公开(公告)号：EP3118347A1

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：EP15761219.3

申请日：2015-03-03

申请人： ULVAC, Inc.

发明人： KOBAYASHI Hiroki ,  HENMI Mitsunori ,  HIROSE Mitsutaka ,  TSUKAGOSHI Kazuya ,  KIMURA Isao ,  SUU Koukou

IPC分类号： C23C14/08 ,  C23C14/06 ,  H01L21/316 ,  H01L41/187 ,  H01L41/316 ,  H01L41/319

CPC分类号： H01L41/319 ,  C23C14/083 ,  C23C14/088 ,  C23C14/185 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  H01L21/02197 ,  H01L21/02266 ,  H01L41/1876 ,  H01L41/316

摘要： A method of manufacturing a multi-layered film of the invention includes: forming an electroconductive layer (3) on a substrate (2, 31); forming a seed layer (4) including an oxidative product having a perovskite structure so as to coat the electroconductive layer (3) by a sputtering method; and forming a dielectric layer (5) so as to coat the seed layer (4).

摘要翻译： 本发明的多层膜的制造方法包括：在基板（2,31）上形成导电层（3）。 形成包含具有钙钛矿结构的氧化产物的种子层（4），以通过溅射法涂覆导电层（3）; 以及形成介电层（5）以覆盖种子层（4）。

公开(公告)号：EP2626892A4

公开(公告)日：2017-01-04

申请号：EP11830638

申请日：2011-10-03

申请人： ULVAC INC

发明人： KIMURA ISAO ,  JINBO TAKEHITO ,  KOBAYASHI HIROKI ,  ENDOU YOUHEI ,  OONISHI YOUHEI

IPC分类号： H01L21/316 ,  C01G21/06 ,  C01G25/00 ,  C23C14/02 ,  C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  H01J37/34 ,  H01L41/316

CPC分类号： C23C14/088 ,  C01G21/06 ,  C01G25/006 ,  C01P2002/72 ,  C01P2006/40 ,  C23C14/024 ,  C23C14/35 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/3464 ,  H01L41/316

摘要： A method for forming a dielectric thin film that forms a PZT thin film having a (100) / (001) orientation. After a seed layer is formed by adhering PbO gas to a surface of a substrate, a voltage is applied to a target of lead zirconate titanate (PZT) and perform sputtering, while the substrate is heated inside of an evacuated vacuum chamber. Then, a PZT thin film is formed on the surface of the substrate. Because Pb and O are supplied from the seed layer, a PZT film having a (001) / (100) orientation can be formed without lack of Pb.

摘要翻译： 一种形成具有（100）/（001）取向的PZT薄膜的电介质薄膜的方法。 在通过将PbO气体附着到基板的表面上形成种子层之后，在真空室内部对基板进行加热的同时，向锆钛酸铅（PZT）的靶施加电压并进行溅射。 然后，在基板的表面上形成PZT薄膜。 由于Pb和O从种子层提供，所以可以形成具有（001）/（100）取向的PZT膜，而不含Pb。

公开(公告)号：EP3103894A1

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：EP15768058.8

申请日：2015-03-10

申请人： JX Nippon Mining & Metals Corporation

发明人： SATOH Kazuyuki

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  H01M4/131 ,  H01M4/525

CPC分类号： H01J37/3426 ,  B28B3/003 ,  C01G51/04 ,  C01P2002/70 ,  C01P2006/42 ,  C04B35/01 ,  C04B35/62685 ,  C04B35/645 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/3275 ,  C04B2235/44 ,  C04B2235/442 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/6585 ,  C04B2235/662 ,  C04B2235/663 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/81 ,  C23C14/08 ,  C23C14/083 ,  C23C14/3414 ,  H01M4/0426 ,  H01M4/131 ,  H01M4/525 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/0562 ,  Y02E60/122 ,  Y02P70/54

摘要： A sputtering target having a composition of LiCoO 2 , wherein a resistivity of the target is 100 Ωcm or less, and a relative density is 80% or higher. The sputtering target of the present invention is effective for use in forming a positive electrode thin film in all-solid-state thin-film lithium ion secondary batteries equipped in vehicles, information and communication electronics, household appliances, and the like.

摘要翻译： 具有LiCoO 2组成的溅射靶，其中靶的电阻率为100Ωcm以下，相对密度为80％以上。 本发明的溅射靶对于在车辆，信息通信电子设备，家用电器等中配备的全固态薄膜锂离子二次电池中形成正极薄膜是有效的。

公开(公告)号：EP2886678B1

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：EP14199052.3

申请日：2014-12-18

申请人： EDISON S.p.A.

发明人： Bindi, Massimiliano

IPC分类号： C23C14/54 ,  C23C14/30 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58 ,  H01M8/1213 ,  H01M8/1246 ,  H01M4/88 ,  H01M4/90 ,  H01M8/124

CPC分类号： C23C14/545 ,  C23C14/083 ,  C23C14/088 ,  C23C14/30 ,  C23C14/5806 ,  C23C14/5853 ,  H01M4/8867 ,  H01M4/8882 ,  H01M4/8885 ,  H01M4/9033 ,  H01M8/1213 ,  H01M8/1246 ,  H01M2008/1293 ,  Y02E60/525 ,  Y02P70/56

公开(公告)号：EP2518761B1

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：EP12165705.0

申请日：2012-04-26

申请人： Nitto Denko Corporation

发明人： Nashiki, Tomotake ,  Sugawara, Hideo ,  Noguchi, Tomonori ,  Hamada, Akira ,  Ito, Yoshihisa ,  Ishibashi, Kuniaki

