公开(公告)号：JP3694419B2

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：JP10000199

申请日：1999-04-07

Applicant: ファイザー・プロダクツ・インク

Inventor： ジョエル・マイケル・ホーキンス

IPC: B01J31/02 ,  C07B61/00 ,  C07C303/02 ,  C07C303/04 ,  C07C303/12 ,  C07C303/28 ,  C07C303/32 ,  C07C309/42 ,  C07C309/75 ,  C07C309/87

CPC classification number: C07C303/32 ,  C07C303/02 ,  C07C303/28 ,  C07C309/42 ,  C07C309/75

公开(公告)号：JP2004059594A

公开(公告)日：2004-02-26

申请号：JP2003279190

申请日：2003-07-24

Applicant: Clariant Gmbh ,  クラリアント・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング

Inventor： REINHARDT GERD DR ,  NAUMANN PETER ,  LERCH ALEXANDER DR ,  MUELLER WOLF-DIETER ,  SADANANI NARAYAN D

IPC: C07C303/32 ,  C07C69/00 ,  C07C303/22 ,  C07C309/41 ,  C07C309/42 ,  C11C3/00

CPC classification number: C07C303/32 ,  C07C303/22 ,  C07C309/42

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for industrially and continuously producing acyloxybenzenesulfonate.
SOLUTION: The method for producing acyloxybenzenesulfonate comprises reacting phenolsulfonate anhydride with a carboxylic acid derivative, wherein the reaction is performed, under a condition of

公开(公告)号：JPS59130849A

公开(公告)日：1984-07-27

申请号：JP24235683

申请日：1983-12-23

Applicant: Bayer Ag

Inventor： KURUTO HARUKOURU ,  PEETAA-MIHIYAERU RANGE ,  RUDORUFU BAAGUNAA

IPC: C01B17/69 ,  C07B31/00 ,  C07B45/02 ,  C07C67/00 ,  C07C233/90 ,  C07C233/92 ,  C07C301/00 ,  C07C303/00 ,  C07C303/06 ,  C07C307/02 ,  C07D207/40 ,  C07D207/404 ,  C07D207/44 ,  C07D207/448 ,  C07D209/48 ,  C08F20/00 ,  C08F20/52

CPC classification number: C07D207/404 ,  C07C303/24 ,  C07C303/32 ,  C07D207/448 ,  C07D209/48 ,  C07C309/35 ,  C07C309/32 ,  C07C309/30 ,  C07C309/42 ,  C07C305/06

公开(公告)号：JP6248882B2

公开(公告)日：2017-12-20

申请号：JP2014195029

申请日：2014-09-25

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 土門 大将 ,  渡邉 聡 ,  増永 恵一 ,  福島 将大

IPC: C07C309/42 ,  C07C381/12 ,  C07D327/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C309/73

CPC classification number: C07C305/24 ,  C07C309/42 ,  C07C309/73 ,  C07C381/12 ,  C07D279/20 ,  C07D327/08 ,  C07D333/76 ,  C07D335/12 ,  C07D335/16 ,  C07D339/08 ,  C07D493/08 ,  G03F1/76 ,  G03F1/78 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  C07C2101/08 ,  C07C2101/14 ,  C07C2101/20 ,  C07C2103/74 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/20 ,  C07C2603/74

公开(公告)号：JP6090585B2

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：JP2013261348

申请日：2013-12-18

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 土門 大将 ,  増永 恵一 ,  提箸 正義 ,  渡邉 聡

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C07D307/93

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/04 ,  C07C309/07 ,  C07C309/29 ,  C07C309/30 ,  C07C309/31 ,  C07C309/35 ,  C07C309/42 ,  C07C309/43 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F1/08

公开(公告)号：JP5941280B2

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：JP2011287304

申请日：2011-12-28

Applicant: ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

Inventor： ジェームズ・ダブリュー.サッカレー ,  スザンヌ・エム.コーリー ,  ビップル・ジェイン ,  オーウェンディ・オンゲイ ,  ジェームズ・エフ.キャメロン ,  ポール・ジェイ.ラボーメ ,  アーマド・イー.マッドクル

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C09K3/00 ,  C07C309/12 ,  C07C309/49 ,  C07C25/18 ,  C07C381/12 ,  C08F20/26

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/12 ,  C07C309/42 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

公开(公告)号：JP5852469B2

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：JP2012040357

申请日：2012-02-27

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 加藤 峻也 ,  吉川 将

IPC: C07C65/21 ,  C07C309/42 ,  C07C69/86 ,  C07C275/10 ,  C07C69/65 ,  C09K19/38 ,  C09K19/54 ,  C09K19/56 ,  C08L33/08 ,  C08K5/136 ,  C08K5/107 ,  C09K19/42

CPC classification number: C09K19/56 ,  C07C275/10 ,  C07C309/42 ,  C07C65/21 ,  C07C69/63 ,  C07C69/86 ,  C08K5/107 ,  C08K5/11 ,  C09K19/062 ,  C09K19/063 ,  C09K19/2014 ,  C09K19/22 ,  C09K19/24 ,  C09K19/32 ,  C09K19/3405 ,  C09K19/3444 ,  C09K19/3455 ,  C09K19/3477 ,  C09K19/3491 ,  C09K19/36 ,  C09K2019/044 ,  C09K2019/0448 ,  C09K2019/181 ,  C09K2019/2078 ,  C09K2019/3422 ,  C09K2219/03

公开(公告)号：JP2015117200A

公开(公告)日：2015-06-25

申请号：JP2013261348

申请日：2013-12-18

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 土門 大将 ,  増永 恵一 ,  提箸 正義 ,  渡邉 聡

