接合材料用合金锭
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114101967B

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202110709413.7

    申请日:2021-06-25

    发明人: 关根重信

    摘要: 本发明提供一种接合材料用合金锭,其可成为即使相对于极高温或极低温环境的严酷的温度变动也具有优异的接合强度、且具有可耐受连续振动工作状态的柔软性特性、具有优异的机械强度的接合材料。通过下述接合材料用合金锭而解决了上述课题,所述接合材料用合金锭在含有Sn及Sn‑Cu合金的母相中具有包含Sn、Cu、Ni及Ge的金属间化合物结晶,所述金属间化合物结晶的组成为Cu5~50质量%、Ni6.5~0.1质量%、Ge0.001~0.1质量%,剩余部分为Sn,所述母相的组成为Sn95~99.9质量%、Cu5质量%以下及不可避免的杂质0.1质量%以下,所述接合材料用合金锭通过使所述母相中的Sn‑Cu合金和所述金属间化合物结晶的至少一部分内延接合而形成。

    金属粒子
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113385852A

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202011450968.6

    申请日:2020-12-10

    发明人: 关根重信

    IPC分类号: B23K35/26 C22C13/00

    摘要: 本发明提供即使是对于极高温至极低温环境的严苛的温度变动也能够维持无论在怎样的接合部界面均可抑制过剩的Sn扩散现象而克服金属间化合物的脆性的优异的接合强度及机械强度的金属粒子。通过一种金属粒子来解决上述课题,该金属粒子在包含Sn及Sn‑Cu合金的母相中具有包含Sn、Cu、Ni及Ge的金属间化合物晶体,上述金属粒子的组成为Cu:0.7~15质量%、Ni:0.1~5质量%、Ge:0.001~0.1质量%、剩余部分为Sn,上述母相的组成为Sn:95~99.9质量%、Cu:5质量%以下及不可避免的杂质:0.1质量%以下,在上述母相中包含并存在上述金属间化合物,粒径为1μm~50μm。

    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN108573935B

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN201810116107.0

    申请日:2018-02-06

    发明人: 关根重信

    摘要: 本发明涉及半导体装置及其制造方法。本发明提供提高接合线与密封树脂的密合性、防止两者间的剥离、并且第二接合中的接合线及引线端子间的接合强度得到改善的半导体装置。本发明的半导体装置(101)包含半导体芯片(2)、设置于半导体芯片(2)上的接合衬垫(211)、配置于半导体芯片(2)的周围的多个引线端子(50)、将半导体芯片(2)与多个引线端子(50)电连接的多个接合线(6)和将半导体芯片(2)及接合线(6)密封的密封树脂(11),在接合线(6)与密封树脂(11)的界面中夹有绝缘性材料,绝缘性材料含有nm尺寸的绝缘性微粒和非晶质二氧化硅。

    金属粒子
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112440028A

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN201911297848.4

    申请日:2019-12-17

    发明人: 关根重信

    摘要: 本发明提供比以往技术具有更高的耐热性、接合强度和机械强度、并且能够将热膨胀率不同的元件和部件彼此之间可靠性良好地接合的金属粒子。本发明通过下述的金属粒子而解决了上述课题,所述金属粒子的特征在于,在含有Sn和Sn‑Cu合金的母相(140)中具有由Sn、Cu和Ni形成的金属间化合物(120),其中,所述母相和所述金属间化合物的至少一部分进行了内延接合。

    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN108573935A

    公开(公告)日:2018-09-25

    申请号:CN201810116107.0

    申请日:2018-02-06

    发明人: 关根重信

    摘要: 本发明涉及半导体装置及其制造方法。本发明提供提高接合线与密封树脂的密合性、防止两者间的剥离、并且第二接合中的接合线及引线端子间的接合强度得到改善的半导体装置。本发明的半导体装置(101)包含半导体芯片(2)、设置于半导体芯片(2)上的接合衬垫(211)、配置于半导体芯片(2)的周围的多个引线端子(50)、将半导体芯片(2)与多个引线端子(50)电连接的多个接合线(6)和将半导体芯片(2)及接合线(6)密封的密封树脂(11),在接合线(6)与密封树脂(11)的界面中夹有绝缘性材料,绝缘性材料含有nm尺寸的绝缘性微粒和非晶质二氧化硅。

    多层预成型片材
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107579053A

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201611051779.5

    申请日:2016-11-25

    IPC分类号: H01L23/492

    摘要: 本发明提供能够形成不易产生柯肯达尔孔洞、耐热性优良的高可靠性和高品质的电气配线、导电性接合部等的多层预成型片材。所述多层预成型片材至少具有第1层和第2层,其中,所述第1层是含有金属间化合物的焊料材料,所述第2层含有:熔点为300℃以上的第1金属;和能够与所述第1金属形成金属间化合物的第2金属。