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    具有优化的调节可能性的投射曝光设备
    2.
    发明公开
    具有优化的调节可能性的投射曝光设备 有权

    公开(公告)号：CN102165371A

    公开(公告)日：2011-08-24

    申请号：CN200980137566.6

    申请日：2009-09-18

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： 博里斯·比特纳 ,  霍尔格·沃尔特 ,  马赛厄斯·罗施

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70525 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70891

    摘要： 本发明提供一种用于成像物场的、用于微光刻的投射设备，包括物镜、用于操纵所述物镜的至少一个或多个光学元件的至少一个或多个操纵器、用于控制所述至少一个或多个操纵器的控制单元、用于确定所述物镜的至少一个像差的确定装置、以及存储器，保存用于所述物镜的一个或多个规范的上限，包括用于所述至少一个像差的上限和/或用于所述至少一个或多个操纵器的移动的上限，其中，当确定所述上限之一被所述像差之一突破以及/或者所述上限之一被所述操纵器移动之一突破时，可以通过控制所述至少一个或多个操纵器，在至多30000ms、或10000ms、或5000ms、或1000ms、或200ms、或20ms、或5ms、或1ms内，可实现使所述上限不被突破。

    信息管理和跟踪系统(IMTS)
    3.
    发明公开
    信息管理和跟踪系统(IMTS) 无效 转让

    公开(公告)号：CN1922548A

    公开(公告)日：2007-02-28

    申请号：CN200580005557.3

    申请日：2005-03-24

    申请人： 凯文迪什动力学有限公司

    发明人： 迪尔克·赖因哈德·奥特洛夫

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G05B19/418

    CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70541 ,  Y02P90/265

    摘要： 一种信息管理和跟踪系统，用于管理和跟踪与工艺开发相关的制品数据，制品数据包括与开发实验参数、结果和产品相关的数据。本系统包括数据管理部件和用于保留与工艺设计相关的数据的工艺设计环境。开发跟踪环境保留包括制品的与工艺开发相关的数据。后备注释环境接收工艺数据并将其提供到开发跟踪环境。配置数据管理部件以控制工艺设计环境、开发跟踪环境和后备注释环境，使得在使用中，能够以链接的方式访问从其中接收的和存储在其中的数据，使得在使用中，用户能够从每个环境获得数据并观察其间的链接。

    单元控制系统
    6.
    发明公开
    单元控制系统 审中-实审

    公开(公告)号：CN107765653A

    公开(公告)日：2018-03-06

    申请号：CN201710718003.2

    申请日：2017-08-21

    申请人： 发那科株式会社

    发明人： 齐藤学

    IPC分类号： G05B19/418

    CPC分类号： H01M8/04082 ,  G03F7/70533 ,  G05B19/0426 ,  G05B19/40937 ,  G05B19/4184 ,  G05B19/41865 ,  G05B2219/31347 ,  G05B2219/32371 ,  H01M8/043 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/26

    摘要： 本发明提供一种单元控制系统。利用制造单元的运转计划使制造单元内的异常产生概率降低的单元控制系统具备向制造单元所具备的制造机械发送运转指示的单元控制器。所述单元控制器具备：机械运转指示部，其基于运转日程向所述的各制造机械发送运转指示；运转信息收集部，其收集所述制造机械的运转信息；警报概率推定部，其推定所述制造机械中的警报产生概率；日程候补生成部，其生成将运转日程中的动作要素的顺序或开始时间变更而成的至少1个运转日程候补；最佳候补选择部，其从所述运转日程和所述运转日程候补中将考虑了警报产生的所需时间最短的一个作为选择运转日程来采用。

    具有优化的调节可能性的投射曝光设备
    7.
    发明授权
    具有优化的调节可能性的投射曝光设备 有权

    公开(公告)号：CN102165371B

    公开(公告)日：2014-04-16

    申请号：CN200980137566.6

    申请日：2009-09-18

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： 博里斯·比特纳 ,  霍尔格·沃尔特 ,  马赛厄斯·罗施

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70525 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70891

    摘要： 本发明提供一种用于成像物场的、用于微光刻的投射设备，包括物镜、用于操纵所述物镜的至少一个或多个光学元件的至少一个或多个操纵器、用于控制所述至少一个或多个操纵器的控制单元、用于确定所述物镜的至少一个像差的确定装置、以及存储器，保存用于所述物镜的一个或多个规范的上限，包括用于所述至少一个像差的上限和/或用于所述至少一个或多个操纵器的移动的上限，其中，当确定所述上限之一被所述像差之一突破以及/或者所述上限之一被所述操纵器移动之一突破时，可以通过控制所述至少一个或多个操纵器，在至多30000ms、或10000ms、或5000ms、或1000ms、或200ms、或20ms、或5ms、或1ms内，可实现使所述上限不被突破。

    基板处理系统以及基板处理方法
    9.
    发明授权
    基板处理系统以及基板处理方法 有权

    公开(公告)号：CN100474121C

    公开(公告)日：2009-04-01

    申请号：CN200610094574.5

    申请日：2006-06-21

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 金子知广 ,  宫田亮

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/00

    CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70533 ,  H01L21/67155 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67276

    摘要： 提供一种能够抑制成本和体积的增加、抑制成品率和生产能力的降低的基板处理系统以及基板处理方法。在具有对多个基板进行单片式处理的第1装置(50)和第2装置(60)，在进行了以所述第1装置(50)进行的第1处理工序后进行以所述第2装置(60)进行的第2处理工序，在所述第2处理工序后，进行以所述第1装置(50)进行的第3处理工序的基板处理系统(100)中，作为基板输送的控制机构，所述第1装置具有第1控制机构(30)，并且所述第2装置具有第2控制机构(40)，所述第1控制机构(30)或第2控制机构(40)通过通信取得与另一方装置中的处理时间相关的信息，依据取得的信息对第1装置(50)与第2装置(60)之间的基板输送进行控制。