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公开(公告)号：CN104272194B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201380024169.4
申请日：2013-03-08
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： N.弗奇尔
IPC分类号： G03F9/00 , H01J37/304
CPC分类号： G03F9/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7088 , H01J37/3045 , H01J37/3177 , H01J2237/30438
摘要： 本发明提供一种操作用以处理夹盘(13)上的靶材(23)的靶材处理系统的方法，该方法包括：在该夹盘(13)上提供至少第一夹盘位置标记(27)和第二夹盘位置标记(28)；提供对准感测系统(17)，其被布置成用以检测这些第一和第二夹盘位置标记(27，28)，对准感测系统(17)包括至少第一对准传感器(61)和第二对准传感器(62)；以对准感测系统(17)的至少一个测量值为基础将该夹盘(13)移动至第一位置；以及测量和夹盘的第一位置有关的至少一个值。
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公开(公告)号：CN107036528A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201710222191.X
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种适用于测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向的差分干涉仪模块。在实施例中，差分干涉仪模块适用于将三种参考光束向着第一反射镜发射并将三种测量光束向着第二反射镜发射，以便确定所述第一反射镜和所述第二反射镜之间的位移。在优选实施例中，该同一模块也适用于测量绕两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这样的位移和旋转的方法。
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公开(公告)号：CN106896650A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201710164697.X
申请日：2012-05-01
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： V.S.凯珀 , E.斯洛特 , M.N.J.范科温克 , G.德博尔 , H.J.德琼
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745
摘要： 本公开涉及一种用于将目标从基板转移系统转移至光刻系统的真空室的装置，目标包括基板或夹箝基板的基板支承结构，装置包括：负载锁定室，用于将目标转移至光刻系统的真空室内和光刻系统的真空室外，负载锁定室包括第一壁和第二壁，第一壁中具有提供机器人空间和负载锁定室内部之间的接入的第一通道，第二壁中具有提供负载锁定室的内部和光刻系统的真空室之间的接入的第二通道；和多个操纵机器人，用于转移所述目标，其中多个操纵机器人包括：第一操纵机器人，其可在机器人空间内移动，以接入基板转移系统和负载锁定室的第一通道；和第二操纵机器人，其可在负载锁定室内移动，以接入负载锁定室的第一通道和负载锁定室的第二通道。
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公开(公告)号：CN105974743A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201610308354.1
申请日：2012-04-23
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： M.N.J.范科温克 , G.德博尔
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317 , B82Y10/00 , B82Y40/00
CPC分类号： G06F9/48 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70483 , G03F7/70508 , G03F7/70525 , G03F7/70991 , G05B19/41865 , G06F9/4881 , H01J37/3177
摘要： 一种包含一个或多个光刻元件的群集式基板处理系统，每一光刻元件配置成依据图案数据独立曝光基板。每一光刻元件包含多个光刻子系统和控制网络，控制网络配置成在光刻子系统与至少一个元件控制单元之间传送控制信息，元件控制单元配置成向光刻子系统发送命令，光刻子系统配置成向元件控制单元发送响应。每一光刻元件还包含群集前端以作为面向操作者或主控系统的接口，前端配置成用于配发控制信息给至少一个元件控制单元以控制一个或多个光刻子系统对一个或多个晶圆的曝光的操作。前端配置成用于配发处理程序给元件控制单元，处理程序包含一组预定的命令和相关参数，每一命令对应于将被一个或多个光刻子系统执行的预定动作或一连串动作，且参数进一步定义动作或一连串动作如何被执行。
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公开(公告)号：CN105874559A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201480071804.9
申请日：2014-11-14
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/065 , H01J37/12
CPC分类号： G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
摘要： 本发明涉及一种准直器电极堆叠(70)，其包括：至少三个准直器电极(71?80)，其用于准直沿着光轴(A)的带电粒子束(54)，其中每个准直器电极包括具有电极孔的电极主体，电极孔用于允许带电粒子束通过，其中电极主体沿着与光轴基本上平行的轴向方向(Z)间隔开，并且其中电极孔沿着所述光轴同轴地对准；以及多个间隔结构(89)，其被设置在每一对相邻准直器电极之间并且由电绝缘材料制成，多个间隔结构(89)用于沿着所述轴向方向以预定距离来定位准直器电极。准直器电极(71?80)中的每一个电连接至单独的电压输出端(151?160)。本发明还涉及一种操作带电粒子束产生器的方法。
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公开(公告)号：CN105874554A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201480071826.5