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C07D307/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/04 ,  C07C309/07 ,  C07C309/29 ,  C07C309/30 ,  C07C309/31 ,  C07C309/35 ,  C07C309/42 ,  C07C309/43 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F1/08

Abstract: 【解決手段】一般式(1)で表されるスルホニウム塩。 (A 1 はヘテロ原子で置換されていてもよく、ヘテロ原子が介在してもよい2価炭化水素基、A 2 は2価炭化水素基、A 3 は水素原子、又はヘテロ原子で置換されていてもよく、ヘテロ原子が介在してもよい1価炭化水素基、B 1 はエーテル性酸素原子を含んでもよいアルキレン基又はアリーレン基、kは0又は1。R 1 、R 2 及びR 3 はアルキル基、アルケニル基、オキソアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアリールオキソアルキル基。) 【効果】本発明のスルホニウム塩を光酸発生剤として導入したレジスト組成物は、微細加工技術、特に電子線、EUVリソグラフィー技術において、極めて高い解像性を有し、LERの小さいパターンを与えることができる。 【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种锍盐和具有作为光酸产生剂引入的锍盐的抗蚀剂组合物，其可以在微处理技术中产生具有极高分辨率和小LER（线边缘粗糙度）的图案，特别是电子束 和EUV光刻技术。解决方案：锍盐由通式（1）表示。 式（1）中，表示可以被杂原子取代的二价烃基，也可以含有杂原子; 表示二价烃基; 表示氢原子或可以被杂原子取代的单价烃基或可以包括杂原子; B表示可以包括醚型氧原子的亚烷基或亚芳基; k表示0或1; R，R和R表示烷基，烯基，氧代烷基，芳基，芳烷基或芳氧基烷基。

公开(公告)号：JP5570212B2

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：JP2009509993

申请日：2007-04-30

Applicant: アラーガン インコーポレイテッドAllergan,Incorporated

Inventor： ヤリヴ ドンド ,  ジェレミア エイチ ニュイエン

IPC: C07C59/56 ,  A61K31/5575 ,  A61P27/06 ,  A61P43/00 ,  C07C69/732

CPC classification number: C07C69/732 ,  C07B2200/07 ,  C07C57/54 ,  C07C57/62 ,  C07C57/68 ,  C07C59/56 ,  C07C59/72 ,  C07C65/19 ,  C07C65/26 ,  C07C205/56 ,  C07C255/57 ,  C07C309/10 ,  C07C309/42 ,  C07C323/17 ,  C07C323/52 ,  C07C323/56 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/08 ,  C07C2602/08 ,  C07D277/24 ,  C07D277/56 ,  C07D307/68 ,  C07D333/16 ,  C07D333/38 ,  C07D333/40 ,  C07D335/06 ,  C07D405/10 ,  C07D409/10 ,  C07F9/3834 ,  C07F9/3882 ,  C07F9/65515

公开(公告)号：JP2013173881A

公开(公告)日：2013-09-05

申请号：JP2012040357

申请日：2012-02-27

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： KATO SHUNYA ,  YOSHIKAWA SUSUMU

IPC: C09K19/42 ,  C07C65/21 ,  C07C69/65 ,  C07C69/86 ,  C07C275/10 ,  C07C309/42 ,  C08K5/107 ,  C08K5/136 ,  C08L33/08 ,  C09K19/38 ,  C09K19/54 ,  C09K19/56

CPC classification number: C09K19/56 ,  C07C65/21 ,  C07C69/63 ,  C07C69/86 ,  C07C275/10 ,  C07C309/42 ,  C08K5/107 ,  C08K5/11 ,  C09K19/062 ,  C09K19/063 ,  C09K19/2014 ,  C09K19/22 ,  C09K19/24 ,  C09K19/32 ,  C09K19/3405 ,  C09K19/3444 ,  C09K19/3455 ,  C09K19/3477 ,  C09K19/3491 ,  C09K19/36 ,  C09K2019/044 ,  C09K2019/0448 ,  C09K2019/181 ,  C09K2019/2078 ,  C09K2019/3422 ,  C09K2219/03

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystalline composition having a low haze when formed into a film, and capable of reducing the cissing in a film laminate.SOLUTION: A liquid crystalline composition contains a liquid crystalline molecule, a compound represented by formula (1) and a compound represented by formula (2). [In formulas (1) and (2), Lto L, Land Lare each a single bond, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -COS-, -SCO-, -NRCO- or -CONR- (R is H or 1-6C alkyl); Spand Spare each a single bond or 1-10C alkylene; Sp is a single bond or 1-10C alkylene; Aand Aare each divalent aromatic hydrocarbon or heterocycle; Xis a substituent by which a logP value of Ph-Xbecomes ≤2.5; T is a linking group; Hbis 2-30C fluoroalkyl; Hb is 3-30C fluorinated alkyl; p is an integer of ≥0; o is an integer of 1-4; v is 2 or 3; the structures present in v parentheses may be the same to or different from each other].

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种当形成膜时具有低雾度的液晶组合物，并且能够减少薄膜层压体中的裂纹。溶液：液晶组合物含有液晶分子，由式（ 1）和式（2）表示的化合物。 [式（1）和（2）中，L〜L，L均为单键，-O - ， - S - ， - CO-，-COO-， - OCO-，-COS-，-SCO-， NRCO-或-CONR-（R为H或1-6C烷基）; Spand每个单键或1-10C亚烷基; Sp是单键或1-10C亚烷基; Aand Aare每个二价芳族烃或杂环; X是取代基，通过该取代基，Ph-Xeomes的logP值≤2.5; T是连接组; Hbis 2-30C氟烷基; Hb为3-30C氟化烷基; p是≥0的整数; o是1-4的整数; v为2或3; 存在于v括号中的结构可以彼此相同或不同]。