直接金属化法
    43.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102112663A

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN200980130219.0

    申请日:2009-06-08

    IPC分类号: C25D5/02

    摘要: 一种在直接金属化法中在基板表面上提供碳分散液涂层的改良方法,其中该基板包含传导性部分和非传导性部分。该方法包含如下步骤:使基板与碳分散液接触,以用含碳分散液来涂布基板,并且在基板的基本平坦的表面的至少一部分上移动至少一个非吸收性滚筒,以从基板的基本平坦的表面上移除多余碳分散液,并且使基板通过真空抽取室,以抽出残留在基板表面上的多余碳分散液。该方法提供了更清洁的铜表面,以使对微蚀刻的需求降至最低,并且还可避免碳分散液令人不希望地再沉积到基板表面上。

    电镀装置和方法
    46.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101542022A

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200780043998.1

    申请日:2007-11-26

    IPC分类号: C25D7/06 C25D17/28 H05K3/24

    摘要: 本发明涉及一种电镀具有结构化或全表面基础层(9)的基底(7)表面的装置,该装置包括至少一个具有可连接作为阴极并在电镀过程中与基础层(9)接触的可旋转安装的至少一个辊(2)的电解质槽(3),其中使基础层(9)被电解质槽(3)中含有的电解质溶液(5)覆盖并且在涂覆过程中相对该至少一个辊(2)移动。将可连接作为阴极的至少一个辊(2)在与基础层(9)接触过程中阴极连接并且一旦与基础层(9)不接触就变为无电流或阳极连接。本发明还涉及一种电镀具有结构化或全表面基础层(9)的基底(7)表面的方法,其中使基础层(9)被电解质溶液(5)包围并且与可连接作为阴极的至少一个辊(2)接触。将可连接作为阴极的至少一个辊(2)在与基础层(9)接触时阴极连接并且一旦与基础层(9)不接触就变为无电流或阳极连接。