公开(公告)号：CN104854689A

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201380064421.4

申请日：2013-12-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  须中郁雄 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

Abstract: 基板处理装置包括：装载部，向该装载部输入基板的输送容器；以及装置控制器，其用于对所述装载部中的操作进行控制。装置控制器具有存储部，该存储部用于根据输送容器的识别符号来存储自外部发送过来的参数值的推移数据。参数值的推移数据是通过将该输送容器的使用次数与将以下操作中的至少一个操作的结果数值化而得到的参数值相关联而得到的，即，为了向装载部输入所述输送容器并将盖体拆卸而进行的操作和为了将该输送容器自装载部输出而进行的操作。装置控制器还具有判断部，该判断部根据与输送容器的输入和输出中的至少一者相对应的所述参数值以及与该输送容器有关的所述参数值的过去的推移数据来判断该输送容器有无异常。

公开(公告)号：CN103177992A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201210487648.7

申请日：2012-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧准之辅 ,  矢野光辉 ,  中野征二 ,  渡边刚史 ,  丰田康典 ,  榎木田卓 ,  饭田成昭 ,  原田浩树

IPC: H01L21/677

CPC classification number: G06F17/00 ,  B25J13/085 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供一种搬送装置和搬送方法，在利用电机的旋转驱动力使装载有被搬送部件的被驱动单元移动从而搬送被搬送部件时，能够检测搬送时发生的异常。该搬送装置将被搬送部件装载于被驱动单元进行搬送，该搬送装置的特征在于，包括：驱动单元，利用电机的旋转驱动力使驱动侧传动轮旋转，从而使架设在该驱动侧传动轮的传动带移动，使连结于该传动带的被驱动单元在规定的方向上移动；和监视被驱动单元的搬送状态的搬送监视单元，搬送监视单元检测出使被驱动单元移动时所需的上述电机的转矩值，基于所检测的转矩值，计算出该转矩值的相对时间的转矩微分值，并利用所计算的转矩微分值检测搬送状态。通过具有上述特征的搬送装置能够完成上述课题。

公开(公告)号：CN103021906A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201210337344.2

申请日：2012-09-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 榎木田卓 ,  中原田雅弘 ,  宫田亮 ,  木山秀和 ,  饭田成昭

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/139

Abstract: 本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具有：承载区，其包含左右分开地设置的第1承载件载置部及第2承载件载置部；处理区，其具有将多个层部分上下配置而成的层构造，并且各层部分具有用于输送基板的基板输送机构和用于处理基板的处理组件；塔单元，其含有多个基板载置部，该多个基板载置部配置在可利用多个基板载置部各自所对应的层部分的基板输送机构交接基板的高度位置；第1基板移载机构，其用于在第1承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板；第2基板移载机构，其用于在第2承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板。

公开(公告)号：CN102315091A

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN201110197922.2

申请日：2011-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/67745

Abstract: 本发明提供一种涂敷显影装置、涂敷显影方法和存储介质，在单位块发生异常时，进行维修时，抑制涂敷显影装置的生产率降低并且抑制处理块的设置面积。构成涂敷显影装置，具备：层叠的前段处理用的单位块；在各个对应的层叠的后段处理用的单位块之间设置、在两单位块的搬送机构之间进行基板的交接用的涂敷处理用的交接部；在各段的涂敷处理用的交接部之间进行基板的搬送用的能够自由升降的辅助移载机构；在上述前段处理用的单位块层叠的显影处理用的单位块。在各层之间交接基板，能够避免不可以使用的单位块搬送基板。此外，显影用的单位块和前段处理用的单位块层叠，抑制设置面积。

公开(公告)号：CN101079388A

公开(公告)日：2007-11-28

申请号：CN200710104567.3

申请日：2007-05-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 村田晃 ,  榎木田卓 ,  道木裕一

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68707

Abstract: 基片传递设备包括彼此之间垂直地间隔预先确定的距离的叉。当叉从第一基片包含部分取出基片时，每个叉通过从定位在将要取出的基片下方的预卸载位置向上运动预先确定的卸载行程量提升基片并且支撑基片。预先确定的距离的值设定为等于包含在第一基片包含部分内的基片之间的距离和卸载行程量的和。

