016-06-04

    发明人: 胡晓龙 王洪 刘丽

    摘要: 本发明提供一种倒装式大功率紫外LED芯片及其制备方法。LED芯片从下到上依次为导热衬底,电镀金属层,第一电镀种子层,绝缘层,p型反射电极层,p型氮化镓层,有源层,n型氮化镓层;p型反射电极层上方一侧还进行刻蚀露出p型反射电极层的部分区域,露出的部分区域上设有p型金属电极;从p型反射电极层开始一直到n型氮化镓层刻蚀有多个n型通孔,所述p型反射电极层和n型通孔侧壁沉积所述绝缘层,第一电镀种子层沉积在n型通孔中和绝缘层上,第一电镀种子层与n型通孔的n型氮化镓层接触。本发明可以避免在表面制作n型金属电极,这样可以降低n型金属电极对有源区出光的吸收,从而提高LED芯片的出光效率。

    发光二极管芯片
    38.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105895764A

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201610089406.0

    申请日:2016-02-17

    IPC分类号: H01L33/14 H01L33/36 H01L33/38

    摘要: 一种发光二极管芯片,其包括半导体元件层、第一电极、电流阻挡层、电流分散层及第二电极。半导体元件层包括第一型掺杂半导体层、第二型掺杂半导体层及位于第一型与第二型掺杂半导体层之间的发光层。第一电极与第一型掺杂半导体层电性连接。电流阻挡层配置于第二型掺杂半导体层上,且电流阻挡层包括主体及从主体延伸的延伸部。电流分散层覆盖电流阻挡层。第二电极通过电流分散层与第二型掺杂半导体层电性连接,其中第二电极包括焊垫及从焊垫延伸的指部,焊垫位于主体上方,而指部位于延伸部上方,且指部的部分区域未与延伸部重叠。该发光二极管芯片具有电流阻挡层以有效控制电流聚集的位置,进而有效提升发光效率。