申请日：2014-12-22
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： H01J1/28 , H01J3/02 , H01J37/075 , H01J37/317
摘要： 本发明涉及一种阴极配置(20)，其包括：阴极本体，其容纳发射表面(32)，用以在纵向方向(Z)中发射电子，其中，该发射表面由发射周围(35)界定；聚焦电极(40)，其在横向方向中至少部分封闭该阴极本体，并且包括电子透射孔径(44)，用以聚焦由该发射表面所发射的电子，其中，该孔径由孔径周围(45)界定，其中，该阴极本体以可移动的方式在与对齐位置(R0)相隔最大横向距离(d1)处被布置在该聚焦电极内部，并且其中，该孔径周围横向延伸越过该发射表面并且超越该发射周围在一重叠距离(d2)，该重叠距离超过该最大横向距离。
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公开(公告)号：CN104795303A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201510083714.8
申请日：2010-05-19
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： H01J37/317 , B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70475 , G06T1/20 , G06T1/60 , H01J37/045 , H01J37/3002 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/3175 , H01J2237/31761 , H01J2237/31764 , H04N1/405
摘要： 本发明提出一种使用带电粒子光刻机器根据图案数据将晶片曝光的方法，其中该带电粒子光刻机器生成用于将所述晶片曝光的多个带电粒子小束，该方法包括：提供所述图案数据作为向量格式的剂量映射；栅格化所述图案数据，所述栅格化包括渲染向量剂量映射以生成多级灰度数据和将所述多级灰度图案数据递色以生成两级黑/白数据；将所述两级黑/白图案数据供应给所述带电粒子光刻机器；和基于所述两级黑/白数据将所述带电粒子光刻机器生成的小束接通或切断；其中所述方法包括对所述向量剂量映射和/或所述多级灰度数据和/或所述两级黑/白数据作出修正调整，以修正小束位置、尺寸、电流或其他特性的变化。
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公开(公告)号：CN104428866A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201380036057.0
申请日：2013-05-14
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： A.H.V.范维恩
IPC分类号： H01J37/09 , H01J37/30 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/09 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/147 , H01J37/3007 , H01J37/302 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/16 , H01J2237/182 , H01J2237/188
摘要： 本发明涉及一种带电粒子光刻系统。该系统具有子射束产生器，包括射束产生器，用于产生带电粒子射束；孔径阵列(6)，用于从该带电粒子射束形成多个子射束；以及子射束投射器，用于将该子射束投射在目标的表面上。带电粒子射束产生器包含带电粒子源(3)，用于产生发散的带电粒子射束；准直器系统(5a、5b、5c)，一个或多个泵(220)，高电压屏蔽配置(201)，用于屏蔽保护该高电压屏蔽配置外面的器件，避免受到高电压屏蔽配置内的高电压影响，以及冷却配置(203，204)，用于移除热量。一个或多个泵位于高电压屏蔽配置和冷却配置之间。
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公开(公告)号：CN102648509B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201080053362.7
申请日：2010-10-08
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： J·J·科宁 , S·W·H·斯藤布林克 , B·施普尔
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/12
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/12 , H01J2237/0435 , H01J2237/1205
摘要： 本发明涉及用于将大量带电粒子小射束引导至位于下游方向上的图像平面上的投射透镜组件模块和用于组装这种投射透镜组件的方法。具体地讲，本发明公开了结构集成度增强和/或最下游电极的安置精度增大的模块化投射透镜组件。
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公开(公告)号：CN104321701A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201380025372.3
申请日：2013-03-20
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/32 , H01J37/317 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , F15D1/025 , G03F7/70925 , G21K2201/06 , H01J9/38 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J37/32862 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/327 , Y10T137/2082 , Y10T137/87571
摘要： 本发明涉及用于运输自由基的装置。该装置包括等离子体发生器和导向体。等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室(2)。该室具有用于接收输入气体的进口(5)，和用于排除在室中产生的等离子体和自由基中的至少一者的一个或多个出口(6)。该导向体是中空的，且布置成朝向要除去的污染沉积物所在的区域或空间引导在等离子体中形成的自由基。该室进口连接到压力装置(40)，该压力装置用于向室中提供脉动的压力，以便在导向体中产生流。
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