半导体结构的形成方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105448642A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201410437369.9

    申请日:2014-08-29

    发明人: 张先明 丁敬秀

    IPC分类号: H01L21/00 B81C3/00

    CPC分类号: B81C1/00182 H01L41/113

    摘要: 一种半导体结构的形成方法,包括:提供衬底,所述衬底具有器件区;在所述衬底的器件区表面形成牺牲层;在所述牺牲层表面形成器件层,所述器件层内具有若干暴露出所述牺牲层的开口;在形成所述器件层和开口之后,去除所述牺牲层;在去除所述牺牲层之后,对所述衬底的器件区表面进行刻蚀,在所述衬底内形成空腔。所形成的半导体结构形貌改善、性能提高,形成所述半导体结构的时间减少、工艺简化。

    MEMS器件和制造MEMS器件的方法

    公开(公告)号:CN105384141A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201510553886.7

    申请日:2015-09-02

    IPC分类号: B81B7/02 B81C1/00

    CPC分类号: B81C1/00182 B81C2201/019

    摘要: 本发明涉及MEMS器件和制造MEMS器件的方法。一种用于制造MEMS器件的方法包括形成半导体层堆叠,该半导体层堆叠至少包括第一单晶半导体层、第二单晶半导体层和第三单晶半导体层,该第二单晶半导体层在第一和第三单晶半导体层之间形成。第二单晶半导体层的半导体材料与第一和第三单晶半导体层的半导体材料不同。在形成半导体层堆叠之后,第一和第三单晶半导体层中的每个的至少部分同时被刻蚀。

    面外电磁式半球形微陀螺仪及其制备方法

    公开(公告)号:CN105004334A

    公开(公告)日:2015-10-28

    申请号:CN201510290056.X

    申请日:2015-05-29

    摘要: 本发明提供了一种面外电磁式半球形微陀螺仪及其制备方法,包括:设有半球形凹槽的单晶硅基底、微型半球形谐振子、中心固定支撑柱、均匀分布式平面线圈、均匀分布式永磁体、凹形支架,本发明采用面外驱动和检测方法,可实现面外力与面内位移之间的相互转换,便于检测垂直于基底方向的科氏效应;本发明采用电磁式驱动和检测方法,无需制作静电式所需的微小电容间隙,同时可避免寄生电容、静电吸附等问题;本发明采用平面线圈和永磁体的方式进行电磁驱动和电磁检测,便于制作和实现;本发明体积小,成本低,工艺简单,可实现批量化生产。