一种具有应力缓冲结构的MEMS芯片及其制造方法

    公开(公告)号:CN108751119A

    公开(公告)日:2018-11-06

    申请号:CN201810966348.4

    申请日:2018-08-23

    发明人: 华亚平

    IPC分类号: B81B7/00 B81C1/00

    CPC分类号: B81B7/0045 B81C1/00325

    摘要: 本发明公开了一种具有应力缓冲结构的MEMS芯片及其制造方法,具体是通过半导体加工工艺将圆片级封装的MEMS圆片的底板SOI圆片的底氧化层形成底氧化层图形,露出部分底硅层表面;然后以底氧化层图形为掩膜,对MEMS圆片进行深硅蚀刻,露出埋氧层表面,底硅层被蚀刻成应力缓冲结构,形成划片区、外框、应力缓冲弹簧、空窗区、连接区以及释放孔;再将MEMS圆片浸入HF或缓冲HF溶液中,形成中心埋氧图形,形成具有应力缓冲结构的MEMS圆片;最后切割圆片完成具有应力缓冲结构的MEMS芯片的制造。本发明制造的具有应力缓冲结构的MEMS芯片的应力缓冲结构通过中心埋氧连接在MEMS芯片的底部,达到降低封装应力的目的,其优点在于工艺简单、芯片面积小、封装成品率高、成本低。