公开(公告)号：CN112400217B

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN201980046663.8

申请日：2019-07-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田之上隼斗 ,  乌野崇 ,  大川理 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/304 ,  B23K26/53 ,  H01L21/683

Abstract: 一种基板处理系统，用于对基板进行处理，所述基板处理系统具有：第一改性装置，其用于针对将第一基板的表面与第二基板的表面进行接合所得到的重合基板，在所述第一基板的内部形成沿面方向从中心部至少朝向该第一基板的作为去除对象的周缘部延伸的内部面改性层；第二改性装置，其用于在所述第一基板的内部形成沿所述周缘部与中央部的边界在厚度方向上延伸的周缘改性层；以及分离装置，其以所述内部面改性层为基点将所述第一基板的背面侧分离。

公开(公告)号：CN111081598B

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN201910989235.0

申请日：2019-10-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 寺本聪宽 ,  榎木田卓 ,  土山正志 ,  佐佐木庆介

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，该基板处理装置减少使收纳有基板的基板处理容器暂时待机的保管部所占的地面专有面积。对基板进行处理的基板处理装置具有：保管部，其设置于所述基板处理装置的最上部，载置用于收纳基板的基板收纳容器；搬入搬出部，其在所述基板处理装置中载置所述基板收纳容器，并且与基板处理装置的处理部侧之间进行基板的搬入和搬出；以及移载装置，其与所述保管部之间直接或间接地进行所述基板收纳容器的交接，其中，所述移载装置能够与在所述基板处理装置的上方移动的顶面行驶车之间进行所述基板收纳容器的交接。

公开(公告)号：CN115621176A

公开(公告)日：2023-01-17

申请号：CN202210801115.5

申请日：2022-07-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 辻桥辰彦 ,  榎木田卓 ,  松下和辉

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明对能够更可靠地保持基板而抑制基板的位置偏移的基板输送装置和基板输送方法进行说明。基板输送装置包括以保持基板的方式构成的基板保持部。基板保持部包括：以在载置面开口的方式设置的第1吸引孔和第2吸引孔；分别配置在第1吸引孔和第2吸引孔内的第1突起部和第2突起部；和以从载置面向上方突出的方式分别设置在第1吸引孔和第2吸引孔的附近的第1支承部和第2支承部。第1突起部构成为，通过被第1弹性部件向上方施力，从第1吸引孔向上方突出，并且在没有保持基板的状态下封闭第1吸引孔。第2突起部构成为，通过被第2弹性部件向上方施力，从第2吸引孔向上方突出，并且在没有保持基板的状态下封闭第2吸引孔。

公开(公告)号：CN115206834A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202210315279.7

申请日：2022-03-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 林伸一 ,  稻富弘朗 ,  梅崎翔太 ,  榎木田卓 ,  木本晃司

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/08

Abstract: 本发明提供一种提高多个基板处理部依次对基板进行处理的基板处理装置的生产率的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置包括多个第1基板处理部、一个以上的第2基板处理部以及输送部。所述第1基板处理部对基板一张一张地进行处理。所述第2基板处理部对由多个所述第1基板处理部处理了的多张所述基板同时进行处理。所述输送部将由多个所述第1基板处理部处理了的多张所述基板同时向同一所述第2基板处理部送入。

公开(公告)号：CN107256838B

公开(公告)日：2020-11-27

申请号：CN201710256275.5

申请日：2012-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中原田雅弘 ,  酒田洋司 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  中岛常长

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和基板搬送方法。基板处理系统具有在曝光前进行基板的背面清洗的功能，能够提高基板处理的成品率。涂敷显影处理系统的交接站(5)具有：在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的清洗单元(100)；在晶片搬入到曝光装置之前，对于清洗后的晶片的背面检查该晶片能否进行曝光的检查单元(101)；暂时收纳由检查单元(101)检查后的晶片的缓冲单元(111)；和晶片搬送机构(120，130)，其包括在各单元(100，101，111)之间搬送晶片的臂。