IPC分类号： H01L21/67 ,  C23C14/08 ,  C23C14/56 ,  C23C28/00

CPC分类号： C23C14/568 ,  C23C14/086 ,  C23C14/562 ,  C23C28/32 ,  C23C28/321 ,  C23C28/345 ,  H01L21/67132 ,  H01L21/67173 ,  Y10T428/31678

公开(公告)号：EP2334443B1

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：EP09784258.7

申请日：2009-07-09

申请人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives

发明人： DUCROS, Cédric ,  GAVILLET, Jérôme

IPC分类号： B05D7/14 ,  B82Y30/00 ,  C10M103/00 ,  C23C14/08 ,  C23C28/04 ,  C23C16/56 ,  C23C28/00 ,  C23C14/28 ,  B05D5/08 ,  B82Y40/00

CPC分类号： C23C28/00 ,  B05D5/08 ,  B05D7/14 ,  B05D2350/63 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C10M103/00 ,  C10M2201/061 ,  C10M2201/062 ,  C10M2201/066 ,  C10M2201/10 ,  C10M2201/102 ,  C10M2227/04 ,  C10N2220/082 ,  C10N2230/06 ,  C10N2250/141 ,  C23C14/08 ,  C23C14/28 ,  C23C28/044 ,  C23C28/046 ,  Y10T156/10

公开(公告)号：EP2628818B1

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：EP13154482.7

申请日：2013-02-07

申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. ,  W. Blösch AG

发明人： Vergöhl, MIchael ,  Rademacher, Daniel ,  Werner, Oliver ,  Bruns, Stefan ,  Neubert, Thomas ,  Weiss, Peter

IPC分类号： C23C14/08 ,  C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  G02B1/115

CPC分类号： C23C14/08 ,  C03C17/3417 ,  C03C2217/734 ,  C23C14/081 ,  C23C14/083 ,  C23C14/088 ,  C23C14/352 ,  C23C14/541 ,  G02B1/115

公开(公告)号：EP3058400A1

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：EP14790545.9

申请日：2014-10-16

申请人： Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung E.V.

发明人： VERGÖHL, Michael ,  RADEMACHER, Daniel ,  ZICKENROTT, Tobias

IPC分类号： G02B5/20 ,  C23C14/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  H01J37/34

CPC分类号： H01J37/3405 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/0094 ,  C23C14/08 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/14 ,  C23C14/35 ,  G02B5/285 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/347 ,  H01J2237/332

摘要： The invention relates to the deposition of optical precision layers on the substrate in a highly uniform, precise, and particle-free manner with a low absorption. For this purpose, a method and a device are proposed. According to the invention, target materials and if necessary surfaces in the sputter region are used. A particularly high uniformity as well as a particularly low residual absorption are achieved using said materials. The invention is suitable for producing optical thin layer filters such as those which are used in laser material machining, laser components, optical sensors for measuring equipment, or in medical diagnostics for example.

公开(公告)号：EP3057914A1

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：EP14796231.0

申请日：2014-10-14

申请人： Saint-Gobain Glass France

发明人： CANOVA, Lorenzo ,  LAMINE, Driss ,  NADAUD, Nicolas ,  ROY, Sébastien ,  WANAKULE, Nisita

IPC分类号： C03C17/34 ,  C03C17/36 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58

CPC分类号： C03C17/3668 ,  C03C17/3423 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/3441 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3689 ,  C03C2217/948 ,  C03C2218/156 ,  C03C2218/32 ,  C23C14/0635 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/086 ,  C23C14/185 ,  C23C14/35 ,  C23C14/5813

摘要： The invention relates to a method for producing a material including a glass or glass ceramic film coated, on at least part of at least one of the surfaces thereof, with a thin film stack not including a silver film and including at least one electrically conductive transparent oxide thin film. Said method includes: - a step of depositing said stack, wherein said electrically conductive transparent oxide thin film and at least one thin homogenization film are deposited, said thin homogenization film being a film made of metal, a metal carbide, or a metal nitride other than aluminum nitride; then - a heat treatment step, wherein said stack is subjected to radiation.

摘要翻译： 一种用于获得包括由玻璃或玻璃陶瓷涂覆在其表面上具有薄的层包含无银层的堆叠中的至少一个的至少一部分的基板中的项目，并且包括一个透明的至少一个薄层电过程 导电性氧化物，包括程序：沉积堆栈，其中步骤透明导电氧化物和至少一个薄均匀化层的薄层的工序沉积，薄均质层是金属层或层基于一个 金属氮化物比氮化铝，或基于金属碳化物层等; 然后热处理步骤，其中将叠层暴露于辐射。

公开(公告)号：EP2371989B1

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：EP11160306.4

申请日：2011-03-29

申请人： First Solar Malaysia SDN.BHD

发明人： Feldman-Peaboy, Scott Daniel ,  Drayton, Jennifer Ann ,  Gossman, Robert Dwayne ,  Sadeghi, Mehran

IPC分类号： C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  C23C14/58 ,  H01L31/18

CPC分类号： C23C14/086 ,  C23C14/34 ,  C23C14/5806 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02472 ,  H01L21/02483 ,  H01L21/02491 ,  H01L21/02502 ,  H01L21/02557 ,  H01L21/02631 ,  H01L31/073 ,  H01L31/1836 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/543 ,  Y02P70/521